《东营平板显示靶材项目建议书（模板）.docx》由会员分享，可在线阅读，更多相关《东营平板显示靶材项目建议书（模板）.docx（144页珍藏版）》请在taowenge.com淘文阁网|工程机械CAD图纸|机械工程制图|CAD装配图下载|SolidWorks_CaTia_CAD_UG_PROE_设计图分享下载上搜索。
1、泓域咨询/东营平板显示靶材项目建议书目录第一章 项目投资背景分析9一、 国产替代+技术革新，高端靶材需求强劲9二、 供给：日企占据国内市场主导地位，国产替代逐渐提速11三、 加快推动新旧动能转换，打造先进制造业强市15四、 深入实施创新驱动发展战略18五、 项目实施的必要性21第二章 市场分析22一、 应用趋势：下游技术革新，溅射靶材逐步向大尺寸、多品种、高纯度化发展22二、 靶材在平板显示中的应用25第三章 建设单位基本情况28一、 公司基本信息28二、 公司简介28三、 公司竞争优势29四、 公司主要财务数据31公司合并资产负债表主要数据31公司合并利润表主要数据31五、 核心人员介绍31
2、六、 经营宗旨33七、 公司发展规划33第四章 项目绪论35一、 项目名称及项目单位35二、 项目建设地点35三、 可行性研究范围35四、 编制依据和技术原则36五、 建设背景、规模37六、 项目建设进度38七、 环境影响38八、 建设投资估算38九、 项目主要技术经济指标39主要经济指标一览表39十、 主要结论及建议41第五章 选址方案42一、 项目选址原则42二、 建设区基本情况42三、 打造对外开放新高地45四、 构建高质量发展经济体制新优势47五、 项目选址综合评价48第六章 产品方案与建设规划49一、 建设规模及主要建设内容49二、 产品规划方案及生产纲领49产品规划方案一览表50第
3、七章 建筑工程方案51一、 项目工程设计总体要求51二、 建设方案51三、 建筑工程建设指标52建筑工程投资一览表52第八章 SWOT分析54一、 优势分析（S）54二、 劣势分析（W）55三、 机会分析（O）56四、 威胁分析（T）56第九章 法人治理结构60一、 股东权利及义务60二、 董事67三、 高级管理人员72四、 监事75第十章 劳动安全生产分析77一、 编制依据77二、 防范措施78三、 预期效果评价81第十一章 组织机构、人力资源分析82一、 人力资源配置82劳动定员一览表82二、 员工技能培训82第十二章 项目环境影响分析85一、 编制依据85二、 环境影响合理性分析86三、
4、 建设期大气环境影响分析86四、 建设期水环境影响分析87五、 建设期固体废弃物环境影响分析88六、 建设期声环境影响分析88七、 建设期生态环境影响分析89八、 清洁生产89九、 环境管理分析91十、 环境影响结论92十一、 环境影响建议92第十三章 技术方案分析93一、 企业技术研发分析93二、 项目技术工艺分析95三、 质量管理96四、 设备选型方案97主要设备购置一览表98第十四章 投资方案99一、 编制说明99二、 建设投资99建筑工程投资一览表100主要设备购置一览表101建设投资估算表102三、 建设期利息103建设期利息估算表103固定资产投资估算表104四、 流动资金105流
5、动资金估算表106五、 项目总投资107总投资及构成一览表107六、 资金筹措与投资计划108项目投资计划与资金筹措一览表108第十五章 项目经济效益分析110一、 基本假设及基础参数选取110二、 经济评价财务测算110营业收入、税金及附加和增值税估算表110综合总成本费用估算表112利润及利润分配表114三、 项目盈利能力分析114项目投资现金流量表116四、 财务生存能力分析117五、 偿债能力分析118借款还本付息计划表119六、 经济评价结论119第十六章 风险评估分析121一、 项目风险分析121二、 项目风险对策123第十七章 招标及投资方案125一、 项目招标依据125二、 项
6、目招标范围125三、 招标要求125四、 招标组织方式127五、 招标信息发布128第十八章 项目综合评价129第十九章 附表附件130营业收入、税金及附加和增值税估算表130综合总成本费用估算表130固定资产折旧费估算表131无形资产和其他资产摊销估算表132利润及利润分配表133项目投资现金流量表134借款还本付息计划表135建设投资估算表136建设投资估算表136建设期利息估算表137固定资产投资估算表138流动资金估算表139总投资及构成一览表140项目投资计划与资金筹措一览表141报告说明蒸镀用靶材一般为Ag和Mg两种金属。Ag和Mg合金一般用于小尺寸OLED面板产线中的阴极制作。除
7、此以外，Ag也可以作为顶发射OLED器件中的阳极反射层使用。其中薄膜晶体管液晶显示面板(TFT-LCD)是当前的主流平面显示技术，金属溅射靶材则是制造TFT-LCD过程中最关键的材料之一。薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)具有轻薄、功耗低、成本低等优点，目前TFT-LCD大约占80%以上的显示面板市场份额。这类显示面板是由大量的液晶显示单元阵列组成(如4K分辨率的屏幕含有800多万个显示单元阵列)，而每一个液晶显示单元，都由一个单独的薄膜晶体管(TFT)所控制和驱动。根据谨慎财务估算，项目总投资34608.66万元，其中：建设投资27584.94万元，占项目总投资的79.71%；建设期利息
8、338.21万元，占项目总投资的0.98%；流动资金6685.51万元，占项目总投资的19.32%。项目正常运营每年营业收入66100.00万元，综合总成本费用54626.22万元，净利润8372.38万元，财务内部收益率17.22%，财务净现值11668.72万元，全部投资回收期6.06年。本期项目具有较强的财务盈利能力，其财务净现值良好，投资回收期合理。本期项目技术上可行、经济上合理，投资方向正确，资本结构合理，技术方案设计优良。本期项目的投资建设和实施无论是经济效益、社会效益等方面都是积极可行的。本报告基于可信的公开资料，参考行业研究模型，旨在对项目进行合理的逻辑分析研究。本报告仅作为投
9、资参考或作为参考范文模板用途。第一章 项目投资背景分析一、 国产替代+技术革新，高端靶材需求强劲靶材主要用于平板显示器、半导体、光伏电池、记录媒体等领域。从需求来，靶材是制备功能薄膜的核心原材料，主要用于面板、半导体、光伏和磁记录媒体等领域，实现导电或阻挡等功能。2020年全球靶材市场规模约188亿美元，我国靶材市场规模为46亿美元。从供给来看，四家日美巨头占据80%靶材市场，国内溅射靶材主要应用于中低端产品，国产替代需求强烈。产业转移加速靶材国产替代，技术革新推动铜钽需求提升。半导体芯片行业是对靶材的成分、组织和性能要求最高的领域，纯度要求通常达5N5甚至6N以上。随着半导体产业加速向国内转
10、移，预计25年我国半导体靶材市场规模将达到约6.7亿美元，21-25年我国靶材需求增速或达9.2%。同时随着下游芯片技术革新，溅射靶材逐步向大尺寸、多品种、高纯度化发展，其中铜、钽靶材需求增长前景较好。供给方面，日美厂商约占90%份额，但有研等企业已在国产铜、铝等靶材取得突破，同时产能也在不断扩张，预计未来2-3年我国半导体靶材将新增10万块以上产能。国产替代+产品迭代，我国显示面板靶材需求有望持续高速。FDP靶材根据工艺，可分为溅射用靶材和蒸镀用靶材。其中溅射靶材主要为Cu、Al、Mo和IGZO等，纯度和技术要求仅次于半导体，一般在4N甚至5N以上，但对靶材的焊接结合率、平整度等提出了更高要
11、求。受益显示面板需求上涨和我国显示面板国产替代提升，预计25年我国FDP靶材市场规模将达50亿美元，21-25年CAGR为18.9%。此外预计OLED用钼靶与低电阻铜靶成长空间广阔。供给来看，我国显示面板靶材高度依赖进口，日企在国内市场仍然占据主导地位，国内以隆华科技、江丰电子、阿石创、先导稀材、有研新材为主，国产替代正逐渐加速。Hit量产元年开启，靶材或迎成长机遇期。光伏靶材的使用主要是薄膜电池和HIT光伏电池，纯度一般在4N以上。随着HIT电池和薄膜电池的发展，预计25年我国市场规模将接近38亿美元，21-25年CAGR为56.1%。供给方面，由于国内薄膜电池及HIT电池市场规模尚小，相关
12、靶材企业也较少，多处起步阶段，其中先导稀材、江丰电子等产能相对较大，此外隆华科技也已开始布局相关产业龙头。趋势难逆，磁记录靶材预计将逐步转向存储芯片靶材。磁记录靶材则多以溅射法制作，常用材料为钴（3N）/镍/铁合金/铬/碲、硒（4N）/稀土-迁移金属（3N）等，主要包括铬靶、镍靶、钴靶。我国磁记录靶材市场以海外供应为主，中国生产磁记录靶材企业数量和产能非常有限。由于我国机械硬盘国产化水平极低，且记录媒体研发重心主要在半导体存储，预计传统机械键盘成长空间有限，磁记录靶材预计将逐步转向存储芯片靶材。3DNAND领域用钨、钛、铜、钽靶材需求增量较大。二、 供给：日企占据国内市场主导地位，国产替代逐渐
13、提速我国显示面板靶材高度依赖进口，日企在国内市场仍然占据主导地位，但国产替代逐渐提速。当前该领域竞争格局以攀时、世泰科、贺利氏、爱发科、住友化学、JX金属等为代表的国外少数几家跨国集团占据主导地位，其中攀时、世泰科等厂商是全球钼靶材的主要供应商，住友化学、爱发科等厂商占据了全球铝靶材的大部分市场，三井矿业、JX金属、优美科等厂商是全球ITO靶材的主要供应商，爱发科、JX金属等厂商是全球铜靶材的主要供应商。国内以隆华科技、江丰电子、阿石创、有研新材、先导稀材为主，国产替代正逐渐加速。铝靶：目前国内液晶显示行业用铝靶材主要被日资企业主导，由于价格较低，是平板显示行业常用的溅射靶材，但近年来正逐步被
14、铜靶所替代。外企方面：爱发科电子材料(苏州)有限公司大约占据国内50%左右的市场份额。其次，住友化学也占有一部分市场份额。国产方面:江丰电子从2013年左右开始介入铝靶材，目前已大批量供货，是国产化铝靶材的龙头企业。另外，南山铝业、新疆众和等企业也具备高纯铝的生产能力铜靶：从溅射工艺的发展趋势上来讲，对铜靶材的需求比例一直在逐步增加，加之，近几年国内液晶显示行业的市场规模整体上有所扩大，因此，平板显示行业对铜靶材的需求量将继续呈上升趋势。外企方面:爱发科电子材料(苏州)有限公司几乎垄断着国内铜靶材市场，市场占有率在80%以上，且该公司近几年营收的增加额，主要来自于铜靶材销量的增加。国产方面:有
15、研新材具备高纯铜原料生产能力，但目前主要致力于半导体行业用圆形靶材生产，对液晶显示行业铜靶仅有500吨产能;洛铜集团具备高纯铜生产能力但不生产靶材，且高纯铜原料价格和进口原料相比，在价格方面无明显竞争优势;江丰电子引进海外高端人才，致力于开发高纯铜原料和铜靶材，即将批量生产。钼靶：钼靶材国内需求占全球超过一半，国产化率约有50%。钼靶具体可分为条靶、宽靶和管靶3种，其中，4.5代、5.5代和6代线一般使用宽幅钼靶，而8.5代及以上世代线用使用组合条靶或管靶。外企方面:国外的奥地利攀时、德国世泰科、日本爱发科等企业已基本退出了这部分市场。国产方面:国内钼靶材企业主要集中在洛阳地区，其中，隆华节能
16、下属的洛阳高新四丰电子材料有限公司占据了国内60%多的市场份额，另外，洛阳高科钼钨材料有限公司占据了国内大约10%左右的市场份额。宽幅钼靶:外企方面:国外的攀石、世泰科等企业在国内宽幅钼靶材市场占据较大市场。国产方面:四丰电子大尺寸宽幅钼靶已经开始批量供货；阿石创和金钼股份两家上市公司也充分利用各自在宽幅靶材轧制和靶材加工及销售方面的优势开展紧密合作，金钼股份向阿石创销售宽幅钼靶坯和条形钼靶坯(条形靶坯由宽幅靶坯切割而成)，阿石创负责后续绑定等工序和成品销售工作。钼管靶：每条8.5代线对钼管靶的需求量约为30吨/年。钼管靶8.5代线及以上常用钼靶，每套包含12根，每根单重约为300kg，每套重
17、量约为3600kg。由于钼管靶的实际利用率约为70%，因此，每套钼管靶的成膜重量约为2500kg。每条8.5代线对钼管靶的需求量约为30吨/年。另外，钼管靶的供应商，除了要通过其面板生产企业的认证外，还要通过钼管靶溅射设备生产商美国AKT公司的认证，并且要被收取钼管靶售价约5%的认证费。截止2017年底，国内采用管靶溅射设备的生产线只有1条，业内也普遍认为钼管靶的发展空间并不大。钼铌10合金靶。西部材料下属西安瑞福莱钨钼有限公司和爱发科公司合作，经多次试验攻关，已于2017年成功轧制出了氧含量小于1000106，致密度达99.3%的Mo-Nb合金靶坯。此外金钼集团也已实现高纯大尺寸钼铌管状靶材
18、顺利交付，攻克了大规格钼铌合金靶材制粉、烧结、加工等关键工艺难题，掌握了大尺寸靶材的核心制备技术。经第三方机构检测，制备出的钼铌合金靶材各项指标达到要求。在此基础上，项目组又承接了用户管状靶材的订购需求，顺利交付了3套高纯大尺寸钼铌合金管状靶材，且品质优良。钼铌合金管状靶材直径大于150毫米、长度达到2100毫米，纯度可达99.99%，氧含量小于500ppm。ITO靶材：ITO靶材是由90%的氧化铟与10%的氧化锡配比而成，相对密度要求大于99.5%。目前全球铟消耗量中40%50%以上是用于制备加工ITO靶材。外企方面：全球ITO靶材市场主要供应商有日矿金属、三井矿业、优美科等，其中日矿和三井
19、几乎占据了高端TFT-LCD市场用ITO靶材的全部份额和大部分触摸屏面板市场,爱发科也有相关产品，东曹、日立、住友、VMC、三星、康宁等企业也掌握核心技术。目前中国ITO靶材供应约一半左右依赖进口。本土厂商生产的ITO靶材主要供应中低端市场，约占国内市场30%的份额；而高端TFT-LCD、触摸屏用ITO靶材几乎全部从日本、韩国进口。国产方面：近年来，国内多家厂商宣布进入ITO靶材领域，但实际量产和导入并不顺利，也尚未实现批量供应。据集微网调研，目前国内有能力量产并供货的ITO靶材厂商有先导稀材，其ITO靶材产能预计已经达1100吨/年（清远200吨LCD用ITO靶材，100吨5G手机ITO靶材
20、，合肥800吨），隆华科技全资子公司晶联光电的ITO靶材产能已经达到100吨/年，且在建200吨/年，映日科技的ITO靶材产能已经达到120吨/年，戊电科技的ITO靶材产能已经达到50吨/年等，而阿石创ITO靶材产能实际占比较小。近年来部分国内企业目前也已通过相关认证，在下游市场得到较为广泛的应用。国内的靶材厂商都正在不断提升技术工艺和生产设备，努力通过TFT-LCD试镀测试打开高端OLED显示领域的大门。三、 加快推动新旧动能转换，打造先进制造业强市完善提升产业集群发展规划，聚合产业发展核心要素，着力打造具有持续竞争力的现代产业体系，推进产业基础高级化、产业链现代化，提高经济质量效益和核心竞
21、争力。（一）优化提升优势传统产业坚决淘汰落后动能，加快改造提升传统动能，推动产业基础再造，促进全产业链整体跃升。石化产业，坚持高端化、智慧化、高效化、一体化、绿色化方向，按照“一区、一片、多点”发展布局，有序推动炼化产能整合转移，以芳烃、烯烃产业链为主，构建链条强韧、价值高端、具有国际竞争力的万亿级石化产业集群。加强与央企国企等国内外大企业集团及化工领域知名高校院所合作，重点推进中国化工集团山东化工原料基地、PX上下游配套、利华益集团有机化工新材料基地、中海油原油仓储等项目建设，打造绿色循环能源石化基地。橡胶轮胎产业，突出整合提升、品牌建设，推动产能向优势企业集聚，深化与国内外大企业集团合资合
22、作，培育旗舰型企业，建成全国一流的高端橡胶产业基地。石油装备产业，突出高端化、智能化、服务化，重点加强海洋油气装备、非常规油气装备、智能油气能源装备等关键共性技术攻关和高端大型成套产品研发创新，构建“制造+服务+品牌”融合发展价值链，打造高端智能石油石化装备制造基地和油服企业总部基地。有色金属产业，重点围绕电子信息、输配电等领域延伸产业链条，发展电磁线、特种线缆等高附加值产品，推动产业提质增效。（二）培育壮大战略性新兴产业新材料产业，坚持创新、高端、集群发展方向，围绕高端功能陶瓷材料、稀土催化材料、高性能纤维材料、化工新材料、铜基新材料五条产业链，集聚整合资源要素，坚定推进自主创新，着力打造“
23、链主”企业，培育发展一批“专精特新”企业，推动不同基础材料产业链之间协作配套、耦合发展，打造2000亿级新材料产业集群。生物医药产业，做大做强骨干企业，引进行业领先企业，以创新研发提升现代中药、新型化药、医药中间体、原料药核心竞争力，加快培育生物化工、制药化工，延伸发展关联行业，形成规模优势、集群效应。航空航天产业，深化与中国商飞、北京航空航天大学、山东省机场集团战略合作，推进胜利机场与空港产业园一体化布局、融合发展，积极发展飞机零部件、航空新材料、精密加工、精密模具等航空关联制造业，培育飞机试飞、维修、飞行校验、航空教育培训等配套服务业，打造民机试飞基地、民用无人驾驶航空实验基地和山东重要的
24、临空经济区。现代海洋产业，坚持特色化、高端化、集群化、智慧化方向，着力发展壮大水产种业，推动传统渔业养殖向品牌化提升、水产品向深加工延伸，做大做强海洋工程装备产业，加快海洋生物医药产业发展，培育发展海洋新能源、海洋新材料、海水淡化和综合利用等战略性新兴产业。大力发展交通装备产业。（三）推动先进制造业与生产性服务业深度融合支持研发设计、知识产权、法律服务等服务业发展，培育覆盖全周期、全要素的生产性服务业产业链，引导科技研发、工业设计等企业与制造业企业嵌入式合作，加快形成服务型制造体系。鼓励物流、快递企业融入制造业采购、仓储、分销、配送等环节，持续推进降本增效。支持各类市场主体参与服务供给，规划建
25、设特色服务业园区，发展共享平台，形成一批带动效应突出的深度融合发展企业、平台和示范区。（四）推进产业数字化利用现代信息技术对制造业进行全方位、全链条的数字化、网络化、智能化改造，推进实施一批智能装备应用、自动化生产线改造、数字化车间及智能工厂建设等项目，推动石化、橡胶轮胎、石油装备、新材料等产业升级和数字赋能。引导鼓励企业在研发、管理、生产、营销、物流等各环节加强数字化应用，构建开放式生产组织体系，发展个性化、定制化智能制造，以数字化转型加快组织变革、业务创新和流程再造。四、 深入实施创新驱动发展战略坚持创新在现代化建设全局中的核心地位，聚焦科技自立自强，推进产学研用深度融合，完善科技创新体系
26、，优化创新资源配置，全面提升创新驱动发展水平。（一）搭建高能级创新平台推进黄三角农高区建设，加快布局一批国家级研发平台、中试基地和孵化示范基地，打造全国盐碱地农业创新高地、高新技术产业基地、科技振兴乡村样板。支持东营高新区创建国家级高新区。支持省级以上经济开发区创新“区中园”、专业园区运营机制，实行差异化扶持政策和分类指导，培育一批聚集效应明显、错位发展的特色科技园区。坚持“一产业、一平台、一基金、一团队”，围绕产业链、创新链完善资金链、打造人才链，集聚各类创新要素，推进国家级稀土催化研究院、山东省高端化工产业技术研究院、山东省生物技术与制造创新创业共同体、石油技术与装备产业研究院、氧化铝纤维
27、研究院、山东大学利华益高分子材料研究院、青岛科技大学广饶橡胶工业研究院等创新创业共同体建设运营，促进技术创新集群式突破。（二）提升企业技术创新能力强化企业创新主体地位，实施规模以上工业企业研发机构全覆盖计划，引导各类创新要素向企业集聚，支持企业加大研发投入、建设各类创新平台，打造民营经济创新示范城市。鼓励企业牵头组建创新联合体，加强共性技术平台建设。加快培育一批瞪羚企业、独角兽企业、科技领军企业，发展壮大高新技术企业和科技型企业队伍。加快实施新一轮高水平技术改造，支持制造业企业以更新技术、优化工艺、改进装备、升级产品为主攻方向，提升核心竞争力。完善优势产业关键核心技术攻坚机制，实施装备制造、新
28、材料、生物医药等重大科学研发计划。（三）激发人才创新创造活力坚持广聚人才、精准引智，完善海内外引才网络，建立普惠性与个性化相结合的人才政策体系，创新实施人才招引特色活动，构建全方位引才格局。依托省级以上开发区，着力引进产业发展、招商引资、安全生产管理需要的高水平专业人才。深度整合油地校科技人才资源，探索建立灵活有效的人才科技资源共享机制，推进建设中国石油大学重质油国家重点实验室、中国石油大学东营科学技术研究院、国家石油工业训练中心、胜利工程高端装备产业基地等平台载体。加大高校院所、科研机构招引力度。强化企业家队伍建设，实施企业家素质提升计划。推进渤海工匠学院建设，实施“金蓝领”等高端技能人才培
29、训，推广新型学徒制培养模式，加强创新型、应用型、技能型人才培养。深化人才发展体制机制改革，制定面向未来、更有吸引力的人才政策，完善特殊人才“一事一议”政策，优化人才环境。（四）优化科技创新生态树立科技创新市场导向，以产业为中心优化重大科技项目、科技资源布局，深化科技攻关“揭榜制”、首席专家“组阁制”、项目经费“包干制”。加强科研诚信体系建设，建立科技创新容错机制。健全以创新能力、质量、实效、贡献为导向的科技人才评价机制，构建充分体现知识、技术等创新要素价值的收益分配制度，完善科研人员职务发明成果收益分享机制，探索人才价值资本化、股权化有效路径。加快建设市技术转移转化中心，搭建县域技术交易平台，
30、培育技术经纪人队伍，鼓励发展社会化科技服务机构，完善技术转移转化体系。扩大市科技成果转化风险补偿金规模，支持天使投资和创业投资利用“创投+孵化”模式推进科技成果产业化。强化知识产权保护运用，优化科技创新法治环境。五、 项目实施的必要性（一）现有产能已无法满足公司业务发展需求作为行业的领先企业，公司已建立良好的品牌形象和较高的市场知名度，产品销售形势良好，产销率超过 100%。预计未来几年公司的销售规模仍将保持快速增长。随着业务发展，公司现有厂房、设备资源已不能满足不断增长的市场需求。公司通过优化生产流程、强化管理等手段，不断挖掘产能潜力，但仍难以从根本上缓解产能不足问题。通过本次项目的建设，公
31、司将有效克服产能不足对公司发展的制约，为公司把握市场机遇奠定基础。（二）公司产品结构升级的需要随着制造业智能化、自动化产业升级，公司产品的性能也需要不断优化升级。公司只有以技术创新和市场开发为驱动，不断研发新产品，提升产品精密化程度，将产品质量水平提升到同类产品的领先水准，提高生产的灵活性和适应性，契合关键零部件国产化的需求，才能在与国外企业的竞争中获得优势，保持公司在领域的国内领先地位。第二章 市场分析一、 应用趋势：下游技术革新，溅射靶材逐步向大尺寸、多品种、高纯度化发展芯片制程工艺已经从130nm提升至7nm，晶圆尺寸也已实现了8英寸到12英寸的转变,，对溅射靶材性能要求大幅提升。溅射靶
32、材的技术发展趋势与下游应用领域的技术革新息息相关，随着应用市场在薄膜产品或元件上的技术进步，溅射靶材也需要随之变化，随着半导体技术的不断发展，集成电路中的晶体管和线宽的尺寸越来越小。芯片制程工艺已经从130nm提升至7nm，与之对应的晶圆尺寸也已实现了8英寸到12英寸的转变，此外台积电、三星等企业也正在加速推进更高端的芯片制程工艺研发与生产。为了满足现代芯片高精度、小尺寸的需求，对电极和连接器件的布线金属薄膜的性能要求越来越高，这就对溅射靶材的性能提出了更高的要求。推动溅射靶材逐步向大尺寸、多品种、高纯度化发展。1、趋势1：大尺寸大尺寸是靶材的重要发展方向，但随尺寸增加，靶材在晶粒晶向控制难度
33、呈指数级增加，对技术要求就越高。晶圆尺寸越大，可利用效率越高。.12英寸晶圆拥有较大的晶方使用面积，得以达到效率最佳化，相对于8英寸晶圆而言，12英寸的可使用面积超过两倍。大尺寸晶圆要求靶材也朝着大尺寸方向发展。2、趋势2：多品种半导体芯片行业常用的金属溅射靶材主要种类包括：铜、钽、铝、钛、钴和钨等高纯溅射靶材，以及镍铂、钨钛等合金类的溅射靶材，其中铝与铜为两大主流导线工艺。目前芯片生产所使用的主流工艺中同时存在铝和铜两种导线工艺，一般来说110nm晶圆技术节点以上使用铝导线，110nm晶圆技术节点以下使用铜导线。钛靶和铝靶通常配合起来使用，常作为铝导线的阻挡层的薄膜材料，钽靶则配合铜靶使用，
34、作为铜导线的阻挡层的薄膜材料。随着晶圆制造朝着更小的制程方向发展，铜导线工艺的应用量在逐步增大，因此，铜和钽靶材的需求将有望持续增长。在晶圆制程选择上，从全球晶圆厂产能建设情况来看，12寸晶圆厂是目前主流建设方向。随着晶圆制造朝着更小的制程方向发展，铜导线由于具有更低的电迁移效应，及更低的电阻，有降低功耗、提高运算速度等作用，应用量在逐步增大。据SEMI数据显示，如今12英寸晶圆约占64%，8英寸晶圆占比达26%，其他尺寸晶圆占比10%。12英寸晶圆已经成为市场的主流。但传统的铝靶由于在可靠性和抗干扰性等方面的性能依然较为突出，也仍然具有巨大的市场空间。如汽车电子领域的芯片大量使用铝钛材料的1
35、10nm以上工艺以确保可靠性。因此，芯片制程工艺的进步并不意味着原有制程工艺及其材料被淘汰，因可靠性、抗干扰性、低成本等优势，110nm以上技术节点的芯片产品也具有巨大的市场空间。3、趋势3：高纯化高纯度甚至超高纯度靶材是高端集成电路半导体芯片的必备材料，通常半导体靶材纯度要求通常达99.9995%（5N5）甚至99.9999%（6N）以上。在下游应用领域中，半导体产业对溅射靶材和溅射薄膜的品质要求最高，随着更大尺寸的硅晶圆片制造出来，相应地要求溅射靶材也朝着大尺寸方向发展，同时也对溅射靶材的晶粒晶向控制提出了更高的要求。溅射薄膜的纯度与溅射靶材的纯度密切相关，为了满足半导体更高精度、更细小微
36、米工艺的需求，所需要的溅射靶材纯度不断攀升，通常半导体靶材纯度要求通常达99.9995%（5N5）甚至99.9999%（6N）以上。目前国内溅射靶材的高纯金属原料多数依靠日美进口。但部分企业在部分金属提纯方面已取得了重大突破。全球范围内，美、日等国凭借着先发优势和技术专利壁垒，依托先进的提纯技术在产业链中居于十分有利的地位，议价能力强，国内溅射靶材的高纯金属原料多数也依靠日美进口。但经过多年的靶材技术开发，近年来部分企业已在部分金属提纯方面已取得了重大突破，已开始逐步实现国产替代。二、 靶材在平板显示中的应用若根据工艺的不同，FPD行业用靶材也可大致分为溅射用靶材和蒸镀用靶材。其中溅射用靶材主
37、要为Cu、Al、Mo和IGZO等材料。IGZO为TFT激活层，一般用于手机LTPOOLED技术和大尺寸OLED技术。IGZO也可以被用于LCD的制造和X-ray探测器的制造。在国内的LCD生产中，BOEB18和B19用IGZO作为TFT激活层。在老旧产线中，京东方也利用IGZO来替代a-Si以生产精度更高的X-ray探测器。ITO和IZO为透明导电电极。其中ITO被广泛的运用于OLED和LCD的制造中，而IZO时而会被用于顶发射OLED的阴极来使用。Cu、Al、Mo和Ti等金属则做为金属走线，被广泛的运用于Array的TFT生产中，其中钼或者合金材料靶材常作为OLED器件的阴极使用，此外铝靶也
38、可作为阴极使用。蒸镀用靶材一般为Ag和Mg两种金属。Ag和Mg合金一般用于小尺寸OLED面板产线中的阴极制作。除此以外，Ag也可以作为顶发射OLED器件中的阳极反射层使用。其中薄膜晶体管液晶显示面板(TFT-LCD)是当前的主流平面显示技术，金属溅射靶材则是制造TFT-LCD过程中最关键的材料之一。薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)具有轻薄、功耗低、成本低等优点，目前TFT-LCD大约占80%以上的显示面板市场份额。这类显示面板是由大量的液晶显示单元阵列组成(如4K分辨率的屏幕含有800多万个显示单元阵列)，而每一个液晶显示单元，都由一个单独的薄膜晶体管(TFT)所控制和驱动。薄膜晶体管阵
39、列的制作原理，是在真空条件下，利用离子束流去轰击固体，使固体表面的原子电离后沉积在玻璃基板上，经过反复多次的“沉积+刻蚀”，一层层(一般为712层)地堆积制作出薄膜晶体管阵列。这种被轰击的固体，即用溅射法沉积薄膜的原材料，就被称作溅射靶材。除LCD外，近年来快速发展的OLED面板产业靶材需求增长也十分明显。OLED典型结构是在氧化铟锡（ITO）玻璃上制作一层几十纳米厚的发光材料，ITO透明电极作为器件的阳极，钼或者合金材料作为器件的阴极。从阴阳2极分别注入电子和空穴，在一定电压驱动下，被注入的电子和空穴分别经过电子传输层和空穴传输层迁移到发光层并复合，形成激子并使发光分子产生单态激子，单态激子
40、衰减发光。平板显示制造中主要使用的靶材为钼铝铜金属靶材和氧化铟锡（ITO）靶材，部分平板显示企业也会用到钛靶、钽靶、铌靶、铬靶以及银靶等。其中钼靶材和ITO靶材合计需求占比在60%70%左右。但由于各家企业所采用的溅射工艺不同，其所选的溅射靶材也有区别。如，京东方用铜靶、铝靶、钼靶和钼铌靶，韩国三星用钽靶、钛靶，但不用钼铌靶，中电熊猫用钛靶，但不用钼靶、钽靶等。以8.5代液晶显示面板生产线为例，一条8.5代线每年靶材的大致消耗120套铝靶、110套铜靶、60套钼靶、5套钼铌10靶。此外据新材料产业新型显示产业的ITO靶材市场探讨，目前国内单条8.5代线ITO靶材年需求量约40吨，6代线ITO靶
41、材年需求量约20吨。第三章 建设单位基本情况一、 公司基本信息1、公司名称：xx集团有限公司2、法定代表人：彭xx3、注册资本：590万元4、统一社会信用代码：xxxxxxxxxxxxx5、登记机关：xxx市场监督管理局6、成立日期：2015-2-97、营业期限：2015-2-9至无固定期限8、注册地址：xx市xx区xx9、经营范围：从事平板显示靶材相关业务（企业依法自主选择经营项目，开展经营活动；依法须经批准的项目，经相关部门批准后依批准的内容开展经营活动；不得从事本市产业政策禁止和限制类项目的经营活动。）二、 公司简介面对宏观经济增速放缓、结构调整的新常态，公司在企业法人治理机构、企业文化
42、、质量管理体系等方面着力探索，提升企业综合实力，配合产业供给侧结构改革。同时，公司注重履行社会责任所带来的发展机遇，积极践行“责任、人本、和谐、感恩”的核心价值观。多年来，公司一直坚持坚持以诚信经营来赢得信任。当前，国内外经济发展形势依然错综复杂。从国际看，世界经济深度调整、复苏乏力，外部环境的不稳定不确定因素增加，中小企业外贸形势依然严峻，出口增长放缓。从国内看，发展阶段的转变使经济发展进入新常态，经济增速从高速增长转向中高速增长，经济增长方式从规模速度型粗放增长转向质量效率型集约增长，经济增长动力从物质要素投入为主转向创新驱动为主。新常态对经济发展带来新挑战，企业遇到的困难和问题尤为突出。
43、面对国际国内经济发展新环境，公司依然面临着较大的经营压力，资本、土地等要素成本持续维持高位。公司发展面临挑战的同时，也面临着重大机遇。随着改革的深化，新型工业化、城镇化、信息化、农业现代化的推进，以及“大众创业、万众创新”、中国制造2025、“互联网+”、“一带一路”等重大战略举措的加速实施，企业发展基本面向好的势头更加巩固。公司将把握国内外发展形势，利用好国际国内两个市场、两种资源，抓住发展机遇，转变发展方式，提高发展质量，依靠创业创新开辟发展新路径，赢得发展主动权，实现发展新突破。三、 公司竞争优势（一）公司具有技术研发优势，创新能力突出公司在研发方面投入较高，持续进行研究开发与技术成果转
44、化，形成企业核心的自主知识产权。公司产品在行业中的始终保持良好的技术与质量优势。此外，公司目前主要生产线为使用自有技术开发而成。（二）公司拥有技术研发、产品应用与市场开拓并进的核心团队公司的核心团队由多名具备行业多年研发、经营管理与市场经验的资深人士组成，与公司利益捆绑一致。公司稳定的核心团队促使公司形成了高效务实、团结协作的企业文化和稳定的干部队伍，为公司保持持续技术创新和不断扩张提供了必要的人力资源保障。（三）公司具有优质的行业头部客户群体公司凭借出色的技术创新、产品质量和服务，树立了良好的品牌形象，获得了较高的客户认可度。公司通过与优质客户保持稳定的合作关系，对于行业的核心需求、产品变化
45、趋势、最新技术要求的理解更为深刻，有利于研发生产更符合市场需求产品，提高公司的核心竞争力。（四）公司在行业中占据较为有利的竞争地位公司经过多年深耕，已在技术、品牌、运营效率等多方面形成竞争优势；同时随着行业的深度整合，行业集中度提升，下游客户为保障其自身原材料供应的安全与稳定，在现有竞争格局下对于公司产品的需求亦不断提升。公司较为有利的竞争地位是长期可持续发展的有力支撑。四、 公司主要财务数据公司合并资产负债表主要数据项目2020年12月2019年12月2018年12月资产总额10239.468191.577679.59负债总额4840.053872.043630.04股东权益合计5399.4
46、14319.534049.56公司合并利润表主要数据项目2020年度2019年度2018年度营业收入46063.9336851.1434547.95营业利润9724.497779.597293.37利润总额8194.186555.346145.64净利润6145.644793.604424.86归属于母公司所有者的净利润6145.644793.604424.86五、 核心人员介绍1、彭xx，中国国籍，1976年出生，本科学历。2003年5月至2011年9月任xxx有限责任公司执行董事、总经理；2003年11月至2011年3月任xxx有限责任公司执行董事、总经理；2004年4月至2011年9月任
47、xxx有限责任公司执行董事、总经理。2018年3月起至今任公司董事长、总经理。2、潘xx，1974年出生，研究生学历。2002年6月至2006年8月就职于xxx有限责任公司；2006年8月至2011年3月，任xxx有限责任公司销售部副经理。2011年3月至今历任公司监事、销售部副部长、部长；2019年8月至今任公司监事会主席。3、朱xx，中国国籍，无永久境外居留权，1958年出生，本科学历，高级经济师职称。1994年6月至2002年6月任xxx有限公司董事长；2002年6月至2011年4月任xxx有限责任公司董事长；2016年11月至今任xxx有限公司董事、经理；2019年3月至今任公司董事。4、苏xx，中国国籍，无永久境外居留权，1970年出生，硕士研究生学历。2012年4月至今任xxx有限公司监事。2018年8月至今任公司独立董事。5、吕xx，中国国籍，无永久境外居留权，1959年出生，大专学历，高级工程师职称。2003年2月至2004年7月在xxx股份有限公司兼任技术顾问；2004年8月至2011年3月任xxx有限责任公司总工程师。2018年3月至今任公司董事、副总经理、总工程师。