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1、鈀 鎳 工 站 簡 介一,鈀鎳物質介紹 1,鈀鎳合金說明.2,鈀鎳物質的特性二,鈀鎳鍍液的組分與特性三,鈀鎳鍍液的調整與保養.1,鍍液的調整.2,鍍液保養的注意事項.四,鈀鎳槽液的異常處理鈀鎳合金說明:1,電子連接制造工業對元件接觸區鍍鈀鎳的膜厚,延展性,光亮度,耐磨,耐振動等功能性,都已得到可靠的信賴度.(同時金价比鈀鎳成本要高.使用鈀鎳制程有利于制造成本的降低.)2,鈀鎳合金鍍層比鈀鍍層當作接觸物質使用在電子工業上是更有效率,適當量的鎳進入鈀結晶格子內共組成后會降低發生氫裂解的傾向,并提供更高的硬度,延展性,表面光亮度,.除此外,并強調鈀鎳合金是非觸媒作用所引起,而是傾向于磨擦合作用所引起
2、的所以比金或鍍鈀有較低的孔性及較好的耐磨阻抗,.所以鈀鎳合金是很好的電器元件接觸物質.鈀鎳物質的特性;1,穩定的組成,鎳變化從10-50%W 2,明亮如鏡子般的外觀.3,高硬度.4,高延展性.5,可接受的孔性.6,可接受較高的電鍍厚度.7,簡單的化學成形.8,鍍浴容易控制.9,鍍浴壽命長.10,陰極效率高.11,對非貴金屬素材物質應減低浸蝕.鈀鎳的組分與特性1,氯化氨鈀:主鹽,驗用于提供電鍍所需的鈀,提升鍍液鈀鹽濃度可提供鍍層中鈀含量,鍍液中鈀濃度一般控制在:18-22g/L.2,鎳補充劑:主鹽,供給電鍍所需的鎳,提升鍍液中鎳濃度可輕微提升鍍層中鎳含量,但影響遠比鈀小,一般濃鍍控制在:13-1
3、7g/L.3,Brightener NO.1(侵用于高氨系統)基本光澤劑,鍍液中含量一般過剩,消耗量低,依哈氏片或廠商技朮人員建議添補.4,Pallnic Additive(侵用于高氨系統)依廠商技朮人員建議添補.5,Wetting Agent(侵用于高氨系統)6,Conducting Sait.導電鹽,用于增強鍍液導電能力.7,NH3H2O(氨水)用于調整鍍液PH 值,PH 值一般控制在7.5-8.5.8,氫氧化鉀.(侵用于低氨系統)用于調節鍍液PH 值,PH 值一般控制在7.5-8.5,建議按:氨水:氫氧化鉀以1:2 的比例添加.9,Pallnic.80 Deposit Modifier(
4、侵用于低氨系統)依廠商技朮人員建議添補.鍍液調整與保養1,鈀鹽:濃度范圍:18-22g/l 目標值:20g/l添加量(g)=(20-分析值)*V槽*:每瓶鈀鹽含量為100gor50g.(每安培小時的消耗,應補充40%的鈀鹽4g)2,鎳鹽:濃度范圍:13-17g/l 目標值:15g/l*鎳補充劑含量100g/l.(每安培小時的消耗,應補充100g/1NI濃度2ML)3,PH值.范圍:7.8-8.5 目標值:8.0*PH使用電位計量測,并用50%氨水或20%H2SO4來降低PH值.鍍液調整時注意事項一,葯品調整:1,固体葯品一般溶解后添加.2,液体葯品一般應稀釋后添加.3,加水稀釋時要防止槽液溫度
5、下降.4,合金鍍液中要注意合金濃度比例.5,稀釋某一成分時應同時考慮對鍍液中其它成分的影響.二,液位調整:1,為了確保分析數据的可靠性及代表性,生產人員須提前半小時調整好液面高度.加熱的槽液補水方式應以少加勤加為原則.鍍液的保養1,當鍍液中各種有机雜質含量較高時,用活性碳濾芯過濾.2,當鍍液中有較大顆粒雜質時,用10U”或1U”濾芯過濾.3,鎳,鈀鎳槽中的金屬雜質應用弱電解除去.4,目前槽外過濾保養計划是1次/2 個月.5,弱電解板打磨為1次/3 日.6,每周活性碳過濾3-4 小時.7,PH 檢測1次/2 小時.鈀鎳槽液的異常現象及處理A:鈀鎳污染問題解決方法:,污染問題通常會在生產線上,低電
6、流密度鍍層區產生模糊,無光澤,晦暗的現象,為了決定問題根源,采取兩個步驟:1,取金屬污染溶液,作原子吸收光譜分析.(A.A)2,作哈氏片試片,確認問題的根源,并決定在使用前,如何做最有效的補救處理之道.B:常見的金屬污染.1,銅污染:小于30PPM的低污染,哈氏片試片在高電流區,產生灰色鍍層,在30-100PPM之間的銅污染下,低電流密度區會看見間斷性銅顏色的污染.隨著污染程度的增加,漸漸擴及高電流密度區.范圍擴大,銅顏色污染也增加.在超過500PPM下,哈氏片試片從高電流到低電流密度區.一半會出現銅顏色,剩餘會出現白灰,混濁的現象.此不良現象將直接影響鍍層結晶,造成脫皮.鉛污染:鈀鎳顯然可忍
7、受高含量的鉛污染,在100PPM以下,低電流密度區會產生藍色或黑色的沾污.鐵污染:鐵污染從哈氏片試片中觀察的不是很明顯,將傾向于增加鍍層的內應力.以上污染槽液的處理對策:用低電流(0.025-0.05A)密度電鍍出雜質金屬離子是最有效的辦法.(例如:弱電解板)有机污染:假如原子吸收光譜証明金屬污染不是很明顯,那問題可能 出現在有机污染,哈氏片試片在任何電流密度會發生鍍層模糊,顏色改變,晦暗的現象.金屬污染傾向于高電流密度下產生,一些有机污染能被活性碳處理去除掉,可從工作浴中取樣品,每升用2g活性碳,并加熱60度過濾去除掉并作哈氏片.如活性碳處理很有效的制程如下:1,用泵浦將溶液抽入一適當的槽子,假如需要加熱至60度.2,每升加2g的活性碳.3,激烈攪拌30分鐘.4,槽液靜置30分鐘.5,過濾溶液直到所有活性碳完全去除為止.6,作哈氏片檢查處理后的效果.7,假如要使用分析光澤劑NO.1和濕潤劑補充至所需.8,將處理好的槽液抽回原母槽.