分析测试手段光电子能谱优秀PPT.ppt

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1、分析测试手段光电子能谱第1页,本讲稿共19页一 概述n n表面分析技术表面分析技术(Surface Analysis)Surface Analysis)是对材料外层是对材料外层(the Outer-the Outer-Most Layers of Materials(100 Most Layers of Materials(100 )的研究的技术。的研究的技术。包括:包括:n n1 1 电子谱学电子谱学(Electron Spectroscopies)Electron Spectroscopies)X-X-射线光电子能谱射线光电子能谱 XPS:X-ray Photoelectron XPS:X

2、-ray Photoelectron SpectroscopySpectroscopy 俄歇能谱俄歇能谱 AES:Auger Electron SpectroscopyAES:Auger Electron Spectroscopy 电子能量损失谱电子能量损失谱 EELS:Electron Energy Loss EELS:Electron Energy Loss SpectroscopySpectroscopy第2页,本讲稿共19页n n2 2 离子谱学离子谱学 Ion SpectroscopiesIon Spectroscopies 二次离子质谱二次离子质谱SIMS:SIMS:Seconda

3、ry Ion Mass SpectrometrySecondary Ion Mass Spectrometry 溅射中性质谱溅射中性质谱SNMS:SNMS:Sputtered Neutral Mass SpectrometrySputtered Neutral Mass Spectrometry 离子扫描能谱离子扫描能谱ISS:ISS:Ion Scattering SpectroscopyIon Scattering Spectroscopy第3页,本讲稿共19页二 XPS的概念 XPS也叫ESCA(Electron Spectroscopy for Chemical Electron Spe

4、ctroscopy for Chemical AnalysisAnalysis),是研究表面成分的重要手段。原理是光电效应(原理是光电效应(photoelectric effect)。)。1960s 1960s 由University of Uppsala,Sweden 的Kai SiegbahnKai Siegbahn等发展。EMPA中中X射线穿透大,造成分析区太深。而由于电子穿透射线穿透大,造成分析区太深。而由于电子穿透小,深层所产生的电子不出现干扰,所以可对表面几个原子小,深层所产生的电子不出现干扰,所以可对表面几个原子层进行分析。层进行分析。(吸附、催化、镀膜、离子交换等领域)(吸附、

5、催化、镀膜、离子交换等领域)第4页,本讲稿共19页X-ray BeamX-ray BeamX-ray penetration X-ray penetration depth 1depth 1m m m mm.m.Electrons can be Electrons can be excited in this entire excited in this entire volume.volume.X-ray excitation area 1x1 cmX-ray excitation area 1x1 cm2 2.Electrons are.Electrons are emitted from

6、 this entire areaemitted from this entire areaElectrons are extracted only Electrons are extracted only from a narrow solid angle.from a narrow solid angle.1 1 mmmm2 210 10 nmnm第5页,本讲稿共19页Conduction BandConduction BandValence BandValence BandL2,L3L2,L3L1L1K KFermiFermiLevelLevelFree Free Electron El

7、ectron LevelLevel光:光:Incident X-rayIncident X-ray发射出的光电子发射出的光电子Ejected PhotoelectronEjected Photoelectron1 1s s2 2s s2 2p p三三 光电效应光电效应(Photoelectric Process)第6页,本讲稿共19页1 1电磁波使内层电子激发,并逸出表面成为光电子,测量被激发电磁波使内层电子激发,并逸出表面成为光电子,测量被激发的电子能量就得到的电子能量就得到XPSXPS,不同元素种类、不同元素价态、不同元素种类、不同元素价态、不同电子层不同电子层(1(1s,2s,2ps,2

8、s,2p等等)所产生的所产生的XPSXPS不同。不同。2 2被激发的电子能量可用下式表示:被激发的电子能量可用下式表示:KEKE =hv-=hv-BEBE-specspec式中式中 hv=hv=入射光子(入射光子(X X射线或射线或UVUV)能量)能量 h=Planck constant(6.62 x 10h=Planck constant(6.62 x 10-34-34 J s),J s),v-frequency(Hz)v-frequency(Hz)BEBE=电子键能或结合能、电离能(电子键能或结合能、电离能(Electron Binding EnergyElectron Binding E

9、nergy)KEKE=电子动能电子动能 (Electron Kinetic EnergyElectron Kinetic Energy)specspec=谱学功函数或电子反冲能谱学功函数或电子反冲能 (Spectrometer Work Spectrometer Work FunctionFunction)第7页,本讲稿共19页谱学功函数极小,可略去,谱学功函数极小,可略去,得到得到 KE=hv-BEKE=hv-BE :3 3 元素不同,其特征的元素不同,其特征的电子键能不同。测量电子动能电子键能不同。测量电子动能KEKE,就得,就得到对应每种元素的一系列到对应每种元素的一系列BE-BE-光电

10、子能谱,就得到电子键能数光电子能谱,就得到电子键能数据。据。4 4 谱峰强度代表含量,谱峰位置的偏移代表价态与环境的变谱峰强度代表含量,谱峰位置的偏移代表价态与环境的变化化-化学位移。化学位移。第8页,本讲稿共19页1 1激发光源激发光源X X射线(软射线(软X X射线;射线;Mg KMg K :hv=1253.6 eV:hv=1253.6 eV;Al Al K K :hv=1486.6 eV:hv=1486.6 eV)或)或UVUV;2 2电子能量分析器电子能量分析器-对应上述能量的分析器,只可能是表面对应上述能量的分析器,只可能是表面分析;分析;3 3高真空系统:超高真空腔室高真空系统:超

11、高真空腔室super-super-high vacuum chamberhigh vacuum chamber(UHVUHV避免光电子与气体分子碰撞的干扰。避免光电子与气体分子碰撞的干扰。四 XPS的仪器Instrumentation for XPS第9页,本讲稿共19页XPS的仪器Instrumentation for XPS第10页,本讲稿共19页XPS的仪器Instrumentation for XPS第11页,本讲稿共19页钯的钯的钯的钯的XPSXPS(XPSspectrumobtainedfromaPdmetalsampleusingXPSspectrumobtainedfromaP

12、dmetalsampleusingMgKaradiation);MgKaradiation);主峰在主峰在主峰在主峰在330,690,720,910and920eV330,690,720,910and920eV。将。将。将。将KEKE转换为转换为转换为转换为BEBE,得到下得到下得到下得到下页图页图页图页图-注意坐标左右颠倒。注意坐标左右颠倒。注意坐标左右颠倒。注意坐标左右颠倒。第12页,本讲稿共19页1.价带(4d,5s)出现在 0-8 eV。2 4p、4s 能级出现在 54、88 eV。3.335 eV 的最强峰由 3d 能级引起。4 3p 和3s 能级出现在 534/561 eV 和 6

13、73 eV。5.其余峰非 XPS 峰,而是Auger 电子峰。第13页,本讲稿共19页例:试作出在Mg Ka(hn=1253.6 eV)作用下Na的XPS示意谱图,Na的能级分布如右图。解:由KE=hv-BE,KE1s=(1253.6-1072)=182 eV KE2s=(1253.6-64)=1190 eV KE2p=(1253.6-31)=1223 eV 第14页,本讲稿共19页n n五俄歇电子能谱五俄歇电子能谱 AES(Auger electron Spectrocopy)n n光子作用下:光子作用下:K K层电离;层电离;L L层补充跃迁;能量使另一层层补充跃迁;能量使另一层L L电子

14、激发成电子激发成AuEAuE。即双级电离过程:即双级电离过程:A A*+*+=A=A 2+2+e+e-。第15页,本讲稿共19页AES特点:n n1 1 受价态影响;受价态影响;n n2 2 受结合态影响;受结合态影响;n n3 3 受表面势垒影响。受表面势垒影响。与与XPSXPS相比,相比,优点如下:优点如下:1 1 可用电子激发,可用电子激发,并形成聚焦(并形成聚焦(XPSXPS只能用只能用X X、UVUV););2 2可扫描得到可扫描得到AuEAuE象,象,直观反映表面;直观反映表面;3 3电子束流可调小,电子束流可调小,使空间分辨率提高。使空间分辨率提高。第16页,本讲稿共19页六 X

15、PS(AES)的应用:n n1元素定性n n2 定量分析n n3 元素价态、结合态的研究。第17页,本讲稿共19页实例实例1 1:木乃依所用的颜料分析木乃依所用的颜料分析150145140135130Binding Energy(eV)Binding Energy(eV)PbO2Pb3O45004003002001000Binding Energy(eV)Binding Energy(eV)OPbPbPbNCaCNaClXPS analysis showed that the XPS analysis showed that the pigment used on the mummy pigment used on the mummy wrapping was Pbwrapping was Pb3 3OO4 4 rather rather than Fethan Fe2 2OO3 3Egyptian Mummy Egyptian Mummy 2nd Century AD2nd Century ADWorld Heritage MuseumWorld Heritage MuseumUniversity of IllinoisUniversity of Illinois第18页,本讲稿共19页n n本章部分PPT图片由石和彬教授提供,谨致谢意!完完第19页,本讲稿共19页

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