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1、/ 录前言i第一章 ZEMAX软件简介11.1 简介11.2 用户界面11.3 主视窗的操作（Main Windows Operations）21.4 光学系统的建立31.4.1 设计要求31.4.2 初始结构31.4.3 其他光学特性参数输入方法41.4.4 ZEMAX中像质评价方法9第二章 ZEMAX优化与操作符212.1 Merit Function（评价函数）的构成要素212.2 评价函数的“默认”（缺省）构成方法212.3 修改成自定义评价函数法24第三章 像差设计在ZEMAX中的实现313.1 Default Merit Function和现有像差控制符的局限性323.1.1 轴上
2、点的像差操作符的局限性323.1.2 轴外物点的像差操作符的局限性323.2 常见像差控制在评价函数中的实现333.2.1 轴上球差、色差的控制操作符333.2.2 轴外初级像差的控制操作符343.2.3 轴外物点视场孔径高级像差的定义及其控制操作符383.3 像差设计举例39第四章 像差设计实例494.1 望远镜物镜或准直物镜的设计49第一章 ZEMAX软件简介1.1 简介ZEMAX Optical Design Program（ZEMAX）是由美国ZeMaX Development Corporation公司开发的专用光学设计软件包，软件逐步升级，我们使用的版本是2007。 ZEMAX是W
3、indows平台上的视窗式的用户界面，操作习惯和快捷键风格如同Windows。1.2 用户界面 ZEMAX的视窗类型，和Windows的基本一致，打开不同的视窗可以执行操作不同的任务，可分为：u 主视窗 （Main Window）ZEMAX启动以后，进入主视窗（图1.1）。主视窗顶端有标题栏（title bar）、菜单栏（menu bar）和工具栏（tools bar）。u 编辑视窗（Editor Window）ZEMAX中有6种不同的编辑器（Editors）：即镜头数据编辑器（Lens Data Editor），评价函数编辑器（Merit Function Editor）、多重组态编辑器（M
4、ulti-configuration Editor）、公差数据编辑器（Tolerance Data Editor）、用于补充光学面的附加数据编辑器（Extra Data Editor）、以及非序列元件编辑器（Non-sequential Components Editor）。图1.1 ZEMAX主视窗界面u 图形视窗（Graphic Window）最常用的有草图（Layout）、扇形图（Ray fans）、调制传递函数（MTF Plots）图等。u 文本视窗（Text Windows）设计的文字资料，如详细数据（Prescription Data）、像差数据等显示在文本视窗中。u 对话框（Di
5、alogs）固定大小，在过程中跳出来的视窗（鼠标拖曳不能改变大小）。用于定义或更新视场（Fields）、波长（Wavelengths）、孔径（Apertures）、面型（Surface types）等。1.3 主视窗的操作（Main Windows Operations） 主视窗在执行ZEMAX后显示出来，可以用鼠标拖动改变大小，如图1.1所示。上部有标题栏、菜单栏、快捷按钮。底部状态栏中显示当前镜头系统的焦距（EFFL）、F数（WFNO）、入瞳直径（ENPD）、系统总长（TOTR）。主视窗中的快捷按钮和状态栏中内容可以自定义，菜单栏中有：u 文件（File） 展开后有文件的打开（Open），
6、新建（New），存储（Save），另存为（Save as）等，偏好（Preference）可以修改文字大小，快捷按钮和状态栏中的内容。u 编辑器（Editors） 栏中包括ZEMAX中所有编辑器命令，展开后可打开Lens data editor，Merit function editor。u 系统（System） 定义或更新光学系统的光学特性数据，例如相对孔径、视场和选取的工作波长等。u 分析（Analysis） 它是ZEMAX中的非常重要的菜单之一，是用来进行像质评价和分析的主要工具，对于其中的每一项的数据的含义，单位要很好地理解。主要有：Fans中的球差（Ray aberration），点
7、列图（Spot diagrams）、调制传递函数（MTF）、点扩散函数（PSF）、波像差（Wavefront）、圆内能量集中度（Encircled Energy）；杂项（Miscellaneous）中的场曲与畸变（Field Curv/Dist）、轴向球差（Longitudinal aberration）和垂轴色差（Lateral Color）。 u 工具（Tools） 也是ZEMAX中的非常重要的菜单之一，分成七块：第一块用来进行光学镜头的局部优化（Optimization）、全局优化（Global / Search /Hammer Optimization）等；第二块分析镜头的公差，计算传
8、递函数的点列图，波差等变化量表。第三块是材料选择，有察勘玻璃库或向库中新增添或删除玻璃条目，寻找简单的透镜数据并插入到透镜数据编辑器中。第四块是镀膜模型。第五块是系统中镜头的孔径的定义，可以与渐晕系数配合共同使用。第六块主要用来整体设计(1)按焦距或放大率缩放当前系统；(2)在当前系统中加入或删除折转发射镜。第七块以后讨论。u 报告（Report）形成镜头设计结果的报告，可以作为每一个光学面的形成报告（Surface data）；也能为镜头系统形成高斯参数或光学特性参数的报告（System data）；还可以给出设计结果的详细数据报告（Prescription data）。u 宏编程（Macr
9、os）执行已经编译好的宏程序。宏程序的编程过程：（1）使用一般的文本编辑器或使用ZEMAX自身的编辑功能创建扩展名为“*.ZPL”文件，该文件置于ZEMAX目录下的Macros目录中；（2）使用ZEMAX提供的命名或函数库进行程序编写；（3）用Macros菜单下的“Run/Edit Zpl Macros”执行宏程序。宏程序可以提取光线追迹数据、像质指标等，可以定义新的优化设计用的操作符。执行时，宏程序作用的对象是当前显示的镜头系统。u 外部程序接口（Extensions） ZEMAX环境中，使用该接口可以执行外部扩展名为“*.EXE”的执行程序，用来与ZEMAX交换数据，或ZPL宏不能完成的功
10、能。外部程序可以用C语言等编程工具完成。u 视窗（Windows）与帮助（Help）菜单1.4 光学系统的建立1.4.1 设计要求 如要设计的系统要求：f = 200 mm，视场角 2 = 30，D/f1/10。物距为：（1）物距位于有限远，近轴放大率为1；（2）物距位于无限远。1.4.2 初始结构1. 选取方法初始结构选取方法有二，一是从国内外的光学设计手册，专利，镜头数据库中选取；如果手中没有以上资源，则需进行计算，找出满足光焦度，视场等光学特性要求得雏形，来作为初始结构。下面以第二种方法为例，建立起满足特性的初始结构。2. 计算建立初始结构 由总光焦度和视场要求：至少要有两个组份构成，有
11、总光焦度 （1.1） 设两组分光焦度相等，即，则（1.1）式变为 （1.2） 式（1.2）中为已知量，为未知量，解二次方程可得： （1.3）如果使用双凸透镜，且两个凸面曲率半径大小相等，则曲率半径为： （1.4） 代入设计要求，选择透镜材料为ZF1（nd1.64767，vd33.87），工作波长为0.55 m， 则初始结构在ZEMAX中的数据为： 表1.1 例题的初始结构参数1.4.3 其他光学特性参数输入方法1General 输入相对孔径 General功能可以由“System”“General”选择，还可以通过桌面上“Gen”快捷键来打开，General对话框如图1.2所示。图1.2 Ge
12、neral 对话框由图1.2可以看出，General对话框中具有Environment，Polarization，Misc.，Non-Sequential，Aperture，Title/Notes，Glass Catalogs，Ray Aiming等项。相对孔径的定义在Aperture中设置。最常用的选项解释如下：A. ApertureAperture Type 用于定义相对孔径，即轴上物点的光束大小。定义的种类有：（1） Entrance Pupil Diameter（入瞳直径） 当物体位于无限远时，可以用它来定义相对孔径，此时的Aper Value中输入具体的入瞳直径数值，选择Lens U
13、nits为Millimeter（毫米）。（2） Image Space F/#（像方F数） 无论物体位于无限远还是有限远，都可以用像方F数来定义相对孔径。其物理意义是“近轴有效焦距（EFFL）/入瞳直径”，此时在Aper Value中输入F数。（3） Object Space Numerical Aperture（物方数值孔径） 当物体位于有限远，可被用来定义相对孔径，其含义为N.A.nSin()，n为物方介质折射率， 为高斯边缘光线孔径角，如图1.3所示。图1.3 Oblect Space N.A. 示意图在Aper Value中输入N.A.值。（4） Float by Stop Size（
14、由光阑大小决定） 这是定义轴上物点光束孔径的另一种方法，由Lens data Editor中光阑（Stop）面的“Semi-Diameter”大小来决定，此时“Lens Data Editor”中的光阑大小值右边显示“U”，表示Stop Surface的孔径被用户固定，无法给出Aperture，数值输入栏则自动变暗不能被操作。（5） Paraxial Working F/#（近轴工作F数） 定义式为： （1.5）式中为系统像方折射率，为高斯边缘像方光线孔径角。在计算过程中，认为系统无像差，按照理想系统的边缘光线追迹方法。在Aper Value中输入F数，注意前面的Image Space F/#
15、区别。（6） Object Cone Angle（物方锥角） 亦物方孔径角。当物体位于有限远，可用轴上物点发出的边缘光线来定义光束孔径，以物空间边缘光线的半角，即图1.4中的U来定义，单位“度”，可以大于90。图1.4 Oblect Cone Angle定义示意图B. General 对话框中其他功能（1） Apodization Type（定义光瞳上光强分布） 选项有： a) None表示光瞳被均匀照明；b) Gaussian表示光瞳上光振幅扰动为高斯型，即：（1.6）其中为光瞳归一化极坐标，G为切趾（Apodization）因子，如果G0，表示光瞳被均匀照明，G一般小于40。c) Tang
16、ential表示正切型光瞳振幅分布，即： （1.7）其中Z为光瞳面上面元到点光源的距离，r为光瞳面上的位置坐标（离开光轴的距离），如图1.5所示，光瞳中心（轴上）为0，最大值一般被归一化为单位1。光瞳r图1.5 正切型照明示意图光振幅，如r采用归一化的坐标，有0 1，H为光瞳半径。此时为（1.8），其中tan （1.8)（2） Glass Catalogs（玻璃库） ZEMAX提供了德国的Schott、日本Hoya、Ohara、美国Corning等玻璃生产厂商的玻璃库，还有红外、塑料材料（PMMA）、双折射晶体材料等内建玻璃库。 如光学设计中，要选用中国玻璃库，有两种方法：a) 使用Len D
17、ata Editor视窗中Glass栏的Model功能，输入d，nd即可；b) 导入中国玻璃库 Chinaglass 库文件到玻璃库数据库中，直接调用。（3） Ray Aiming 适用于大视场镜头设计中，确保主光线通过孔径光阑的中心。选项有：u No Ray Aiming这是ZEMAX预设选项, 表示不进行光线瞄准，此时ZEMAX认为光瞳无像差。对于中等视场的光学系统，可以用磁此项。但是对于大相对孔径或大视场光学系统，会存在严重的光阑像差，光阑像差的表现为：（a）光瞳位置随视场值变化；（b）光瞳边缘发生变形。u Aim to aberrated (real) stop height 对于大视
18、场光学系统，通常用此选项，用于消除光阑像差。含义是：瞄准有像差时的孔径光阑高度。选用该选项后，ZEMAX计算像差，孔径光阑大小有来自物面中心的主波长边缘光线在光阑面上的交点决定。然后适用迭代法追迹光线，找出一根经过孔径光阑中心的光线（此时不一定经过入瞳或岀瞳中心，但经过像差校正后，也会同时经过入瞳、岀瞳的中心），作为主光线。u Aim to unaberrated (paraxial) stop height该选项与前一选项的明显区别，在于该项假设镜头系统没有像差，使用理想情况下的近光线追迹来瞄准光阑中心，优点是计算时间短。2Fields对话框中定义视场 通过System Fields 可以打
19、开视场定义对话框，如图1.6，首先给出了视场种类定义的四个选项：角度（视场角）、物高、近轴像高和实际像高。其中视场角单位为度，线视场的单位为ZEMAX选择的Lens Units，一般为毫米（mm）。 接下来，给出最多为12的视场序号，即最多可定义12个视场，X-Field与Y-Field同时选用，适用于非旋转对称光学系统；对于旋转对称系统，一般仅在Y-Field栏中输入数据，定义子午面内的视场。Weight用于定义各个视场的权重。 对于大视场光学系统，一般要考虑渐晕现象，有渐晕系数来描述。ZEMAX提供了4个参数，即VDX、VDY、VCX和VCY来描述渐晕现象，其中VDX、VDY用于定义光瞳中
20、心位置的x,y偏心；VCX、VCY用来定义渐晕因子。当VDXVDY=VCX=VCY=0，表示无渐晕现象，对于旋转对称系统，仅使用VDY与VCY即可。 如轴上物点光瞳归一化坐标为Px、Py，有渐晕时轴外光瞳归一化坐标为： （1.9）图 1.6 Fields 定义对话框例如，图1.7表示了旋转对称光学系统在偏心VDY=0.3，渐晕系数VCY=的渐晕光瞳，其中H为轴上物点光瞳半径，oa表示轴外物点光瞳渐晕时的子午面上的半径，此时，VDX=0，VDY=0.3，VCX=0，VCY=。aOOH0.3H图 1.7 渐晕定义示意图 考虑渐晕后，优点为：（a）可以缩小透镜的口径，节省加工成本，（b）可以把引起严
21、重轴外像差的光线去除掉（即选择光阑位置消除轴外像差）。 图1.6中底部“Set Vig”按钮，由ZEMAX可自动设置渐晕系数。在两种状态下可以自动设置渐晕系数：（a） 当Lens data Editors中，某一光学面的通光直径固定；（b） 使用Tools Convert Semi-Diameters to Floating Apertures。 Save与Load对已经建好的视场数据，可以完成存储和调用，文件扩展名为“* . Fld”。3Wavelengths定义镜头工作波长 通过桌面上的快捷键“Wav”或“System Wavelengths”打开“Wavelengths”对话框，可以定义
22、最多12个波长（单位：微米m）。典型波长的数据已经存储在对话框中，通过“Select”勾选，其中“Primary”定义主波长，用于考查镜头系统的单色像差。4前例中的光学特性数据的输入方法 (a) 定义近轴工作F数（Paraxial working F-number）10，方法：逐层选择“System General Aperture Paraxial working F-number”，在“Aper Value”后面的数值框中输入“10”。 (b) 定义半视场“0, 10.5, 15”，逐层选择“System Fields”对话框中，选择1, 2, 3视场序号，输入“Y-Field”分别为“0
23、, 10.5, 15”。不定义“权重”与“渐晕因子”等。 (c) 对有限远物距1000 mm，在“Lens Data Editors”中“Object”的“Thickness”输入1000，目前镜头系统的近轴放大率可能不为“1.0”，输入恰当的有限远物距后，可经过优化设计，改变物距或改变结构参数以保证近轴放大率要求。1.4.4 ZEMAX中像质评价方法图 1.8 光学系统草图 建立了初始结构如表1.1的镜头数据以及光学特性参数以后，可以用“Analysis Layout 3D Layout”画出该结构的光学系统草图，如图1.8所示，由“3D Layout”可以检查输入数据是否存在错误，是否与预
24、想的结构形式一样。然后，可以运用ZEMAX的像质评价功能，对初始结构进行评价。当然像质评价功能可以贯穿整个光学设计的中间过程和最终设计环节之中。下面我们选取主要的像质评价指标，来说明指标的具体含义。1. Fans光学中的“Fans”，此处意为光扇图，与光学设计中的子午面和弧矢面的光线结构相对应。由任一物点发出的不同孔径高的光线组分别在子午面内和弧矢面内，形成子午扇形光线和弧矢扇形光线组，由这些扇形光线组描述跟像差有关的像质指标，可以统称为“Fans”。因此，Fans描述的是子午与弧矢两个截面内的像差曲线图。共有“Ray Aberration，Optical Path和Pupil Aberrat
25、ion“三种：u Ray Aberration垂轴表示的几何像差曲线。由像质评价技术，独立的几何像差是按几何光线的空间结构来定义。轴上有球差、高级球差两种单色像差；有轴向色差（一般取0.707孔径）、色球差、二级光谱三种色差；轴外有子午像差、弧矢像差与主光线像差。子午面与弧矢面单色像差有：场曲、慧差、像散，主光线像差有畸变、垂轴色差。在考虑视场和孔径的高级像差时，种类更加繁多，有沿轴（或轴向）像差，每一种像差反映了几何光线在成像时的空间位置分布，如果镜头系统理想成像，所有的像差必须为零，数据量大，不利于总体掌握成像情况。几何像差的垂轴标识法，只考虑由一个物点发出的子午面或弧矢面内不同孔径光线，
26、在像面上交点离开主光线交点的变化情况，相当于弥散大小，不去考虑到底是沿轴分量的像差，还是垂轴分量的像差，让我们产生综合的印象。Ray Aberration是Fields对话框中定义的每一个视场序号，而绘出的像面（XOY面）上的X分量像差（X aberration）和Y分量像差（Y aberration）随光线孔径高之间的变化曲线。一般的，X-aberration用EX表示，Y-abberation用EY表示，光线孔径高用PX、PY表示。在子午面（YOZ面）内，某一物点（视场序号表示）发出不同孔径高的光线，经过镜头系统后，光线均在子午面内，光线坐标中PX=0，PY从01变化，因此离开主光线在像面
27、上交点的位置表示只有Y分量（Y-aberration），X-aberration均为0，即Tan Fan（子午光扇图）只有Y-aberration，只有EYPY关系曲线图。在弧矢面（XOZ）内，某一物体发出不同孔径高的光线，此时关系坐标PX从01变化，PY=0，这些光线经过镜头系统后，孔径高绝对值相等的光线对仍以子午面对称，即与像面交点离开主光线交点位置偏差具有X分量（X-aberration），也具有Y分量（Y-aberration）；且光线对的X-aberration大小相等，符号相反，Y-aberration相爱那个等，Sag Fan（弧矢光扇图）即有EYPX曲线，也有EXPX曲线，EY
28、PX以EY呈轴对称，EXPX曲线以原点呈旋转对称。在旋转对称系统中，轴上物点的子午面与弧矢面相同，所以其EYPY与EXPX曲线完全相同。图1.9给出1.3节例子物在1000 mm 初始结构的Ray aberration曲线，图中前一对是0视场的Ray aberration曲线，中间一对是10.5视场的Ray aberration曲线，最后一对是15视场角的Ray aberration曲线。每一条曲线的横坐标为归一化光瞳坐标，由11变化，纵坐标表示几何像差在像面上的弥散情况，其每一格值由图下方给出的Maximum Scale确定。该图中，纵轴正半轴大小为5000 m，每一格值为1000 m。所以
29、0视场弥散像差很小，10.5视场子午弥散半径近似为1500 m，弧矢弥散半径近似为800 m， 15视场子午弥散半径近似为3000 m，弧矢弥散半径近似为1300 m。由Ray aberration图可以看出几何像差存在时的综合弥散情况，还可以看出其他独立几何像差的大小，如由原点处曲线的斜率可以反映轴向像差分量，诸如球差、场曲、离焦的大小，图1.9中表明目前初始结构的场曲较大；再如由曲线边缘孔径（1.0）处的Y-aberration之和，能够反映慧差大小；如果工作波长是一光谱段，每一视场的Ray aberration曲线中每一幅图有三根曲线，反映波长序号为1,2,3的Ray aberratio
30、n数据。这样Ray aberration曲线中，1,3波长的曲线与EY轴的交点之差反映垂轴色差的大小。随着视场的变化，可以清楚垂轴色差的变化。图 1.9 前例Ray aberration曲线 如果在Ray aberration曲线窗口中，选择Setting或在任一位置，右击鼠标，将弹出设置对话框，对话框中选项的含义参见表1.2。表1.2 例题的初始结构参数选 项含 义Plot Scale绘图比例，输入的数值用于定义纵轴半轴长度，单位：m；数值越小，曲线被放大；数值越大，曲线被压缩，0表示正半轴最大数值自动选定。Number of Rays子午或弧矢面主光线两侧追迹的光线数目Wavelength
31、波长序号选项，All表示全选Field视场，All表示全选Tangential每一视场左边曲线纵轴像差的选项，有X-aberration和Y-aberration两种，如果选X-aberration，纵轴变为EX，否则EYSagital每一视场右边曲线纵轴像差的选项，有X-aberration和Y-aberration两种，如果选X-aberration，纵轴变为EX，否则EYUse Dashes选中，曲线以黑白虚线表示Check apertures选中，则检查光线是否在每个光学面上的有效通光孔径内Vignetted Pupil选中，则横轴1.0表示轴上物点的光瞳直径，对大视场光学系统，如存在
32、渐晕，则轴外视场的Ray aberration曲线中横轴取值会小于1.0，能够明显反映渐晕现象；如不选，横轴1.0可以表示渐晕时光瞳归一化孔径，取值从01.0，曲线反映不出渐晕现象。此时，0视场与轴外视场曲线中横轴1.0表示绝对孔径长度是不等的u Optical path 显示的光瞳归一化坐标（PX,PY）为横轴的光程差曲线，相当于一维波差曲线，纵轴为光程差，以主光线所走过的光程为基准。u Pupil Aberration 反映光瞳像差。表示实际主光线与光瞳面交点，离开高斯主光线与光瞳面交点的距离，一般用占光瞳半径的百分数表示，图1.10给出了1.3节例物在1000 mm处初始结构的光瞳像差曲
33、线，由该图看出，由于物位于子午面内，在子午面内存在明显的光瞳像差，表示轴外光瞳偏心。此时，如不消除光瞳像差，会影响各种轴外像差值的精确计算，如选“SystemGeneralRay AimingAiming to aberration (real) stop height”，则可以很好地消除光瞳像差。图1.10 1.3节中例在1000mm处初始结构的Pupil Aberration2. Stop Diagrams（几何点列图） Ray aberration仅能反映子午、弧矢面内光线造成像的弥散情况，几何点列图则能反映任一物点发出的充满入瞳的光锥，在像面上的交点弥散情况。 几何点列图通常以主光线与
34、像面交点为原点，进行量化计算点列图的弥散情况，ZEMAX在此基础上，还给出以虚拟的“质心”、“平均”为原点的量化点列图。 图1.11表示了1.3节例子物在1000mm处初始结构的像面点列图。使用点列图的评价像质，除了观察点列图形状外，一般还使用两个指标，即，如图1.11下方的RMS Radius与GEO Radius，单位一般仍为 m。前者表示点列图弥散的实际几何半径。有时如仅有两根光线与像面交点散的厉害，而其他光线分布比较集中，即RMS Radius较小，而GEO Radius较大，仍认为像质比RMS Radius值较大时好一些。 过去在设计使用胶卷的照相物镜时，常用点列图进行像质评价，如果
35、每一视场点列图的RMS Radius小于15 m，则可认为设计中的照相物镜系统已经具有较好的像质。 图1.11中给出了三个视场的点列图情况，由点列图的图案及RMS Radius、Geo Radius值也可以估算独立几何像差大小，即可判断是什么样的像差影响点列图的渐小。如从图1.11中可以明显地看出场曲与像散是该初始结构主要存在的几何像差。图1.11 1.3节例物在1000mm处初始结构的点列图点列图（Spot Diagrams）的表现形式有五种：标准点列图（Standard）、离焦点列图（Through Focus）、反映视场像高的点列图（Full Field Spot Diagrams）、随
36、视场与波长变化的点列阵图（Matrix Spot Diagrams）、随视场与多重结构变化的点列阵图（Configuration Matrix Spot Diagrams）。其中常用的是标准点列图。根据像质评价技术，计算点列图时入瞳上光线的选取有以下几种方法：极径、极角划分的极坐标形式，在ZEMAX中称为hexapolar（六极）；有直角坐标网格划分的方形网格（Square）；ZEMAX中还提供了基于伪随机方法的颤抖式（dithered）光瞳划分方法。如在点列图设置（Setting）中的Surface number由像面改变成其他光学面序号，此时点列图反映光线与光学面的交点分布，也反映光学面的
37、通光情况；如将Surface number设置成光阑面序号，则此时点列图可反映光阑通光面的形状，如轴外光阑面点列图分布为椭圆形状，则表示渐晕现象，图1.12给出了这样的点列图。图 1.12 反映渐晕现象的孔径光阑点列图3. MTF（调制传递函数） MTF是目前使用比较普遍的一种像质评价指标，称为调制传递函数。它既与光学系统的像差有关，又与光学系统的衍射效果有关，是光学传递函数（OTF）的模，曲线横轴表示像面上的空间频率，单位：1/mm，即每毫米多少线对，纵轴表示对这些黑白细实线物分辨的调制度。 任何一种物信息，都可以细分到点，也可以细分到线，调制传递函数（MTF）的物理意义是：应用傅立叶变换原
38、理与光学系统相干成像理论，计算出镜头对逐渐变细的黑白线对分辨的调制度。 根据计算模型的不同，MTF分为三类：（1） FFT MTF基于快速傅立叶变换，先计算PSF（点扩散函数），再由PSF MTF；（2） Huygens MTF基于惠更斯面包络原理，先计算岀瞳面上的光瞳函数，然后把岀瞳面细分，看成次级光源，在向像面传递；因此计算惠更斯传函时，要将出瞳面细分网格、也将像面细分网格采样；（3） 几何MTF基于几何点列图，转化成子午面或弧矢面上的线扩散函数，再经傅立叶变换，得到调制传递函数。以上几种MTF，都可用于客观评价成像质量，由于计算模型不同，结果出现较小差别，但变化趋势及量值不会差别很大，使
39、用时要注意以下概念的区别：（1）计算速度上看，FFT MTF最快，Huygens MTF和Geometric MTF速度较慢，但在初始结构像质太差（如波差PV6）时，FFT MTF计算会显示出错，这很正常，此时几何传递函数仍可进行正常计算，只是传函值太低；（2）从网格采样看，FFT MTF和Geometric MTF只需对像面（或物面）空间坐标进行2”2”网格采样，但Huygens MTF因计算模型差别，还要增加对岀瞳面网格采样，这是导致Huygens MTF计算速度变慢的主要原因；（3）FFT MTF和Huygens MTF都能计算出Surface MTF（即3DMTF），但Geometri
40、c MTF一般只计算子午与弧矢面上MTF，不提供Surface MTF。在使用MTF进行像质评价时，要注意以下几个方面问题：（1）对每一种镜头系统，需要物面特征、探测器像素与响应情况，确定评价时的特征频率和对比阈值，确定特征频率处的MTF值至少为多少？否则无法确定MTF曲线的好坏；截止频率（c）跟镜头系统的F数及工作波长（）有关，即c1/F；（2）察看MTF数值时，要看多色MTF在每一个视场处的子午和弧矢传函曲线，并注意选择适当的离焦量；（3）MTF值跟波像差、点列图等像质指标一样，只反映成像清晰度，不反映变形，所以要检查物像相似程度，还要再看畸变曲线。图1.13 某一投影物镜的复色MTF曲线
41、ZEMAX在MTF曲线计算中，还可以绘制Through Focus MTF及MTF vs Field曲线，通过查看不同的视场、某一离焦量范围内特症频率处的传递函数值，由此可选择恰当的离焦量。图1.13给出了某一多媒体投影物镜的复色MTF曲线。一般情况下，无须查看截止频率处的传函值，因此实际评价像质时，会选择比特征频率稍大一些的最大频率范围，对常规成像镜头系统，最大频率可选50/mm，或者100/mm左右。图中选择了最大频率为90/mm。4. PSF（点扩散函数）PSF（Point Spread Function）反映点物经过镜头系统后，因像差或衍射在像面上造成的扩散情况，横轴为像面上的线性尺度
42、，纵轴为归一化能量分布。PSF计算模型也有FFT和Huygens两种。PSF一般使用在精细成像质量或小像差系统场合。5. Wavefront（波像差）也是一种评价像质的常用指标，可用于小像差光学系统和大像差光学系统，同时因有瑞利判据（波像差小于/4波长，镜头系统成像质量接近理想），使波像差评价像质易被量化，只是对大像差系统时，可将波像差容限取成2-4倍的瑞利标准。波像差和视场相关，由一个视场物点发出充满入瞳面的光线，相当于一个球面波入射，经过镜头系统后，出射波面因像差的存在发生变形，表示存在波像差。因此，对于一个视场，某一波长下，计算不像差时，要对入瞳面进行网格点采样，一般采样密度为2”2”，
43、由光线追迹计算每一条光线到达像面时走过的光程差，一般取主波长（Primary Wavelength）主光线所走过的光程作为参考光程，相当于取主光线跟像面的交点，作为参考球面的球心，并使参考球面经过岀瞳中心。显示波像差图时，可通过“Analysis wavefront Wavefront Map”给出某一个视场、某一波长下的三维波面图，如须查看其他波长、视场下的波像差图，则要使用如表1.3所示的设置。ZEMAX对波像差还提供了Interferogram和Foucault Analysis的菜单选项，前者可以为两束光相干以干涉图表示，尤其适用于分析干涉系统，后者用于产生Foucault刀口阴影图。
44、6. MiscellaneousMiscellaneous意为“其他“或“杂项”，归属那些不太重要或不入大类的功能项。Miscellaneous中放置几何像差的分析功能，按先后顺序，有细光束场曲与畸变（Field Curvature/Distortion）、轴向球差（Longitudinal Aberration）、垂轴色差（Lateral Color）。u Field Curvature / Distortion 细光束场曲与畸变曲线之所以称为细光束场曲，是因为场曲曲线没有跟光束孔径有关。图1.14给出了1.3节例物在1000mm处初始结构的场曲与畸变，图中左边为细光束子午，弧矢场曲，如果工
45、作波长有多个，则图中会给出每一个波长的细光束子午、弧矢场曲；右边为归一化畸变。图1.14两个曲线图的纵轴都是归一化视场，左图横轴为场曲，单位为毫米，右图横轴为百分畸变。还揭示了像散信息。细光束场曲反映了不同视场点的细光束像点离开像面的位置变化，初级细光束场曲跟视场的平方成正比，其对成象的影响，是使一平面物体成一弯曲像面。细光束像散反映了子午和弧矢细光束像点（或子午与弧矢弯曲像面）的不重合而分开的轴向距离。表 1.3 Wavefront Map 对应的设置选项选 项含 义Sampling选择光瞳面采样密度，得到波像差的X, Y坐标点阵Rotation旋转波面显示的选项Scale显示比例选项，一般情况下不作放大与缩小，取为1，如取成小于1，则波像差高度方向被缩小，如取成大于1的数，则波像差高度方向被放大。