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1、铝氧化的工艺流程 上架水洗低温抛光水洗水洗钳料氧化水洗水洗水洗封孔水洗水洗下架风干检验 进入电 泳工序包装磨砂料及磨砂电泳料氧化：上架除油水洗酸蚀水洗水洗碱蚀水 铝氧化的工艺流程：1上架;水洗;低温抛光 2磨砂料及磨砂电泳料氧化：3着色料及着色电泳料氧化 二、上料：型材上料前应将吊杆接触面打磨干净，并按标准支数上料，其计算公式：上料支数=标准电流标准电流密度单支型材面积 上架支数的考虑原则：a、硅机容量利用率不大于 95%b、电流密度取 1.0 1.2A/dm;c、型材形状和两支型材之间留必要的间隙；氧化时间的计算：氧化时间（t）=膜厚 K 电流密度 K 为电解常数，取 0.26 0.32,t
2、 单位为分钟；上排时必须按照型材面积及上排支数表规定的支数上架；为了便于排液和排气，上排捆扎时应倾斜，倾斜度 5为宜；两端可超出导电杆 10 20mm 最多不得大于 50mm 三、低温抛光工艺 低温抛光槽中低温抛光剂浓度控制为总酸 25 30g/l，最低15 g/l;抛光槽温 20-30C不得低于 20E，抛光时间 90 200s；提架倾斜，滴净残液后，迅速放入清水槽中漂洗，经两道水洗后迅速放入氧化槽氧 化，在水槽中停留时间不应大于 3 分钟；低温抛光材料在抛光前不得进行其它方式的处理，也不能将其它槽液带入抛光槽 四、除油工艺；在室温酸液中进行，时间 2 4 分钟，H2S0 浓度 140-16
3、0 g/l;提架倾斜滴净残液后，放入清水槽中清洗 1-2分钟。五、磨砂（酸蚀）工艺 除油后在清水槽清洗再进入酸蚀槽；工艺参数：NH4HF 浓度 30-35 g/l，温度 35-40C,PH 值 2.8-3.2，酸蚀时间 3-5分 钟；酸蚀结束后经两道水洗再进入碱蚀槽。六、碱洗工艺 工艺参数：游离 NaOH 30-45 g/l，总碱 50-60 g/l，碱蚀剂 5-10 g/l，AL3+0-15 g/l，温度 35-45C，砂料碱蚀时间 30-60 秒；提架倾斜，滴净溶液后迅速放入清水槽中清洗干净；检查清洗后的表面质量，当无腐蚀斑纹，无杂物、凝附表面现象，即可进入出光工 序。七、出光工艺 工艺参
4、数：H2SO 软度 160-220 g/l,HNO3 适量或 50 g/l-100 g/l，温度室温,出光 时间 2-4 分钟；提架倾斜滴净残液后迅速放入清水槽中 1-2 分钟，再放入第二清水槽 1-2 分钟；两次清洗完毕后，应钳紧扎架上的铝线，以保证氧化过程的良好接触。普通料钳紧 扎架一端铝线，着色料、电泳料应钳紧扎架的两端铝线。八、氧化工艺 工艺参数：H2SO4 浓度 160-175 g/l，AL3+5；着色产品在氧化后禁止在水槽中长久浸泡，一般浸泡时间应不大于 3 分钟；产品进入着色槽后，应先不通电，浸泡 1 分钟左右，再开始通电着色，着色过程开 始后，约在 30s 内平稳地将着色电压升至 14-18V，然后保持电压稳定不变直至着色完毕；尽可能避免不同品种产品、不同批次产品在同一架上进行着色；