高能激光对成像制导系统的干扰效果分析.pdf

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高能激光对成像制导系统的干扰效果分析 张凌晓;郑茂;许明圣【期刊名称】激光杂志【年(卷),期】2013(34)6【摘 要】为了分析高能激光对成像制导系统的干扰效果,从制导武器的红外辐射强度出发,介绍了成像制导干扰效果评估的两种基本方法。以对比度评估方法为例,模拟了不同干扰强度、不同干扰质心激光干扰条件下成像制导系统的跟踪效果。结果表明对成像型制导系统实施有效激光干扰的手段主要有两个:一是增加激光干扰源的激光功率;二是激光干扰质心要尽可能地远离目标质心。【总页数】2 页(P66-67)【关键词】高能激光;激光干扰;成像制导【作 者】张凌晓;郑茂;许明圣【作者单位】中国人民解放军 95021 部队;河南平高电器股份有限公司【正文语种】中 文【中图分类】TN249【相关文献】1.烟幕对红外成像制导系统的干扰分析 J,王发龙;陶熹 2.激光对成像制导系统的干扰 J,刘延武;李楠;吕俊伟 3.高斯激光对红外成像制导系统的干扰效果分析 J,贺元兴;李建;穆佰利;黄俭;李伟 4.面源红外干扰弹对红外成像制导系统干扰研究 J,张宏宇;林涛;常晓玲 5.光电成像制导系统干扰与抗干扰的性能评估 J,刘松涛;周晓东;陈永刚 因版权原因,仅展示原文概要,查看原文内容请购买

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