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1、氧化铝抛光粉（VK-L30F ）在蓝宝石衬底抛光中的应用目前,在蓝宝石的CMP工艺中，常用的磨料主要包括金刚石、 二氧化硅溶胶、氧化铀和氧化铝等磨料。实验数据说明，a-氧化铝抛光粉（VK-L30F , 0.3um,球型） 在蓝宝石抛光过程中的优势逐渐明显。金刚石只用于传统的机械抛光,其硬度（莫氏10 ）比蓝宝 石（莫氏9 ）硬度高，容易产生划伤，蓝宝石外表损伤度高，良 率低。氧化铝（VK-L30F ）的硬度与蓝宝石相当，颗粒球型，抛 光速率高，良率高,是比拟理想的抛光材料。而SiO2硬度（莫 氏硬度7.5 ）比蓝宝石低，抛光速率比氧化铝抛光粉慢很多，抛 光比拟耗时。在抛光C-平面蓝宝石衬底时,
2、a-氧化铝抛光粉（VK-L30F , 0.3um ）制成的研磨液的抛光性能（去除速率和外表质量等）优 于其他磨料,具体表现如下：1 ,形成的水化层增加，抛光过程中，在蓝宝石基底上持续 形成水化层,它比基底层软，该层的形成有利于材料的去除，并 产生高质量外表。2 ,外表质量改善，a-氧化铝与基底蓝宝石的硬度一样，因此，磨料划伤蓝宝石的可能性很小。3 ,去除速率增加，a-氧化铝磨料经历了与基底蓝宝石一样的外表水化，在基底宝石与磨料水化层之间的化学机械作用加速 了材料去除,当磨料和基底蓝宝石的外表在抛光压力下靠在一起 并剪切时，就相互粘附，进一步的剪切就会使粒子撕开键合的水 化层，通过粒子的前边沿促
3、进材料去除。外表粗糙度能小于 0.2nm.4,氧化铝抛光液在循环过程中稳定性更好，二氧化硅抛光 液在使用过程中温度严格控制，以防止结块，但氧化铝研磨液就 比拟稳定，也显示了很好的洁净度。实验1 :采用氧化铝抛光粉对蓝宝石衬底进行抛光，抛光液 的pH为10时抛光效果好，外表粗糙度RMS可达0.2nmo抛 光压力在0.12Mpa至0.15Mpa ,抛光液浓度为10%时较佳。 浓度越高，抛光速率越快。目前很多蓝宝石加工厂正在评估并使用基于氧化铝研磨液 用于更大直径晶圆抛光。宣城晶瑞新材料专业生产高纯纳米二氧化钛系列粉体、 3Y氧化锌、5Y氧化锌、8Y氧化管、超活性纳米二氧化钛光触 媒，纳米二氧化钛液体，纳米二氧化措，高透氧化错，5N高纯 氧化铝，5N氧化铝、纳米三氧化二铝，纳米二氧化钛银抗菌剂, 纳米载银抗菌粉，纳米二氧化硅，纳米氧化锌，纳米氧化铝，纳 米氧化镁，纳米氧化铀，纳米助剂，纳米涂层材料，光触媒，纳 米三防整理剂，纳米防水防油防污剂等系列粉体、液体、制剂产 品。联系 ：杨经理