[精选]半导体器件与工艺(3)4515.pptx

上传人:muj****520 文档编号:91035960 上传时间:2023-05-21 格式:PPTX 页数:90 大小:947.93KB
返回 下载 相关 举报
[精选]半导体器件与工艺(3)4515.pptx_第1页
第1页 / 共90页
[精选]半导体器件与工艺(3)4515.pptx_第2页
第2页 / 共90页
点击查看更多>>
资源描述

《[精选]半导体器件与工艺(3)4515.pptx》由会员分享,可在线阅读,更多相关《[精选]半导体器件与工艺(3)4515.pptx(90页珍藏版)》请在taowenge.com淘文阁网|工程机械CAD图纸|机械工程制图|CAD装配图下载|SolidWorks_CaTia_CAD_UG_PROE_设计图分享下载上搜索。

1、双极型晶体管双极型晶体管哈尔滨工程大学哈尔滨工程大学微电子学微电子学半导体器件与工艺半导体器件与工艺双极型晶体管双极型晶体管n晶体管的基本结构和分类双极型晶体管双极型晶体管n晶体管的制造工艺和杂质分布双极型晶体管双极型晶体管n晶体管的制造工艺和杂质分布双极型晶体管双极型晶体管n晶体管的制造工艺和杂质分布双极型晶体管双极型晶体管n晶体管的制造工艺和杂质分布双极型晶体管双极型晶体管n均匀基区晶体管和缓变基区晶体管 均匀基区晶体管的基区杂质是均匀分布的,载流子在基区内的传输主要靠扩散机理进行,又称扩散型晶体管。缓变基区晶体管的基区杂质是缓变的,载流子在基区内的传输除了靠扩散运动外,还存在漂移运动且往

2、往以漂移运动为主,又称漂移型晶体管。双极型晶体管双极型晶体管n晶体管的电流放大原理假设条件:发射区与集电区宽度远大于少子扩散长度,基区宽度远小于少子扩散长度。发射区与集电区电阻率足够低,外加电压全部降落在势垒区,势垒区外无电场。发射结和集电结空间电荷区宽度远小于少子扩散长度,且不存在载流子的产生与复合。各区杂质均匀分布,不考虑表面的影响,且载流子仅做一维传输。小注入,即注入的非平衡少子浓度远小于多子浓度。发射结和集电结为理想突变结,且面积相等。双极型晶体管双极型晶体管n平衡晶体管的能带和载流子的分布双极型晶体管双极型晶体管n非平衡晶体管的能带和载流子的分布双极型晶体管双极型晶体管n晶体管载流子

3、的传输双极型晶体管双极型晶体管n晶体管载流子的传输n 发射结正向偏置发射电子n 载流子在基区的传输与复合n 集射结反向偏置收集电子晶体管的直流电流放大系数晶体管的直流电流放大系数 n晶体管电流放大系数和电流放大能力(1)共基极直流电流放大系数 表征从发射极输入的电流中有多大比例传输到集电极成为输出电流,或者说由发射极发射的电子有多大比例传输到了集电极。共基极接法的晶体管不能放大电流,但由于集电极允许接入阻抗较大的负载,所以仍能够获得电压放大和功率放大。n晶体管电流放大系数和电流放大能力(2)共射极直流电流放大系数 共发射极电路是用 去控制 以实现电流放大的。晶体管的直流电流放大系数晶体管的直流

4、电流放大系数 n晶体管电流放大系数和电流放大能力(3)与 的关系晶体管的直流电流放大系数晶体管的直流电流放大系数 n晶体管电流放大系数和电流放大能力(4)晶体管具有放大能力所满足的条件(以NPN管为例)发射区高掺杂,能发射大量电子;基区低掺杂且基区宽度窄,减少电子的复合损失;发射结正向偏置,发射电子;集射结反向偏置,收集电子。晶体管的直流电流放大系数晶体管的直流电流放大系数 晶体管的直流电流放大系数晶体管的直流电流放大系数n均匀基区晶体管电流放大系数晶体管的直流电流放大系数晶体管的直流电流放大系数n均匀基区晶体管电流放大系数为什么 总是小于?主要原因在于发射极发射的电子在传输到集电极的过程中,

5、有两个阶段电子会损失:一是发射区的电于与来自基区的少子空穴的复合损失,该复合形成了空穴电流;一是电子在穿越基区往集电结扩散的过程中,与基区中空穴的复合损失,形成体内复合电流。晶体管的直流电流放大系数晶体管的直流电流放大系数n均匀基区晶体管电流放大系数为了表征两个阶段电子损失的比例大小,再定义两个参量:发射效率:基区输运系数:晶体管的直流电流放大系数晶体管的直流电流放大系数n缓变基区晶体管电流放大系数发射效率:基区输运系数:晶体管的直流电流放大系数晶体管的直流电流放大系数 1.在N型硅片上经硼扩散后,得到集电结结深 ,有源基区方块电阻 ,再经磷扩散后,得发射结结深 ,发射区方块电阻 。设基区少子

6、寿命 ,基区少子扩散系数扩散系数 ,基区自建场因子 ,试求该晶体管的电流放大系数 与 分别为多少?晶体管的直流电流放大系数晶体管的直流电流放大系数 2.在基区掺杂浓度随距离按指数式变化的缓变基区晶体管中,基区自建电场强度为常数。如果基区宽度为0.3 的晶体管中存在500 的均匀基区自建电场,基区中靠近发射结一侧的掺杂浓度是 ,试问基区中靠近集电结一侧的掺杂浓度为多少?提高发射区掺杂浓度,增大正向注入电流;减小基区宽度,减少复合电流;提高基区杂质分布梯度,以提高电场因子;提高基区载流子寿命和迁移率,以增大载流子的扩散长度。晶体管的直流电流放大系数晶体管的直流电流放大系数晶体管基区宽变效应晶体管基

7、区宽变效应晶体管的直流电流放大系数晶体管的直流电流放大系数 习题1 在材料种类相同、掺杂浓度分布相同、基区宽度相同的条件下、PNP晶体管和NPN晶体管相比,哪种晶体管的发射结注入效率较大?哪种晶体管的基区输运系数较大?影响晶体管的直流电流放大系数的因素影响晶体管的直流电流放大系数的因素发射结空间电荷区复合对电流放大系数的影响影响晶体管的直流电流放大系数的因素影响晶体管的直流电流放大系数的因素发射区重掺杂对电流放大系数的影响影响晶体管的直流电流放大系数的因素影响晶体管的直流电流放大系数的因素基区宽变效应对电流放大系数的影响影响晶体管的直流电流放大系数的因素影响晶体管的直流电流放大系数的因素温度对

8、电流放大系数的影响晶体管的直流伏安特性曲线(共基极)晶体管的直流伏安特性曲线(共基极)晶体管的直流伏安特性曲线(共射极)晶体管的直流伏安特性曲线(共射极)两种组态输出特性曲线比较两种组态输出特性曲线比较(1)电流放大系数的差别(2)增大对电流放大系数的影响(3)减小对输出电流的影响晶体管的穿通电压晶体管的穿通电压(基区穿通)(基区穿通)晶体管的穿通电压晶体管的穿通电压(外延层穿通)(外延层穿通)外延层穿通所决定的击穿电压外延层厚度 3.已 知 某 硅 NPN均 匀 基 区 晶 体 管 的 基 区 宽 度 ,基区掺杂浓度 ,集电区掺杂浓度 ,试求当 、时电流放大系数如何变化并计算厄尔利电压。晶体

9、管的直流电流放大系数晶体管的直流电流放大系数 4.某厂在试制晶体管时,由于不注意清洁卫生,在高温扩散时引入了金、镍等杂质,结果得到如图所示的晶体管输出特性曲线。你能否说明这个输出特性曲线与标准输出特性曲线的差别在哪里,原因是什么?晶体管的直流电流放大系数晶体管的直流电流放大系数 5.某厂在试制NPN平面管时,发现所得到的输出特性曲线为“靠背椅”式,如图所示。你能否用基区表面形成反省层(即所谓“沟道”)来解释这种输出特性曲线?晶体管的直流电流放大系数晶体管的直流电流放大系数 6.某厂在试制某种晶体管时,发现输出特性曲线“过度倾斜”,如图所示。你能否用制造过程不当,使基区过薄来解释此种现象?晶体管

10、的直流电流放大系数晶体管的直流电流放大系数 7.某厂在试制某种晶体管时,发现输出特性曲线如图所示。你能否用集电极有较大的串联电阻(如欧姆接触电阻之类)来解释此种现象?如何改进工艺条件来避免此种现象?晶体管的直流电流放大系数晶体管的直流电流放大系数 8.某厂在试制某种晶体管时,发现输出特性曲线如图所示。你能否用集电结在表面处有很大的漏电流来解释此种现象?晶体管的频率特性晶体管的频率特性晶体管的频率特性晶体管的频率特性晶体管的频率特性曲线和极限频率参数晶体管的频率特性曲线和极限频率参数晶体管的频率特性曲线和极限频率参数晶体管的频率特性曲线和极限频率参数提高特征频率的途径提高特征频率的途径1、减小基

11、区宽度,并采用扩散基区。2、尽量减小发射极面积。3、基区扩散的薄层电阻大些,即基区杂质浓度 稍低些,也有利于提高特征频率。4、减小集电结面积,适当降低集电区电阻率。晶体管的噪声晶体管的噪声噪声系数噪声系数 采用信号噪声比(即信号功率与噪声功率之比,简称信噪比)来衡量噪声的大小。常用晶体管的输入信号噪声比同输出信号噪声比的比值来标志晶体管的噪声特性,这个比值就叫噪声系数。晶体管的噪声晶体管的噪声 噪声来源噪声来源 (1)热噪声 杂乱无章的热运动叠加在载流子的有规则的运动之上,就会引起电流的起伏,成为噪声。(2)散粒噪声 半导体中载流子的产生、复合过程有涨有落,参加导电的载流 于数目将在其平均值

12、附近起伏,这种由载流子数目起伏而引起的噪声。(3)噪声 在半导体中还存在着一种影响很大的噪声,叫做噪声,这种噪声同频率有关,频率越低,噪声越大。晶体管的功率特性晶体管的功率特性 基区大注入效应基区大注入效应 (1)大注入基区电大调制效应和自建电场)大注入基区电大调制效应和自建电场 (2)大注入基区少子分布)大注入基区少子分布晶体管的功率特性晶体管的功率特性基区扩展效应基区扩展效应晶体管的功率特性晶体管的功率特性基区扩展效应基区扩展效应晶体管的功率特性晶体管的功率特性基区扩展效应基区扩展效应晶体管的功率特性晶体管的功率特性 基区纵向扩展效应基区纵向扩展效应晶体管的功率特性晶体管的功率特性基区横向

13、扩展效应基区横向扩展效应晶体管的功率特性晶体管的功率特性基区扩展效应对电特性的影响基区扩展效应对电特性的影响晶体管的功率特性晶体管的功率特性 发射极电流集边效应发射极电流集边效应晶体管的功率特性晶体管的功率特性 发射极电流集边效应发射极电流集边效应晶体管的功率特性晶体管的功率特性 发射极电流集边效应发射极电流集边效应晶体管的功率特性晶体管的功率特性 发射极电流集边效应发射极电流集边效应晶体管的功率特性晶体管的功率特性 发射极电流集边效应发射极电流集边效应晶体管的功率特性晶体管的功率特性 发射极电流集边效应发射极电流集边效应晶体管的功率特性晶体管的功率特性 集电结最大耗散功率集电结最大耗散功率

14、集电结最大耗散功率是晶体管参数的变化不超过规定值时的最大集电结耗散功率。晶体管的功率特性晶体管的功率特性 集电结最大耗散功率相关因素集电结最大耗散功率相关因素 在晶体管的散热情况和环境温度一定时,消耗的功率越大,管芯的结温就越高。由于管芯结温不能超过晶体管的最高结温,因此晶体管的耗散功率也不允许任意大。显然与最高结温对应的耗散功率就是晶体管的最大允许耗散功率,即 晶体管的最高结温是指晶体管能正常地、长期可靠工作的最高PN结温度。晶体管的功率特性晶体管的功率特性晶体管热阻晶体管热阻 晶体管工作时,集电结产生的热量要散发到周围空间中去,会遇到一种阻力,把这种阻力叫“热阻”。晶体管的热阻是表征晶体管

15、工作时所产生的热量向外散发的能力,它表示晶体管散热能力的大小。晶体管的功率特性晶体管的功率特性晶体管热阻晶体管热阻晶体管的功率特性晶体管的功率特性降低晶体管热阻降低晶体管热阻降低内热阻:通过适当减薄硅片和铝片厚度,增大集电结面积或周界长度来减小内热阻。降低外热阻:可以通过减小接触热阻,增大散热面积来实现。减少接触热阻的措施:尽量使管座与散热器的接触面平整、光滑、清洁且不氧化。在接触界面处涂覆硅脂。在安装晶体管时,接触面应尽量压紧。晶体管的功率特性晶体管的功率特性 晶体管的二次击穿晶体管的二次击穿 当集电极反向偏压增大到某一值时,集电极电流急剧增加,出现击穿现象,这个首先出现的击穿现象称为一次击

16、穿。当集电极反向偏压进一步增大,增大到某一临界值时,晶体管上的压降突然降低,而电流继续增长,这个现象称为二次击穿。晶体管的功率特性晶体管的功率特性 晶体管的二次击穿晶体管的二次击穿晶体管的功率特性晶体管的功率特性二次击穿机理二次击穿机理电流集中二次击穿电流集中二次击穿 在晶体管内部出现电流局部集中,形成过热点,导致该处发生局部热击穿的结果。晶体管的功率特性晶体管的功率特性镇流电阻镇流电阻晶体管的功率特性晶体管的功率特性二次击穿机理二次击穿机理雪崩注入二次击穿雪崩注入二次击穿晶体管的功率特性晶体管的功率特性集电极最大工作电流集电极最大工作电流 共发射极电流放大系数下降到最大值的一半时所对应的集电

17、极电流。晶体管的功率特性晶体管的功率特性 不使晶体管损坏和老化,而且工作可靠性又较高的区域叫做安全工作区。晶体管的安全工作区晶体管的安全工作区晶体管的开关特性晶体管的开关特性 晶体管的开关作用晶体管的开关作用 开关电路中的晶体管多采用共发射极接法。晶体管的开关作用是通过基极输入脉冲控制集电极回路的通断来实现的。晶体管的开关特性晶体管的开关特性 晶体管的开关工作区域晶体管的开关工作区域 晶体管做开关运用时,它的“开”与“关”两种工作状态分别对应子输出特性曲线中的饱和区和截止区。晶体管的开关特性晶体管的开关特性 饱和区饱和区 在饱和状态时,晶体管的发射结处于正向偏置,发射结偏压约为0.7V,而C,

18、E间的压降约为0.3V。这表明 C极电位低于B极,即集电结也处于正向偏置,这是晶体管饱和的重要特点之一。使晶体管由放大区进入饱和区的临界基极电流称为临界饱和基极电流。晶体管的开关特性晶体管的开关特性 截止区截止区 晶体管的发射结加上反向偏压(或零偏压),集电结也加上反向偏压,晶体管就处于截止区,这时晶体管内只有反向漏电流流过,其数值极小。晶体管的开关特性晶体管的开关特性 理想晶体管的开关波形理想晶体管的开关波形晶体管的开关特性晶体管的开关特性 实际晶体管的开关波形实际晶体管的开关波形晶体管的开关特性晶体管的开关特性 延迟过程延迟过程 在晶体管开启以前,晶体管处于截止态,发射结和集电结都处于反向

19、偏置,因此它们的势垒区是比较宽的,势垒区中有比较多的空间电荷。在输入电压刚刚变正时,发射结的势垒区还保持在原来的状态,即势垒区有比较多的空间电荷,势垒区还很宽。由于发射结势垒电容电压不能突变,也就是发射结仍然保持在负偏压或零偏压的状态,所以没有析从发射区注入到基区。晶体管的开关特性晶体管的开关特性 上升过程上升过程 在延迟过程结束后,晶体管的发射结偏压将继续上升,从0.5 V变到0.7V左右,于是发射区就向基区注人较多的电子,电子在基区中积累,形成一定的浓度梯度,其中一部分在 基区中复合掉,其余的输运到集电结,形成集电极电流。随着发射结偏压的上升,注入到基区的电子增多,电子的浓度梯度增大,集电

20、极电流也随着增大,这就是上升过程。晶体管的开关特性晶体管的开关特性 在上升过程结束以后,由于晶体管处于过驱动状态,集电结从零偏变为正偏,集电区除了要向基区注入电子外,基区也要向集电区注入空穴,所以在集电区中也有一部分空穴电荷累量超量贮存电荷超量贮存电荷。贮存电荷贮存电荷晶体管的开关特性晶体管的开关特性 下降过程下降过程 在贮存过程结束后,晶体管中的电荷分布又回到和上升过程结束时相同的情况,在下降过程中,集电结从零偏压降到负偏压,发射结的正向偏压从0.7V开始下降。晶体管的开关特性晶体管的开关特性提高晶体管开关速度的途径提高晶体管开关速度的途径 掺金可有效地减小集电区少子(空穴)寿命,进而减少饱

21、和时超量贮存电荷,同时加速超量贮存电荷的复合。减小结面积,这可有效地缩短 、。结面积最小尺寸受集电极最大电流及工艺水平的限制。减小基区宽度,可使 和 时间大大降低。在保证集电结耐压的情况下,尽量减薄外延层厚度,降低外延层电阻率。这样既可以减小集电区少子寿命。晶体管的开关特性晶体管的开关特性 开关晶体管的正向压降开关晶体管的正向压降 晶体管的共发射极正向压降是指将晶体管驱晶体管的共发射极正向压降是指将晶体管驱动到饱和状态时,基极和发射极之间的电压降。动到饱和状态时,基极和发射极之间的电压降。晶体管的开关特性晶体管的开关特性开关晶体管的饱和压降开关晶体管的饱和压降 晶体管的共发射极饱和压降是晶体管

22、处于饱和晶体管的共发射极饱和压降是晶体管处于饱和状态时,集电极和发射极之间的电压降。状态时,集电极和发射极之间的电压降。课堂习题课堂习题三极管的国标型号是如何规定的?三极管的国标型号是如何规定的?国家标准对半导体三极管的命名如下第一位:2代表二极管,3代表三极管。第二位:A为锗PNP管、B为锗NPN管、C为硅PNP管、D为硅NPN管。第三位:X表示低频小功率管、D表示低频大功率管、G表示高频小功率管、A表示高频小功率管、K表示开关管。补充内容n9、静夜四无邻,荒居旧业贫。5月-235月-23Monday,May 15,2023n10、雨中黄叶树,灯下白头人。14:00:5614:00:5614

23、:005/15/2023 2:00:56 PMn11、以我独沈久,愧君相见频。5月-2314:00:5614:00May-2315-May-23n12、故人江海别,几度隔山川。14:00:5614:00:5614:00Monday,May 15,2023n13、乍见翻疑梦,相悲各问年。5月-235月-2314:00:5614:00:56May 15,2023n14、他乡生白发,旧国见青山。15 五月 20232:00:56 下午14:00:565月-23n15、比不了得就不比,得不到的就不要。五月 232:00 下午5月-2314:00May 15,2023n16、行动出成果,工作出财富。20

24、23/5/15 14:00:5714:00:5715 May 2023n17、做前,能够环视四周;做时,你只能或者最好沿着以脚为起点的射线向前。2:00:57 下午2:00 下午14:00:575月-23n9、没有失败,只有暂时停止成功!。5月-235月-23Monday,May 15,2023n10、很多事情努力了未必有结果,但是不努力却什么改变也没有。14:00:5714:00:5714:005/15/2023 2:00:57 PMn11、成功就是日复一日那一点点小小努力的积累。5月-2314:00:5714:00May-2315-May-23n12、世间成事,不求其绝对圆满,留一份不足,

25、可得无限完美。14:00:5714:00:5714:00Monday,May 15,2023n13、不知香积寺,数里入云峰。5月-235月-2314:00:5714:00:57May 15,2023n14、意志坚强的人能把世界放在手中像泥块一样任意揉捏。15 五月 20232:00:57 下午14:00:575月-23n15、楚塞三湘接,荆门九派通。五月 232:00 下午5月-2314:00May 15,2023n16、少年十五二十时,步行夺得胡马骑。2023/5/15 14:00:5714:00:5715 May 2023n17、空山新雨后,天气晚来秋。2:00:57 下午2:00 下午1

26、4:00:575月-23n9、杨柳散和风,青山澹吾虑。5月-235月-23Monday,May 15,2023n10、阅读一切好书如同和过去最杰出的人谈话。14:00:5714:00:5714:005/15/2023 2:00:57 PMn11、越是没有本领的就越加自命不凡。5月-2314:00:5714:00May-2315-May-23n12、越是无能的人,越喜欢挑剔别人的错儿。14:00:5714:00:5714:00Monday,May 15,2023n13、知人者智,自知者明。胜人者有力,自胜者强。5月-235月-2314:00:5714:00:57May 15,2023n14、意志

27、坚强的人能把世界放在手中像泥块一样任意揉捏。15 五月 20232:00:57 下午14:00:575月-23n15、最具挑战性的挑战莫过于提升自我。五月 232:00 下午5月-2314:00May 15,2023n16、业余生活要有意义,不要越轨。2023/5/15 14:00:5714:00:5715 May 2023n17、一个人即使已登上顶峰,也仍要自强不息。2:00:57 下午2:00 下午14:00:575月-23MOMODA POWERPOINTLorem ipsum dolor sit amet,consectetur adipiscing elit.Fusce id urna blandit,eleifend nulla ac,fringilla purus.Nulla iaculis tempor felis ut cursus.感感 谢谢 您您 的的 下下 载载 观观 看看专家告诉

展开阅读全文
相关资源
相关搜索

当前位置:首页 > 考试试题 > 一级建造

本站为文档C TO C交易模式,本站只提供存储空间、用户上传的文档直接被用户下载,本站只是中间服务平台,本站所有文档下载所得的收益归上传人(含作者)所有。本站仅对用户上传内容的表现方式做保护处理,对上载内容本身不做任何修改或编辑。若文档所含内容侵犯了您的版权或隐私,请立即通知淘文阁网,我们立即给予删除!客服QQ:136780468 微信:18945177775 电话:18904686070

工信部备案号:黑ICP备15003705号© 2020-2023 www.taowenge.com 淘文阁