《材料制备与表征》课程教学大纲.docx

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1、材料制备与表征课程教学大纲课程编号: 20821308 总学时数: 48总学分数: 3课程性质: 方向选修适用专业: 应用物理学一、课程的任务和根本要求:本课程包括材料制备技术和材料表征技术,是应用物理学专业光电材料与器件方向的模 块课程。学生通过学习要把握以下根本内容:材料制备技术内容包括晶体构造、晶体缺陷、成核理论、界面的平衡构造、晶体生长动力学、单晶材料的制备、薄膜材料的制备、陶瓷材料的制备、复合材料的制备和材料工程技术,重点是先进人工晶体的材料制备科学与技术。材料表征技术主要包括X 射线衍射分析、电子显微分析、热分析、振动光谱、光电子能谱、穆斯堡尔谱、色谱等各种测试方法的物理原理、仪器

2、的功能和应用范围。学生通过学习可以 把握材料制备技术和常用测试方法,为以后的学习工作和进一步争论打下根底。该课程有部 分内容在其他课程中消灭过,在此只作简洁介绍。二、根本内容和要求:上局部:材料制备技术第一章 晶体构造和晶体缺陷1.1 晶体学根底1.2 空间点阵1.3 米勒指标1.4 密积存与配位数1.5 晶体结合键型1.6 元素晶体构造1.7 几种典型晶体构造1.8 点缺陷1.9 线缺陷1.10 面缺陷目的和要求:把握晶体构造根本学问和晶体中存在的缺陷,分析晶体中缺陷来源种类。其次章 成核理论2.1 相变驱动力2.2 弯曲界面的平衡与相变位垒2.3 均匀成核2.4 非均匀成核2.5 再结晶成

3、核2.6 单相固溶体的凝固目的和要求:把握材料中原子如何结合和生长成核的学问点。第三章 界面的平衡构造3.1 晶体的平衡外形3.2 生长界面构造的根本类型第 1 页/共 5 页3.3 柯塞尔模型3.4 杰克逊模型3.5 特姆金模型目的和要求:了解把握界面的根本种类,不同描述形式之间的区分和特点。第四章 晶体生长动力学4.1 邻位面的生长台阶动力学与运动学4.2 光滑界面的生长4.3 粗糙界面的生长4.4 晶体生长动力学统一理论4.5 晶体生长形态学目的和要求:把握晶体生长的根本理论,晶体界面核动力争论。第五章 单晶材料的制备5.1 气相生长法5.2 水溶液生长法5.3 水热生长法5.4 熔盐生

4、长法5.5 熔体生长法目的和要求:把握单晶材料制备方法,了解不同制备方法的优缺点。第六章 薄膜材料的制备6.1 薄膜的形成机理6.2 物理气相沉积6.3 化学气相沉积6.4 化学溶液镀膜法6.5 液相外延制膜法6.6 膜厚的测量与监控目的和要求:把握薄膜材料形成的机理和常用制备方法。第七章 陶瓷材料的制备7.1 陶瓷的组成相及其构造7.2 陶瓷的制备工艺7.3 装置瓷7.4 电容器陶瓷7.5 压电陶瓷7.6 铁氧体7.7 高温陶瓷目的和要求:把握陶瓷材料组成和不同陶瓷组成的材料制备方法。第八章 复合材料的制备8.1 复合材料的一般概念8.2 颗粒增加复合材料8.3 夹层增加复合材料8.4 纤维

5、增加复合材料8.5 树脂基复合材料8.6 金属基复合材料8.7 陶瓷基复合材料目的和要求:把握常用复合材料的制备方法。第九章 材料工程技术9.1 低维材料9.2 纳米材料与制备技术9.3 金属有机物化学气相沉积9.4 化学束外延和原子层外延9.5 激光沉积与激光釉化9.6 梯度功能材料9.7 智能材料与构造目的和要求:把握型材料功能和制备方法。下局部:材料表征局部 第十章 X 射线衍射分析10.1 X 射线物理根底10.2 X 射线衍射几何条件10.3 单晶体的争论方法10.4 多晶体的争论方法10.5 衍射仪法10.6 X 射线物相分析10.7 晶胞参数的测定目的和要求:把握X 射线的衍射的

6、根底学问和电磁波理论。第十一章 电子显微分析11.1 电子光学根底11.2 电子与固体物质的相互作用11.3 透射电子显微分析11.4 扫描电子显微分析11.5 电子探针X 射线显微分析11.6 分析电子显微镜11.7 电子显微分析在无机非金属材料科学中的应用目的和要求:把握电子显微镜的根本原理,知道不同探针的工作模式。第十二章 热分析12.1 概述12.2 差热分析12.3 热重分析12.4 热膨胀法12.5 其他热分析方法目的和要求:把握掌热分析的根本原理和分析方法。第十三章 振动光谱13.1 振动光谱的根本原理13.2 红外光和红外光谱13.3 红外分光光度计13.4 红外光谱试验技术1

7、3.5 激光拉曼光谱13.6 振动光谱在材料争论中的应用目的和要求:把握振动光谱的根本原理,学会分析红外等分析技术。第十四章 光电子能谱分析14.1 概述14.2 光电子能谱的根本原理14.3 光电子能谱试验技术14.4 光电子能谱的应用14.5 俄歇电子能谱目的和要求:把握光电子能谱的产生和机理,以及在测试中应用。第十五章 穆斯堡尔效应15.1 穆斯堡尔效应物理根底15.2 穆斯堡尔参数15.3 穆斯堡尔谱仪15.4 试验方法目的和要求:把握穆斯堡尔效应的根本原理范围三、实践环节和要求: 无四、教学时数安排:理论:48试验: 0上机:0其它:0教学内容第一章 晶体构造和晶体缺陷其次章 成核理

8、论第三章 界面的平衡构造课第四章 晶体生长动力学第五章 单晶材料的制备第六章 薄膜材料的制备第七章 陶瓷材料的制备第八章 复合材料的制备第九章 材料工程技术合计学时安排433334332教学内容第十章 X 射线衍射分析第十一章 电子显微分析第十二章 热分析第十三章 振动光谱第十四章 光电子能谱分析第十五章 穆斯堡尔效应48学时安排443432五、其它工程含课外学时内容:无六、有关说明:1、教学和考核方式:本课程属必修考察课,考核方式为开卷。2、习题:依据教学实际内容选择书本所附习题。3、力量培育要求:通过对材料制备技术的学习使学生了解常用材料的制备方法,并学会检测材料性能的常用测试技术,以后的工作和学习打下根底。4、与其它课程和教学环节的联系:先修课程和教学环节:需要具备光学,电磁学,电动力学,材料物理,激光原理等物理学问。后续课程和教学环节:平行开设课程和教学环节: 5、教材和主要参考书目:(1) 材料制备与科学技术 朱世富,赵北君 编著,高等教育出版社, 第一版无机非金属材料测试方法,杨南如,武汉理工大学出版社,第一版(2) 主要参考书目:材料分析测试技术材料X 射线衍射与电子显微分析,周玉,武高辉第2 版 材料近代分析测试方法,常铁军,哈尔滨工业大学出版社。

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