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1、硅片扩散前的表面准备硅片扩散前的表面准备硅片扩散前的表面准备硅片扩散前的表面准备 邵爱军邵爱军邵爱军邵爱军 200 2005 5年年年年1111月月月月概概概概 述述述述形成起伏不平的绒面，增加硅片对形成起伏不平的绒面，增加硅片对太阳光的吸收太阳光的吸收去除硅片表面的机械损伤层去除硅片表面的机械损伤层清除表面油污和金属杂质清除表面油污和金属杂质硅片表面处理的目的：硅片表面处理的目的：2 概述：硅片表面的机械损伤层概述：硅片表面的机械损伤层（一）硅锭的铸造过程（一）硅锭的铸造过程（一）硅锭的铸造过程（一）硅锭的铸造过程单晶硅多晶硅3 概述：硅片表面的机械损伤层概述：硅片表面的机械损伤层（二）多线
2、切割（二）多线切割（二）多线切割（二）多线切割4概述：硅片表面的机械损伤层概述：硅片表面的机械损伤层（三）机械损伤层（三）机械损伤层（三）机械损伤层（三）机械损伤层硅片机械损伤层（10微米）5概述：金属杂质对电池性能的影响概述：金属杂质对电池性能的影响6概述：表面织构化概述：表面织构化单晶硅片表面的金字塔状绒面单晶硅片表面反射率7化学腐蚀的原理化学腐蚀的原理 热的热的NaOH溶液去除硅片表面机械损伤层：溶液去除硅片表面机械损伤层：HF去除硅片表面氧化层：去除硅片表面氧化层：HCl去除硅片表面金属杂质：去除硅片表面金属杂质：盐酸具有酸和络合剂的双重作用，氯离子能与 Pt 2+、Au 3+、Ag+、Cu+、Cd 2+、Hg 2+等金属离子形成可溶于水的络合物。8注意事项 1.在工序1中氢氧化钠溶液与硅片反应时会有碱蒸气产生，故设备运行时请关闭玻璃门。2.盐酸是挥发性强酸，不要去闻其味道3.氢氟酸会腐蚀玻璃，故不与玻璃器械接触，也不要去闻氢氟酸的味道。4.如果酸或碱不小心溅入眼内或溅到脸上，请立即打开洗脸洗眼池上盖冲洗。9注意事项 NaOH、HCl、HF都是强腐蚀性的化学药品，其固体颗粒、溶液、蒸汽会伤害到人的皮肤、眼睛、呼吸道，所以操作人员要按照规定穿戴防护服、防护面具、防护眼镜、长袖胶皮手套。一旦有化学试剂伤害了员工的身体，马上用纯水冲洗30分钟，送医院就医。10