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1、脉冲激光沉积脉冲激光沉积 PLDPLD简单来讲，脉冲激光沉积 PLD(PulsedLaserDeposition)确实是根基脉冲激光光束聚焦再固体靶面上，激光超强的功率使得靶物质快速等离子化，然后溅镀到目标物上。脉冲激光沉积的优点有：1.由于激光光子能量特不高，可溅射制备许多困难的镀层：如高温超导薄膜，陶瓷氧化物薄膜，多层金属薄膜等；PLD 能够用来合成纳米管，纳米粉末等2.PLD 能够特别轻易的连续融化多个材料，实现多层膜制备3.PLD 能够通过操纵激光能量和脉冲数，周密的操纵膜厚。脉冲激光沉积对激光器的要求有：1.尽可能防止热效应：激光波长越短，越轻易实现“冷加工因此 193nm,248n
2、m 的准分子激光器和 266nm,355nm 的高次谐波 ND:YAG 固态激光器为客户所常用2.大能量，短脉冲制造超过靶材的阈值的功率密度3.比立高的重复频率，提升溅射速度。4.激光器使用简单，寿命长，易于维护这一点 Nd:YAG 固态激光器要好于准分子激光器先锋公司相关产品先锋公司相关产品激光光源局部：法国 Quantel 公司的脉冲 Nd:YAG 激光器，(链接链接)推举型号：1.BrillantB 系列：即插即用型 3 倍频355nm，4 倍频266nm结构；用户使用方便，也是商用PLD 系统 OEM 厂家的选择。2.YG980 系列：高能量输出，工作稳定，维护方便。是科研用 PLD 系统的首选。测试系统局部：1.等离子体光谱测试系统：英国 Andor 公司，2.真空腔剩余气体分析仪：美国 SRS 公司 RGA200 等3.红外热像仪：美国 Electrophysics 公司 PV320 等