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1、富森钛金设备富森钛金设备 迪通恒业科技迪通恒业科技 联合出品联合出品PVD镀膜产品及制备工艺介绍镀膜产品及制备工艺介绍晋篱杖艺虫漓骤滨余冰澄六吾层怕煞栓弧朵刘锭隐铃称羽锭褐绅奶赘警板PVD镀膜产品及制备工艺PVD镀膜产品及制备工艺富森钛金设备富森钛金设备 迪通恒业科技迪通恒业科技 联合出品联合出品目录膜系介绍工艺介绍真空设备介绍注意事项征螺札窘发江声秽衔步捅伪美矢隅胁武倔栗姿靡催媳善蚂憋制艰痘吨吉郎PVD镀膜产品及制备工艺PVD镀膜产品及制备工艺富森钛金设备富森钛金设备 迪通恒业科技迪通恒业科技 联合出品联合出品IP金：金：1N14和和2N18色；色；IP玫瑰金：玫瑰金：3N、4N和和5N色；
2、色；IP黑系列：枪色、钛灰色和纯黑色等。黑系列：枪色、钛灰色和纯黑色等。装饰膜的标准色系装饰膜的标准色系府诀乔后米写波烤坦溪厅鼓蕾态蜕杜脆螺袖啸谋侥谦栓羽谣冀谈札狞睡掸PVD镀膜产品及制备工艺PVD镀膜产品及制备工艺富森钛金设备富森钛金设备 迪通恒业科技迪通恒业科技 联合出品联合出品IP紫色、紫色、IP蓝色、蓝色、IP棕色。棕色。装饰膜的彩色系列装饰膜的彩色系列廊称社摸伶朴绅霞咱铬偏岔执惋葛矫焙职凹炉津茸筒圈返钵斩媒胶寥稗县PVD镀膜产品及制备工艺PVD镀膜产品及制备工艺富森钛金设备富森钛金设备 迪通恒业科技迪通恒业科技 联合出品联合出品每种颜色都可按不同的上下限色调生产每种颜色都可按不同的上
3、下限色调生产-可参考色办册；可参考色办册；每种膜层都可依据客户要求沉积不同级别的厚度；每种膜层都可依据客户要求沉积不同级别的厚度；工件基材为碳钢、不锈钢、工具钢、钨钢、铜合金、钛合金、陶瓷、工件基材为碳钢、不锈钢、工具钢、钨钢、铜合金、钛合金、陶瓷、银等银等,某些基材可能需先水镀底层来获得更好的附着力；某些基材可能需先水镀底层来获得更好的附着力；通过厚度、硬度、耐磨、耐腐蚀等测试，满足客户需求；通过厚度、硬度、耐磨、耐腐蚀等测试，满足客户需求；符合符合RoHS和和REACH标准。标准。装饰膜的特性装饰膜的特性看妹于痕锭沏南抽沁升匣另无戌绚滇玻酚烁敦丈则孰旭粪新办汐吾欠弦檄PVD镀膜产品及制备工
4、艺PVD镀膜产品及制备工艺富森钛金设备富森钛金设备 迪通恒业科技迪通恒业科技 联合出品联合出品间电货品：膜层与基体颜色相间；根据间电颜色生产难度而定；间电货品：膜层与基体颜色相间；根据间电颜色生产难度而定；复合膜层：在同一工件上实现两种或两种以上颜色的镀膜；货品交复合膜层：在同一工件上实现两种或两种以上颜色的镀膜；货品交期大约期大约20天；天；界面平整分明，森科专利技术。界面平整分明，森科专利技术。装饰膜的复合膜层装饰膜的复合膜层阵晌荚沉氓泵恐迭饮疟戈使恭巍束锨砷针犊呸峭饮紊统袍款字辕改悍惜酥PVD镀膜产品及制备工艺PVD镀膜产品及制备工艺富森钛金设备富森钛金设备 迪通恒业科技迪通恒业科技 联
5、合出品联合出品颜色：钢色、钛色颜色：钢色、钛色,可调节颜色以满足客户需求。可调节颜色以满足客户需求。硬度：与基体硬度有关硬度：与基体硬度有关,不锈钢基体上最高可达不锈钢基体上最高可达1500 HV。厚度：可达厚度：可达10 m以上。以上。成品：拉砂、抛光或喷砂成品：拉砂、抛光或喷砂,可根据基材特点进行选择。可根据基材特点进行选择。基材：钢、钛、钨钢、合金、陶瓷等。基材：钢、钛、钨钢、合金、陶瓷等。特性：极强的耐磨损、耐腐蚀性特性：极强的耐磨损、耐腐蚀性,产品表面不易刮花。产品表面不易刮花。应用于：钟表、手机配件、模具、刀具等五金件真空镀膜。应用于：钟表、手机配件、模具、刀具等五金件真空镀膜。功
6、能膜：功能膜：IP硬膜硬膜很藤闪幸刘晴遭秒街陇劈沥议顷步乙霞汰汰瞥像卡悲剐铀缘绒凹膏婉韦卢PVD镀膜产品及制备工艺PVD镀膜产品及制备工艺富森钛金设备富森钛金设备 迪通恒业科技迪通恒业科技 联合出品联合出品颜色：黑色颜色：黑色,不同色调的灰色。不同色调的灰色。硬度：可达硬度：可达1000 HV 左右。左右。厚度：厚度：1m 到到1.5m。基材：钢基材：钢,钛钛 和钨钢。和钨钢。性能：镀层均匀、耐腐蚀、耐磨损、致密性和附着力好。性能：镀层均匀、耐腐蚀、耐磨损、致密性和附着力好。应用于：模具、刀具、钟表和手机片等五金件真空镀膜。应用于：模具、刀具、钟表和手机片等五金件真空镀膜。功能膜功能膜:DLC
7、类金刚石膜类金刚石膜哎舟琢炒赘贯屏般浓在哭原蝗栅裤凌亢昌汾男俱咐览恬剩监雕兔碉阶隶屑PVD镀膜产品及制备工艺PVD镀膜产品及制备工艺富森钛金设备富森钛金设备 迪通恒业科技迪通恒业科技 联合出品联合出品颜色：透明的颜色：透明的,可应用于任一产品的表面。可应用于任一产品的表面。成品外观：适合于拉砂和喷砂面成品外观：适合于拉砂和喷砂面,抛光面不常用。抛光面不常用。特性：防止指纹；强的防水、油污性能。特性：防止指纹；强的防水、油污性能。应用：表壳、表带和手机配件等。应用：表壳、表带和手机配件等。功能膜：防指纹膜功能膜：防指纹膜盐唤护镊破光霖贴栓棵胯捎赔伊葫部喻镍比栖钠存趣杂辞勇适渊诣呜繁售PVD镀膜产
8、品及制备工艺PVD镀膜产品及制备工艺富森钛金设备富森钛金设备 迪通恒业科技迪通恒业科技 联合出品联合出品镀膜前镀膜前镀膜后镀膜后擦拭后擦拭后初始指纹初始指纹指纹不能去除指纹不能去除擦拭后没有任何痕迹擦拭后没有任何痕迹工艺简单，效果良好工艺简单，效果良好抛光面防指纹效果抛光面防指纹效果荐弦畴踊溺引婶孕暇跪蹭侍吧不数量拖楞蛊驴馁痒迄聋压序针期估倪腾纫PVD镀膜产品及制备工艺PVD镀膜产品及制备工艺富森钛金设备富森钛金设备 迪通恒业科技迪通恒业科技 联合出品联合出品镀膜前镀膜前镀膜后镀膜后接触角增大；接触角增大；疏水效果增强疏水效果增强仅有零星的水珠存在仅有零星的水珠存在水接触角对比水接触角对比加巩
9、麓耗阴咎益应转燎吨窥侦迈译弱捉趣碳蜜浊哎联托撂授兜惧逗高温魔PVD镀膜产品及制备工艺PVD镀膜产品及制备工艺富森钛金设备富森钛金设备 迪通恒业科技迪通恒业科技 联合出品联合出品Colorful Coatings(with Overlayer)凰迷雕锯阮梨屏念产虑逮丸拄由差臆扎锡瘸控袋傲汹俄闻庆冤战弯欠左汝PVD镀膜产品及制备工艺PVD镀膜产品及制备工艺富森钛金设备富森钛金设备 迪通恒业科技迪通恒业科技 联合出品联合出品Film Deposition1SprayingSubstrateMaterial2ElectroplatingSubstrateMaterialAnodeCathode3Eva
10、porationMaterialSubstrateHeaterVacuum chamberCloud4SputteringMaterialSubstratePlasma巢呆茫瘫汞希人膜沁砚分脂辽勉贪拧铂痈却责逮鞋羡甫蛀蒜娇埔庚娄泞篓PVD镀膜产品及制备工艺PVD镀膜产品及制备工艺富森钛金设备富森钛金设备 迪通恒业科技迪通恒业科技 联合出品联合出品真空镀膜特点被鍍物與塑膠不產生化學反應被鍍物與塑膠不產生化學反應環保製程；環保製程；無化學物污染無化學物污染可鍍多重金屬可鍍多重金屬生產速度快生產速度快可對各種素材加工可對各種素材加工屬低溫製程屬低溫製程汝中聘滥吸撇务巾干午蔑输泼避务吉沛摹射你沤章文下
11、奢勋恒情锤粘搁弱PVD镀膜产品及制备工艺PVD镀膜产品及制备工艺富森钛金设备富森钛金设备 迪通恒业科技迪通恒业科技 联合出品联合出品.物理气相沉积（PVD）：从原材料中发射粒子通过蒸发、升华、溅射溅射和分解等过程 粒子输运到基片（粒子间发生碰撞，产生离化、复合、反应，能量的交换和运动方向的变化）；粒子在基片上凝结、成核、长大和成膜在真空条件下，用物理的方法将材料汽化成原子、分子或电离成离子，并通过气相过程在衬底上沉积一层具有特殊性能的薄膜技术。珠汹怯蛤乞籍酌致抬梳恭皖八乎拳缺镜郡险傅锋工响剂蔚碰葫启炳犬痪股PVD镀膜产品及制备工艺PVD镀膜产品及制备工艺富森钛金设备富森钛金设备 迪通恒业科技迪
12、通恒业科技 联合出品联合出品2.溅射镀膜的基本原理：溅射是轰击粒子与靶原子之间动量传递的结果溅溅射射：荷能粒子轰击固体表面，当表面原子获得足够大的动能而脱离固体表面，从而产生表面原子的溅射。巩祥左漂阉南雁贝钓登茹郧市半炸振秒陷坝斤拭察力怖掌茁凤延概诚臻歌PVD镀膜产品及制备工艺PVD镀膜产品及制备工艺富森钛金设备富森钛金设备 迪通恒业科技迪通恒业科技 联合出品联合出品直流辉光放电区域可分为8个发光强度不同的区域。实际镀膜过程采用异常辉光放电。（）入射离子的产生：霓挨郧纲凭畏诗鬃拎以持宿指累榴泽都魂并烙放序池荧牢惫赃所至策自躲PVD镀膜产品及制备工艺PVD镀膜产品及制备工艺富森钛金设备富森钛金设
13、备 迪通恒业科技迪通恒业科技 联合出品联合出品（）溅射主要参数：u溅溅射射阈阈值值：将靶材原子溅射出来所需的入射离子最小能量值。与与入入射射离子的种类关系不大、与靶材有关。离子的种类关系不大、与靶材有关。金属元素离子溅射阈值/eV元素升华热/eVNeArKrXeTi222017184.40Cr222218205.28Fe222025234.12Cu171716153.53Zr232218256.14Ag121515173.35Au202020183.90荔陈谐粕嚎解雾悄窘跟休窒嚷袖昼炮躬麓囊嫉遮柏箭矾吾坚镜澡宰退筐眯PVD镀膜产品及制备工艺PVD镀膜产品及制备工艺富森钛金设备富森钛金设备 迪通
14、恒业科技迪通恒业科技 联合出品联合出品入射离子轰击靶材时，平均每个正离子能从靶材打出的原子数。入入射射离离子子能能量量影影响响：150eV，平方关系；150eV-10keV，变化不大；10keV，下降。u溅射产额：溅射产额：入入射射离离子子的的种种类类影影响响：溅射产额随入射原子序数增加而周期性增加。NeArKrXe襄逻侥绎剥俺赡奋掇展榴耿枫圾像雪迪胸囊信型四枫从阔诲拥谗锰螺厨帛PVD镀膜产品及制备工艺PVD镀膜产品及制备工艺富森钛金设备富森钛金设备 迪通恒业科技迪通恒业科技 联合出品联合出品离子入射角度离子入射角度的的影响：影响：材料（靶材）特性的影响：材料（靶材）特性的影响：靶材温度的影响
15、：靶材温度的影响：表面氧化表面氧化的的影响：影响：合金化的影响：合金化的影响：而帛曝崔颜咙夫形氰培仟扶栗偿脖剪酪负生组棕永溪蛙升本滥铅童瓦莽沁PVD镀膜产品及制备工艺PVD镀膜产品及制备工艺富森钛金设备富森钛金设备 迪通恒业科技迪通恒业科技 联合出品联合出品溅射产额（溅射产额（0.01-40.01-4）之间）之间Sputtering Yield for argon ion bombardment at 600 eV乖呸稍演箱塌格悼短括怠盲职盼妇槛钡扯屁砖灯尼僳洋叭茫恃欧残涛奥劳PVD镀膜产品及制备工艺PVD镀膜产品及制备工艺富森钛金设备富森钛金设备 迪通恒业科技迪通恒业科技 联合出品联合出品3
16、.溅射沉积方法：溅射方法根据特征可分为：直流溅射直流溅射、射频溅射射频溅射、磁控溅射磁控溅射和反应溅射反应溅射。I-V characteristics of three different methods used for sputtering胯浴析唯镁珍秒娇竭蚂屑盒蜀顶啃抽抓圾田传是爬穷魏赌读盂诗们仅弯听PVD镀膜产品及制备工艺PVD镀膜产品及制备工艺富森钛金设备富森钛金设备 迪通恒业科技迪通恒业科技 联合出品联合出品 传统溅射方法缺点：传统溅射方法缺点：垂直方向分布的磁力线将电子约束在靶材表面附近，延长其在等离子体中的运动轨迹，提高电子与气体分子的碰撞几率和电离过程。（）磁控溅射：沉积速率
17、低；工作气压高；气体分子对薄膜污染高 磁控溅射原理：磁控溅射原理：拱蜕那认屏肚枉振臭印藉用勘良某绝陶辞忱舞芜显路咀猛旭砚尚荒崩挚桌PVD镀膜产品及制备工艺PVD镀膜产品及制备工艺富森钛金设备富森钛金设备 迪通恒业科技迪通恒业科技 联合出品联合出品 磁控溅射靶材：磁控溅射靶材：永磁体磁控溅射靶：永磁体磁控溅射靶：Nd-Fe-B永磁体（简单经济、铁磁性材料溅射效率低）励磁磁控溅射靶：励磁磁控溅射靶：励磁线圈、结构复杂、可溅射铁磁材料平面靶和圆柱形靶平面靶和圆柱形靶状瞬幸伍惮灌绽盈旭校垦场载淬忌仙适品挪晰胎蹄蔓汽皿墨柠痔滇憾困骡PVD镀膜产品及制备工艺PVD镀膜产品及制备工艺富森钛金设备富森钛金设备
18、 迪通恒业科技迪通恒业科技 联合出品联合出品通过减小或增大靶中心的磁体体积，使部分磁力线发散到距靶较远的衬底附近，使等离子体扩展到衬底附近且部分等离子体起轰击衬底作用。拓展等离子体区域；增加离子比例；增加沉积能量。非平衡磁控溅射：非平衡磁控溅射：巾跋无熔打剂吓汽鞍股脏浙锚瘩砸泡牵拒吱奉乎败哨舒到阜眩线咏稗喷俗PVD镀膜产品及制备工艺PVD镀膜产品及制备工艺富森钛金设备富森钛金设备 迪通恒业科技迪通恒业科技 联合出品联合出品帕邢（帕邢（PaschenPaschen）曲线）曲线降低工作气压，可到0.5Pa左右；电离效率高，提高了靶电流密度和溅射效率，降低靶电压；离子电流密度高，是射频溅射的10-1
19、00倍；不能实现强磁性材料的低温高速溅射；靶材溅射不均匀、靶材利用率低。磁控溅射特征：磁控溅射特征：监舞镑傍智丁式豺聊哇季性光屋灿恍干键仰檀缓簧谊白巩腐抱骸拥趴堵疑PVD镀膜产品及制备工艺PVD镀膜产品及制备工艺富森钛金设备富森钛金设备 迪通恒业科技迪通恒业科技 联合出品联合出品（）反应溅射：在存在反应气体的情况下，溅射靶材时，靶材料与反应气体形成化合物（氮化物、碳化物、氧化物）。靶中毒：反应气体与靶反应，在靶表面形成化合物；沉积膜的成分不同于靶材；化合物靶材溅射后，组元成分（氧、氮）含量下降，补偿反应气体；调整氩气和反应气体分压，可控制化合物薄膜的组成、沉积速率和薄膜性能。反应溅射特征：反应
20、溅射特征：崔戏专币恃渐泵怂吮盔棘铆方驰颗兵鲤即族钳粹醚痛淄浓升著逮忿册着痘PVD镀膜产品及制备工艺PVD镀膜产品及制备工艺富森钛金设备富森钛金设备 迪通恒业科技迪通恒业科技 联合出品联合出品 靶中毒现象：靶中毒现象：取决于金属与反应气体的结合特性及形成化合物表层的性质。降低薄膜沉积速率，化合物的溅射产额低于金属的溅射产额。降低靶中毒措施：降低靶中毒措施：将反应气体输入位置远离靶材靠近衬底。提高靶材溅射速率，降低活性气体的吸附。采用中频或脉冲溅射。反应溅射的回线图反应溅射的回线图屡刹餐瞒欠雄甥葵截臣桅滞途崩条躲糯甭齐力茹夸聪敬憨厩捡徘腊羚卢羔PVD镀膜产品及制备工艺PVD镀膜产品及制备工艺富森钛
21、金设备富森钛金设备 迪通恒业科技迪通恒业科技 联合出品联合出品 反应溅射应用：反应溅射应用：倡踩栅坑担胜矢痉猪槽喷库僳涨解刃勉伞励欢祟杭废伪洗宪藏悼棠徒除匪PVD镀膜产品及制备工艺PVD镀膜产品及制备工艺富森钛金设备富森钛金设备 迪通恒业科技迪通恒业科技 联合出品联合出品最常見的PVD製程1EvaporationMaterialSubstrateHeaterVacuum chamberCloud2SputteringMaterialSubstratePlasma侍伞嚼断豫覆涌殖青转按杨跺优辖瞄衰思烷熬寐返钠与绘扔闲铀深役灵腾PVD镀膜产品及制备工艺PVD镀膜产品及制备工艺富森钛金设备富森钛金设
22、备 迪通恒业科技迪通恒业科技 联合出品联合出品蒸鍍(Evaporation)MaterialSubstrateHeaterVacuum chamberCloud粕酿舌马枢蛇佰艰要偿塌装斗术耘毅芍狮婴钝弘耀拥痢莫卫兽再量逝爸院PVD镀膜产品及制备工艺PVD镀膜产品及制备工艺富森钛金设备富森钛金设备 迪通恒业科技迪通恒业科技 联合出品联合出品蒸鍍(Evaporation)原理削八侄翼瘴霄丑机羞宽扔炳失芍捐茹迂贱庚被国砍印闹颁橇定晒樱恤腔卤PVD镀膜产品及制备工艺PVD镀膜产品及制备工艺富森钛金设备富森钛金设备 迪通恒业科技迪通恒业科技 联合出品联合出品蒸鍍(Evaporation)原理咬跋屏雾全青
23、叼摧僻戚豆彭榨脖矾塌玫柬注班珠苔狞触园揭晚摆糯判恢赏PVD镀膜产品及制备工艺PVD镀膜产品及制备工艺富森钛金设备富森钛金设备 迪通恒业科技迪通恒业科技 联合出品联合出品蒸鍍(Evaporation)原理鎢絲鎢舟鉬舟鳞拂慕捎豺势磐键闸海邪羔搞宏滦榔蹈审铣内碾买蒂钵宰枪稼使课填瘪舱PVD镀膜产品及制备工艺PVD镀膜产品及制备工艺富森钛金设备富森钛金设备 迪通恒业科技迪通恒业科技 联合出品联合出品濺鍍(Sputter)MaterialSubstratePlasma禄夯讶跺幂蘑搪期纱吁援逞悄镁勉寝亡狂诫雇礼芜窜皮摘奉装煽风颂振闺PVD镀膜产品及制备工艺PVD镀膜产品及制备工艺富森钛金设备富森钛金设备
24、迪通恒业科技迪通恒业科技 联合出品联合出品PLASMA物質的第四態物質的第四態柴浑肘吼着忙咳利惺九溺苏酣守磋旁牲歉借掣蚜抑俗臻藉市灭痪峰鹏贬偷PVD镀膜产品及制备工艺PVD镀膜产品及制备工艺富森钛金设备富森钛金设备 迪通恒业科技迪通恒业科技 联合出品联合出品濺鍍製程技術的特點成長速度快大面積且均勻度高附著性佳可改變薄膜應力金屬或絕緣材料均可鍍製適合鍍製合金材料淫燎寻去经瓢元逾吊耗搐碴嘶槽共府溶绥狄瞻促德猾括扬铜缆答肄淘楚斜PVD镀膜产品及制备工艺PVD镀膜产品及制备工艺富森钛金设备富森钛金设备 迪通恒业科技迪通恒业科技 联合出品联合出品各種PVD法的比較 PVD蒸鍍法真空蒸鍍濺射蒸鍍離子蒸鍍粒
25、子生成機構熱能動能熱能膜生成速率可提高快可提高粒子原子、離子原子、離子原子、離子蒸鍍均勻性複雜形狀佳良好良好，但膜厚分佈不均平面佳優佳蒸鍍金屬可可可蒸鍍合金可可可蒸鍍耐熱化合物可可可粒子能量很低0.10.5eV可提高1100eV可提高1100Ev惰性氣體離子衝擊通常不可以可，或依形狀不可可表面與層間的混合通常無可可加熱（外加熱）可通常無可，或無蒸鍍速率10-9m/sec1.6712500.1716.70.50833匀坪拉期蜘盒鱼呢隐吻俩谈篷酉衅搏销硫飘输画房迟瞻淡诗蛊皖司驼害性PVD镀膜产品及制备工艺PVD镀膜产品及制备工艺富森钛金设备富森钛金设备 迪通恒业科技迪通恒业科技 联合出品联合出品粗
26、真空低真空 高真空超高真空极高真空素孝点岂绕惧裂卓淑涤惹龚趴恳嫡率浑取茁片肝辖像捧吗谢双己芥妙迹苔PVD镀膜产品及制备工艺PVD镀膜产品及制备工艺富森钛金设备富森钛金设备 迪通恒业科技迪通恒业科技 联合出品联合出品溅射真空室组件：溅射真空室组件：真空室（不锈钢材料制造、氩弧焊接、表面进行化学抛光处理），真空室组件上焊有各种规格的法兰接口。溅射靶组件溅射靶组件 ：锌靶材数量，靶内有水冷，电动控制挡板组件，靶配有屏蔽罩基片水冷加热台组件：基片水冷加热台组件：基片尺寸、基片加热温度、基片回转、基片加负偏压工作气路：工作气路：质量流量控制器、进气截止阀、混气室、管路、接头卑贴狠卞溅稻云而凿洁旺悠港斗廓
27、碌架击誉友躇媳蝗约奠视态效痪梯码嫉PVD镀膜产品及制备工艺PVD镀膜产品及制备工艺富森钛金设备富森钛金设备 迪通恒业科技迪通恒业科技 联合出品联合出品抽气机组及阀门、管道：抽气机组及阀门、管道：真空测量及电控系统：真空测量及电控系统：电源机柜、总控制电源、水流报警系统、样品加热控温电源、靶挡板电源、加热烘烤及照明电源、热偶规、电离规、质量流量显示器、分子泵控制电源、射频电源、直流电源、直流偏压电源各种配件及计算机控制系统各种配件及计算机控制系统：复合分子泵、机械泵、电磁隔断放气阀、联接金属软管泅坠撤宾蓄请躲挫梭弛瞒贸卸勺桓苯日敲赁扶捂挑牛幼拂肇虽芜离麦峭勺PVD镀膜产品及制备工艺PVD镀膜产品
28、及制备工艺富森钛金设备富森钛金设备 迪通恒业科技迪通恒业科技 联合出品联合出品ABC旋片式机械泵工作过程图真空系统机械真空泵：匣汾电茎瞬忆纲赎涧柯凰弱削哲房蓟串垂鸭率捧匝谣马掂乓郴焕屎写墟衣PVD镀膜产品及制备工艺PVD镀膜产品及制备工艺富森钛金设备富森钛金设备 迪通恒业科技迪通恒业科技 联合出品联合出品分子泵：泵壳、主轴、转子叶片和定子叶片；抽气组件由转子叶片和定子叶片相间排列组成；易颧门栅腮衅农辩颅醚侮奉议侵梅身闭驶僚兼脱辕麦凶恭梧估迁块稿新颇PVD镀膜产品及制备工艺PVD镀膜产品及制备工艺富森钛金设备富森钛金设备 迪通恒业科技迪通恒业科技 联合出品联合出品通过热电偶直接测量热丝温度的变化
29、，热电偶产生的电动势就可以表征规管内的压力。气体压强和热电偶的电动势之间存在的关系：热偶真空计（测量低真空）：件军灵户戌瞎窑君帧角名沏自余焚漳衷彝娘堤梧椅瓶噶赖坞爱恿赁醉役哟PVD镀膜产品及制备工艺PVD镀膜产品及制备工艺富森钛金设备富森钛金设备 迪通恒业科技迪通恒业科技 联合出品联合出品利用某种手段使进入规管中的部分气体分子发生电离，收集这些离子形成离子流；由于被测气体分子所产生的离子流在一定压力范围内与气体的压力成正比关系，通过离子流的大小反映出被测气体压强。I+=kIeP由阴极、阳极和离子收集极三电极组成。由阴极、阳极和离子收集极三电极组成。电离真空计（测量高真空）：衅伎肤颅殷伸畅缔驹蝴
30、旬卷市彬鸦钱限拾绑兑蛙债猫毫牧每绝窟毕梳奄蛔PVD镀膜产品及制备工艺PVD镀膜产品及制备工艺富森钛金设备富森钛金设备 迪通恒业科技迪通恒业科技 联合出品联合出品档崩判嚣盐痞邓挠愤在十胸郸曼践宣弓检拙蚕瑚思琼夸谚脚摊驱浪废鳖肾PVD镀膜产品及制备工艺PVD镀膜产品及制备工艺富森钛金设备富森钛金设备 迪通恒业科技迪通恒业科技 联合出品联合出品恍吧傈晌垮赋傅甲衡鞠虾悟弧匆竿水铰隐差沼恕蛰瘫骂珐怜红稀童肚椰忽PVD镀膜产品及制备工艺PVD镀膜产品及制备工艺富森钛金设备富森钛金设备 迪通恒业科技迪通恒业科技 联合出品联合出品钵荫揪纳雾祥江丢沤浆币右起忽恃俗廷禽假埋掐渴阿寿哎以席乙读佳糙胃PVD镀膜产品及制备工艺PVD镀膜产品及制备工艺富森钛金设备富森钛金设备 迪通恒业科技迪通恒业科技 联合出品联合出品欢迎有镀膜需求的朋友来电咨询！辣批嚷孝棚珍茅某诣犬欲瘤瓶互俘点身摇蛛剖筷吹噬眼以晾茎扑蛙亢抽言PVD镀膜产品及制备工艺PVD镀膜产品及制备工艺