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1、全球CVD设备行业市场发展现状及竞争格局分析一、CVD综述薄膜沉积技术可以分为化学气相沉积（CVD）和物理气相沉积（PVD），此外还会少量使用电镀、蒸发等其他工艺。近年来还出现了较为先进的原子层沉积（ALD），用于精细度要求较高的沉积。根据工艺特性划分，CVD还可以分为APCVD（常压CVD）、SACVD（亚常压CVD）、LPCVD（低压CVD）、PECVD（等离子体增强CVD）等，ALD也算CVD技术的分支。CVD(化学气相沉积)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法，是工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术，包括大范围的绝缘材料，大多数金属材料和金属合金材料。其一般应
2、用于集成电路制造、粉末合成、金属精致等。而CVD设备则是CVD应用的载体，是实现CVD的必要条件。二、CVD设备产业链CVD设备设计和制造处于产业链中游，CVD设备产业链上游是指示器、温控系统、真空玻璃、特种玻璃等多产品原材料，下游是集成电路制造、粉末合成、金属精制、陶瓷工业、光伏电池制造、封装等多领域工艺应用。三、CVD设备行业发展现状半导体薄膜沉积设备(PVD设备、CVD设备等)被列为高端制造装备，全球发展速度加快。据统计，2017-2019年全球半导体薄膜沉积设备市场规模分别为125亿美元、145亿美元和155亿美元，2020年扩大至172亿美元，同比上涨10.97%，年复合增长率为11
3、.2%，处于稳定增长阶段。从细分市场来看，据统计，2020年PECVD是薄膜设备中占比最高的设备类型，占整体薄膜沉积设备市场的33%；ALD设备目前占据薄膜沉积设备市场的11%；SACVD是新兴的设备类型，属于其他薄膜沉积设备类目下的产品，占比较小。在整个薄膜沉积设备市场，属于PVD的溅射PVD和电镀ECD合计占有整体市场的23%。四、CVD设备行业竞争格局CVD设备行业市场高度集中，市场格局处于寡头垄断格局。全球CVD设备市场的主要企业有应用材料、泛林半导体和TEL这三家，其中，应用材料所占市场份额为30%；泛林半导体和TEL各自占据21%和19%，三大厂商占据了全球70%的市场份额。五、C
4、VD设备行业未来发展前景1.薄膜沉积设备市场需求稳步增长薄膜沉积设备行业一方面长期受益于全球半导体需求增加与产线产能的扩充，另一方面受益于技术演进带来的增长机遇，包括制程进步、多重曝光与3DNAND存储技术。据统计，长江存储、上海华力、华虹无锡、上海积塔、中芯绍兴、合肥晶合等中国本土晶圆厂正在加大设备采购力度。中国本土晶圆厂建厂的热潮将一同引领中国半导体薄膜沉积设备的需求增长。2.芯片工艺进步及结构复杂化提高薄膜设备需求在薄膜性能方面，先进制程的前段工艺对薄膜均匀性、颗粒数量控制、金属污染控制的要求逐步提高。在设备种类方面，台阶覆盖能力强、薄膜厚度控制精准的ALD设备，高深宽比沟槽孔洞填充能力
5、强，沉积速度快的SACVD等新设备被引入产线。在新薄膜材料方面，更强绝缘性能（低k）的材料，与低k材料配套使用的新型阻挡层材料以及光刻工序中新的光掩膜工艺硬掩模层材料得到应用。3.先进产线对薄膜设备需求量陡增随着产线的逐渐升级，晶圆厂对薄膜沉积设备数量和性能的需求将继续随之提升，在实现相同芯片制造产能的情况下，对薄膜沉积设备的需求量也将相应增加。尽管全球半导体设备市场有较强的周期性，但中国大陆半导体产业正面临前所未有的发展机遇，国家战略聚焦，巨大市场支撑，产业链良性互动，产业资本日渐发力，大陆及国际资本投资的晶圆厂数量不断增加，制程更加先进，中国薄膜沉积设备行业将保持高成长性，未来中国市场的重要性将进一步提高。