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1、第第 3 章章晶体管的直流特性晶体管的直流特性 3.1 3.1 概述概述概述概述3.2 3.2 平面晶体管的电流放大系数平面晶体管的电流放大系数平面晶体管的电流放大系数平面晶体管的电流放大系数 及影响电流放大系数的因素及影响电流放大系数的因素及影响电流放大系数的因素及影响电流放大系数的因素3.3 3.3 晶体管的反向电流晶体管的反向电流晶体管的反向电流晶体管的反向电流3.4 3.4 晶体管的击穿电压晶体管的击穿电压晶体管的击穿电压晶体管的击穿电压3.5 3.5 晶体管的基极电阻晶体管的基极电阻晶体管的基极电阻晶体管的基极电阻 本章重点本章重点本章重点本章重点 晶体管的基本结构晶体管的基本结构晶
2、体管的基本结构晶体管的基本结构 平面晶体管的电流放大系数平面晶体管的电流放大系数平面晶体管的电流放大系数平面晶体管的电流放大系数 晶体管的直流特性晶体管的直流特性晶体管的直流特性晶体管的直流特性 晶体管的反向电流晶体管的反向电流晶体管的反向电流晶体管的反向电流 晶体管（半导体三极管）是由两个晶体管（半导体三极管）是由两个P-N结构成结构成的三端器件。由于两个的三端器件。由于两个P-N结靠得很近，其结靠得很近，其具有放具有放大电信号的能力大电信号的能力，因此在电子电路中获得了比半导，因此在电子电路中获得了比半导体二极管更体二极管更广泛的应用广泛的应用。（半导体二极管由一个。（半导体二极管由一个P
3、-N结构成，利用结构成，利用P-N结的单向导电性，二极管在整结的单向导电性，二极管在整流、检波等方面获得了广泛应用。）本章将在流、检波等方面获得了广泛应用。）本章将在P-N结理论的基础上，讨论晶体管的基本结构、放大作结理论的基础上，讨论晶体管的基本结构、放大作用以及其他一些特性，如反向电流、击穿电压、基用以及其他一些特性，如反向电流、击穿电压、基极电阻等。极电阻等。3.1 概述概述 晶体管的种类很多，按使用的要求，一般分为晶体管的种类很多，按使用的要求，一般分为低低频管频管和和高频管高频管，小功率管小功率管和和大功率管大功率管，高反压管高反压管和和开开关管关管等等。等等。但从基本结构来看，它们
4、都由两个十分靠近的，分但从基本结构来看，它们都由两个十分靠近的，分别称为别称为发射结发射结和和集电结集电结的的P-N结组成。结组成。两个两个P-N结将晶体管划分为三个区：结将晶体管划分为三个区：发射区发射区、基区基区和和集电区集电区。由三个区引出的电极分别称为。由三个区引出的电极分别称为发射极发射极、基基极极和和集电极集电极，用符号，用符号E、B、C（e、b、c）表示。）表示。晶体管的基本形式可分为晶体管的基本形式可分为PNP型型和和NPN型型两种。两种。合金管合金管合金管合金管 合金管是早期发展起来的晶体管。其结构是在合金管是早期发展起来的晶体管。其结构是在N型型锗片上，一边放受主杂质铟镓球
5、，另一边放铟球，加热锗片上，一边放受主杂质铟镓球，另一边放铟球，加热形成液态合金后，再慢慢冷却。冷却时，锗在铟中的溶形成液态合金后，再慢慢冷却。冷却时，锗在铟中的溶解度降低，析出的锗将在晶片上再结晶。再结晶区中含解度降低，析出的锗将在晶片上再结晶。再结晶区中含大量的铟镓而形成大量的铟镓而形成P型半导体，从而形成型半导体，从而形成PNP结构，如结构，如图所示。图中图所示。图中Wb为基区宽度，为基区宽度，Xje和和Xjc分别为发射结和分别为发射结和集电结的结深。集电结的结深。合金结的杂质分布特点是：合金结的杂质分布特点是：三个区的杂质分布近似三个区的杂质分布近似为均匀分布，基区的杂质浓度最低，且两
6、个为均匀分布，基区的杂质浓度最低，且两个P-N结都是结都是突变结。突变结。合金结的主要缺点是合金结的主要缺点是基区较宽基区较宽，一般只能做到，一般只能做到10微微米左右。因此米左右。因此频率特性较差频率特性较差，只能用于，只能用于低频区低频区。平面管平面管平面管平面管 在高浓度的在高浓度的N+衬衬底底上，生长一层上，生长一层N型的型的外延外延层，再在外延层上层，再在外延层上用用硼扩散制作硼扩散制作P区区，后，后在在P区上用区上用磷扩散形成磷扩散形成一个一个N+区区。其结构是一个其结构是一个NPN型的型的三层式结构三层式结构，上面，上面的的N+区是发射区，中间区是发射区，中间的的P区是基区，底下
7、的区是基区，底下的N区是集电区。区是集电区。P57P57 平面晶体管的发平面晶体管的发射区和基区是用杂质射区和基区是用杂质扩散扩散的方法制造得到的方法制造得到的，所以在平面管的的，所以在平面管的三层结构即三个区域三层结构即三个区域的杂质分布是的杂质分布是不均匀不均匀的。的。其杂质分布可根其杂质分布可根据扩散工艺推算出来，据扩散工艺推算出来，如图所示。如图所示。P57P57 晶体管的基区杂质分布有两种形式：晶体管的基区杂质分布有两种形式：均匀分布（如合金管），称为均匀分布（如合金管），称为均匀基区晶体管均匀基区晶体管。均。均匀基区晶体管中，载流子在基区内的传输主要靠扩散匀基区晶体管中，载流子在基
8、区内的传输主要靠扩散进行，故又称为进行，故又称为扩散型晶体管扩散型晶体管。基区杂质是缓变的（如平面管），称为基区杂质是缓变的（如平面管），称为缓变基区晶缓变基区晶体管体管。这类晶体管的基区存在自建电场，载流子在基。这类晶体管的基区存在自建电场，载流子在基区内除了扩散运动外，还存在漂移运动，而且往往以区内除了扩散运动外，还存在漂移运动，而且往往以漂移运动为主。所以又称为漂移运动为主。所以又称为漂移型晶体管漂移型晶体管。小结小结小结小结晶体管中载流子浓度分布及传输晶体管中载流子浓度分布及传输 设发射区、基区和集电区的杂质皆为均匀分布，设发射区、基区和集电区的杂质皆为均匀分布，分别用分别用NE、NB
9、、NC表示，且表示，且NE远大于远大于 NB大于大于NC。WWe e 发射区宽度发射区宽度发射区宽度发射区宽度WWb b 基区宽度基区宽度基区宽度基区宽度WWc c 集电区宽度集电区宽度集电区宽度集电区宽度X Xmeme 发射结势垒发射结势垒发射结势垒发射结势垒 宽度宽度宽度宽度X Xmcmc 集电结势垒集电结势垒集电结势垒集电结势垒 宽度宽度宽度宽度VDE 发射结的接触电势差发射结的接触电势差VDC 集电结的接触电势差集电结的接触电势差由于平衡时费米能级处处相等，因而基区相对于由于平衡时费米能级处处相等，因而基区相对于发射区和集电区分别上移发射区和集电区分别上移qVDE和和qVDC。当晶体管
10、作为放大运用时当晶体管作为放大运用时发射结加正向偏压发射结加正向偏压VE集电结加反向偏压集电结加反向偏压VC 发射结势垒由原来的发射结势垒由原来的qVDE下降下降为为q(VDE-VE)集电结势垒由集电结势垒由qVDC升高升高到到q(VDC+VC)NPN晶体管作为放大应用时，少数载流子浓度分布示意图晶体管作为放大应用时，少数载流子浓度分布示意图 发射结正偏发射结正偏，发射区将向基区注入非平衡少子。，发射区将向基区注入非平衡少子。注入的少子在基区边界积累，并向基区体内扩散。边注入的少子在基区边界积累，并向基区体内扩散。边扩散，便复合，最后形成一稳定分布，记作扩散，便复合，最后形成一稳定分布，记作n
11、B(x)。同。同样，基区也向发射区注入空穴，并形成一定的分布，样，基区也向发射区注入空穴，并形成一定的分布，记作记作pE(x)。集电结反偏集电结反偏，集电结势垒区对载流子起抽取作用。，集电结势垒区对载流子起抽取作用。当反向偏压足够高时，在基区一边，凡是能够扩散到当反向偏压足够高时，在基区一边，凡是能够扩散到集电结势垒区集电结势垒区XmC的电子，都被势垒区电场拉向集电区。的电子，都被势垒区电场拉向集电区。因此，势垒区边界因此，势垒区边界X3处少子浓度下降为零；同样，在处少子浓度下降为零；同样，在集电区一边，凡是能够扩散到集电区一边，凡是能够扩散到XmC的空穴，也被电场拉的空穴，也被电场拉向基区，
12、在向基区，在X4处少子浓度也下降为零，其少子浓度分处少子浓度也下降为零，其少子浓度分布为布为pC(x)。晶体管中的载流子传输示意图晶体管中的载流子传输示意图 因发射结正偏，大量电子从发射区注入到基区，因发射结正偏，大量电子从发射区注入到基区，形成电子电流形成电子电流InE。如基区很薄，大部分电子都能通。如基区很薄，大部分电子都能通过扩散到达集电结边界，并被集电极收集，形成集电过扩散到达集电结边界，并被集电极收集，形成集电极电子电流极电子电流InC。由于通过基区的电子是非平衡载流。由于通过基区的电子是非平衡载流子，因此在基区中，电子将一边扩散，一边和基区中子，因此在基区中，电子将一边扩散，一边和
13、基区中的空穴复合，形成体复合电流的空穴复合，形成体复合电流IVR。显然，体复合电。显然，体复合电流是垂直于电子电流流动方向的多数载流子电流。同流是垂直于电子电流流动方向的多数载流子电流。同时，基区也向发射区注入空穴，形成发射结的反注入时，基区也向发射区注入空穴，形成发射结的反注入空穴电流空穴电流IpE。这股空穴电流在发射区内边扩散边复。这股空穴电流在发射区内边扩散边复合，经过扩散长度合，经过扩散长度LpE后基本复合消失，转换成电子后基本复合消失，转换成电子电流。另外，在集电结处还有一股反向饱和电流电流。另外，在集电结处还有一股反向饱和电流ICB0。综上所述可知，通过发射结有两股电流，综上所述可
14、知，通过发射结有两股电流，即即InE和和IPe，所以，所以，发射极电流发射极电流 IE=InE+IpE 通过集电结也有两股电流通过集电结也有两股电流InC和和ICB0，集电结电流集电结电流 IC=InC+ICB0 通过基极有三股电流，即通过基极有三股电流，即IpE、IVR和和ICB0，因而，因而 基极电流基极电流 IB=IpE+IVR-ICB0 根据电流的连续性，应有根据电流的连续性，应有 IE=IB+IC 对于对于NPN晶体管，电子电流是主要成分晶体管，电子电流是主要成分。电子从发射极出发，通过发射区到达发射电子从发射极出发，通过发射区到达发射结，由结，由发射结发射发射结发射到基区，再由基区
15、运到集电到基区，再由基区运到集电结边界，然后由结边界，然后由集电结收集集电结收集，流过集电区到达，流过集电区到达集电极，成为集电极电流。集电极，成为集电极电流。电子电流在传输过程中有电子电流在传输过程中有两次损失两次损失：在发射区，与从基区注入过来的空穴复合在发射区，与从基区注入过来的空穴复合损失；损失；在基区体内的复合损失。因此，在基区体内的复合损失。因此，InCInEIE晶体管内部载流子的传输过程晶体管内部载流子的传输过程直流电流放大系数直流电流放大系数电流放大系数表示放大电流的能力电流放大系数表示放大电流的能力电流放大系数表示放大电流的能力电流放大系数表示放大电流的能力电路接法不同，放大
16、系数也不同电路接法不同，放大系数也不同电路接法不同，放大系数也不同电路接法不同，放大系数也不同共基极直流电流放大系数共基极直流电流放大系数 集电极输出电流与发射极输入电流之比集电极输出电流与发射极输入电流之比 基区输运系数基区输运系数*晶体管的发射效率晶体管的发射效率 注入基区的电子电流注入基区的电子电流与发射极电流的比值与发射极电流的比值 到达集电结的电子电流到达集电结的电子电流与进入基区的电子电流之比与进入基区的电子电流之比 如电子在基区输运过程如电子在基区输运过程中复合损失很少，则中复合损失很少，则InCInE，*1。减小基区体内复合电流减小基区体内复合电流IVR是提高是提高*的有效途径
17、，的有效途径，而减小而减小IVR的主要措施是减薄基区宽度的主要措施是减薄基区宽度WB，使基区宽度，使基区宽度远小于少子在基区的扩散长度远小于少子在基区的扩散长度LnB，即，即WB远小于远小于LnB。所以，所以，在晶体管生产中，必须严格控制基区宽度在晶体管生产中，必须严格控制基区宽度，从而得到合适的电流放大系数。若基区太宽，甚至比基从而得到合适的电流放大系数。若基区太宽，甚至比基区少子扩散长度大得多，则晶体管相当于两个背靠背的区少子扩散长度大得多，则晶体管相当于两个背靠背的二极管。发射结相当于一只正向偏压二极管，集电结相二极管。发射结相当于一只正向偏压二极管，集电结相当于一只反向偏压二极管，互不
18、相干。这样，晶体管就当于一只反向偏压二极管，互不相干。这样，晶体管就失去放大电流、电压的能力。失去放大电流、电压的能力。练习练习简述晶体管的结构、基本形式和基区杂简述晶体管的结构、基本形式和基区杂质分布的形式。质分布的形式。提高发射效率和基区输运系数的方法是提高发射效率和基区输运系数的方法是什么？什么？共发射极直流电流放大系数共发射极直流电流放大系数因为因为IE=IB+IC 当当=20时，由上式可以算得；时，由上式可以算得；=200时，。所以，一般晶体管的时，。所以，一般晶体管的很接近于很接近于1。晶体管的放大作用晶体管的放大作用 晶体管在晶体管在共射极共射极运用时，运用时，IC=IB。由于。
19、由于远远大于大于1，输入端电流，输入端电流IB的微小变化，将引起输出的微小变化，将引起输出端电流端电流IC较大的变化，因此具有较大的变化，因此具有放大电流放大电流的能的能力。力。在在共基极共基极运用时，运用时，IC=IE。由于。由于接近于接近于1，当输入端电流，当输入端电流IE变化变化IE时，引起输出端电时，引起输出端电流流IC的变化量的变化量IC小于等于小于等于IE。所以起不到。所以起不到电流放大作用。但是可以进行电流放大作用。但是可以进行电压和功率的放电压和功率的放大大。晶体管具有放大能力，必须具有下面条件晶体管具有放大能力，必须具有下面条件（1）发射区杂质浓度比基区杂质浓度高得多，）发射
20、区杂质浓度比基区杂质浓度高得多，即即NE远大于远大于NB，以保证发射效率，以保证发射效率1；（2）基区宽度）基区宽度WB远小于远小于LnB，保证基区输运系数保证基区输运系数*1；（3）发射结必须正偏，使）发射结必须正偏，使re很小；很小；集电结反偏，使集电结反偏，使rc很大，很大，rc远大于远大于re。晶体管的特性曲线晶体管的特性曲线 晶体管的特性曲线形象地表示出晶体管晶体管的特性曲线形象地表示出晶体管各电极电流与电压间的关系，反映晶体管内各电极电流与电压间的关系，反映晶体管内部所发生的物理过程，以及晶体管各直流参部所发生的物理过程，以及晶体管各直流参数的优劣。数的优劣。所以，在生产过程中常用
21、特性曲线来判所以，在生产过程中常用特性曲线来判断晶体管的质量好坏。断晶体管的质量好坏。晶体管的接法不同，其特性曲线也各不晶体管的接法不同，其特性曲线也各不相同。相同。共基极输入特性曲线共基极输入特性曲线 输出电压输出电压VCB一一定时，输入电流与输定时，输入电流与输入电压的关系曲线，入电压的关系曲线，即即IEVBE关系曲线关系曲线。由于发射结正向偏置，所以，由于发射结正向偏置，所以，IEVBE输入特性输入特性实际上就是实际上就是正向正向P-N结的特性结的特性，因而，因而IE随随VBE指数增大。指数增大。但它与单独但它与单独P-N结间存在结间存在差别差别，这是由于集电结，这是由于集电结反向偏置反
22、向偏置VCB影响的结果。若影响的结果。若VCB增大，则集电结的增大，则集电结的势垒变宽，势垒区向基区扩展，这样就使有效基区宽势垒变宽，势垒区向基区扩展，这样就使有效基区宽度随度随VCB增加而减小（这种现象称为基区宽变效应）。增加而减小（这种现象称为基区宽变效应）。由于由于WB减小，使少子在基区的浓度梯度增加，从而减小，使少子在基区的浓度梯度增加，从而引起发射区向基区注入的电子电流引起发射区向基区注入的电子电流InE增加，因而发射增加，因而发射极电流极电流IE就增大。就增大。所以，所以，输入特性曲线随输入特性曲线随VCB增大而左移增大而左移。共射极输入特性曲线共射极输入特性曲线 在输出电压在输出
23、电压VCE一定时，输一定时，输入端电流入端电流IB与输与输入端电压入端电压VBE的的关系曲线，即关系曲线，即IBVBE曲线。曲线。综上所述可知，通过发射结有两股电流，综上所述可知，通过发射结有两股电流，即即InE和和IPe，所以，所以，发射极电流发射极电流 IE=InE+IpE 通过集电结也有两股电流通过集电结也有两股电流InC和和ICB0，集电结电流集电结电流 IC=InC+ICB0 通过基极有三股电流，即通过基极有三股电流，即IpE、IVR和和ICB0，因而，因而 基极电流基极电流 IB=IpE+IVR-ICB0 根据电流的连续性，应有根据电流的连续性，应有 IE=IB+IC 由于发射结正
24、偏，如将输出端短路，由于发射结正偏，如将输出端短路，VCE=0时，就相当于将发射结与集电结两个正向时，就相当于将发射结与集电结两个正向P-N结结并联。并联。所以，输入特性曲线与正向所以，输入特性曲线与正向P-N结伏安特性结伏安特性相似。相似。当集电结处于反偏时，由于基区宽度减小，当集电结处于反偏时，由于基区宽度减小，基区内载流子的复合损失减少，基区内载流子的复合损失减少，IB也就减少。所也就减少。所以，以，特性曲线随特性曲线随VCE的增加而右移的增加而右移。而且，当而且，当VBE=0时，时，IpE和和IVR都等于零，故都等于零，故IB=-ICBO。因而。因而在在VBE=0处，特性曲线下移至处，
25、特性曲线下移至ICBO。共基极输出特性曲线共基极输出特性曲线输出端电流随输出端电流随输出电压变化输出电压变化的关系曲线，的关系曲线，即即ICVCB关系关系曲线。曲线。当当IE=0，即发射结不发射载流子时，输出电流，即发射结不发射载流子时，输出电流IC=ICBO，这时的输出特性就是集电结的反向特性，这时的输出特性就是集电结的反向特性，即图中最靠近水平坐标而且基本上平行于坐标轴的曲即图中最靠近水平坐标而且基本上平行于坐标轴的曲线。线。当当IE0时，随着时，随着IE的增加，的增加，IC按按IE的规律增大。的规律增大。若若IE取不同的数值，就得到一组基本上互相平行的取不同的数值，就得到一组基本上互相平
26、行的ICVCB关系曲线，这就是共基极输出特性曲线。关系曲线，这就是共基极输出特性曲线。共射极输出特性曲线共射极输出特性曲线ICVCE关系曲线关系曲线 当当IB=0（基极开路）时，（基极开路）时，IC=ICEO。这是因为共射。这是因为共射极电路的输出电压为极电路的输出电压为VCE，这个电压虽然主要降落在，这个电压虽然主要降落在集电结上，使集电结反偏，但也有一小部分电压降落集电结上，使集电结反偏，但也有一小部分电压降落在发射结上，使发射结正偏。因此共射极电路中，当在发射结上，使发射结正偏。因此共射极电路中，当IB=0时，时，IE并不为零，这部分发射极电流输运到集电并不为零，这部分发射极电流输运到集
27、电极上，使输出电流极上，使输出电流ICE0比比ICB0大，这就是图中下面的第大，这就是图中下面的第一条曲线。一条曲线。当当IB0时，随着时，随着IB的增加，的增加，IC就按就按IB的规律增加。的规律增加。IB取不同的数值，取不同的数值，IBVCE关系就得到一组曲线。关系就得到一组曲线。3.平面晶体管的电流放大系数及影响电流放大系数的因素平面晶体管的电流放大系数及影响电流放大系数的因素 平面晶体管的自建电场平面晶体管的自建电场 基区中某一处的基区中某一处的自建电场的大小与该自建电场的大小与该处的杂质浓度梯度成处的杂质浓度梯度成正比，与该处的杂质正比，与该处的杂质浓度成反比。浓度成反比。平面晶体管
28、的电流密度平面晶体管的电流密度 （略）（略）（略）（略）平面晶体管的发射效率平面晶体管的发射效率 Ree 发射区方块电阻；发射区方块电阻；Rb b 基区方块电阻基区方块电阻方块电阻：正方形片状材料的一边到对边所测得方块电阻：正方形片状材料的一边到对边所测得的欧姆电阻，可由四探针直接测得。的欧姆电阻，可由四探针直接测得。b b平面晶体管的基区输运系数平面晶体管的基区输运系数 平面晶体管的电流放大系数平面晶体管的电流放大系数 影响电流放大系数的因素影响电流放大系数的因素 （1）发射结势垒复合对电流放大系数的影响）发射结势垒复合对电流放大系数的影响 当考虑发射结势垒复合电流当考虑发射结势垒复合电流I
29、rg以后，发射极电以后，发射极电 流就由三部分组成，流就由三部分组成，Ie=Ine+Ipe+Irg。显然，。显然，Irg的存在会的存在会导致发射效率的降低，注入较小时此现象尤为显著。导致发射效率的降低，注入较小时此现象尤为显著。可以通过可以通过适当减小基区杂质浓度和基区宽度适当减小基区杂质浓度和基区宽度的方法来的方法来减小减小Irg的影响。的影响。（2）基区表面复合对电流放大系数的影响）基区表面复合对电流放大系数的影响 当考虑当考虑基区表面复合基区表面复合电流电流Isb时，时，会导致基区输会导致基区输运系数的降低运系数的降低。3.3 晶体管的反向电流晶体管的反向电流晶体管的反向电流是晶体管的重
30、要参数晶体管的反向电流是晶体管的重要参数之一，它包括之一，它包括ICB0，IEB0和和ICE0。反向电流过大的反向电流过大的危害危害：降低成品率降低成品率（反向电流不受输入电（反向电流不受输入电流控制，对放大作用无贡献，而且消耗流控制，对放大作用无贡献，而且消耗电源功率使晶体管发热，影响晶体管工电源功率使晶体管发热，影响晶体管工作的稳定性，甚至烧毁作的稳定性，甚至烧毁）所以，希望所以，希望反向电流越小越好反向电流越小越好。ICB0当当发射极开路（发射极开路（IE=0）时，时，集电极集电极-基极的反向电流基极的反向电流反向电流反向电流少子电流少子电流多子电流多子电流 集电结加反偏集电结加反偏势垒
31、区两边的少子密度势垒区两边的少子密度平衡时的少子密度平衡时的少子密度基区中的少子基区中的少子（电子）及集电区中的少子（空穴）都（电子）及集电区中的少子（空穴）都向结区扩散向结区扩散少子电流少子电流体内复合中心和界面态复合中心体内复合中心和界面态复合中心多子多子电流电流锗锗晶体管的反向电流：反向扩散电流晶体管的反向电流：反向扩散电流（少子电流）（少子电流）硅硅晶体管的反向电流：势垒区的产生电流（因为势垒区晶体管的反向电流：势垒区的产生电流（因为势垒区的产生电流是由势垒区中的复合中心提供的）的产生电流是由势垒区中的复合中心提供的）多子电流多子电流XmC：集电结势垒区宽度：集电结势垒区宽度：晶体管的
32、：晶体管的发射效率发射效率 IEB0 集电极开路（集电极开路（IC=0）时，时，发射极发射极-基极的反向电流基极的反向电流 锗锗晶体管晶体管 硅硅晶体管的晶体管的IEB0完全与完全与ICB0类似类似 I：晶体管反向工作时的发射效率：晶体管反向工作时的发射效率XmE:发射结势垒区宽度发射结势垒区宽度注意注意 晶体管的反向扩散电流和势垒区的产晶体管的反向扩散电流和势垒区的产生电流是很小的。生电流是很小的。引起反向电流过大的原因往往是引起反向电流过大的原因往往是表面表面漏电流漏电流太大。太大。因此，在生产过程中，搞好因此，在生产过程中，搞好表面清洁表面清洁处理处理及及工艺规范工艺规范是减小反向电流的
33、关键。是减小反向电流的关键。ICE0基极开路（基极开路（IB=0）时，时，集电极集电极-发射极之间反向电流发射极之间反向电流 ：共射极电流放大系数：共射极电流放大系数 说明说明 要减小要减小ICE0，必须减小，必须减小ICB0。电流放大系数电流放大系数不要追求过高不要追求过高 （因为（因为ICE0太大，会影响晶体管工作的稳太大，会影响晶体管工作的稳定性）定性）3.4 晶体管的击穿电压晶体管的击穿电压 晶体管的击穿电压是晶体管的晶体管的击穿电压是晶体管的 另一个重要参数另一个重要参数 晶体管承受电压的上限晶体管承受电压的上限 击穿电压有击穿电压有 BVEB0 BVCB0 BVCE0 BVEB0和
34、和BVCB0 BVEB0：集电极开路时，发射极与基极间的：集电极开路时，发射极与基极间的击穿电压，由发射结的雪崩击穿电压决定。击穿电压，由发射结的雪崩击穿电压决定。对于平面管，由于发射结由两次扩散形对于平面管，由于发射结由两次扩散形成，在表面处结两边杂质浓度最高，因而雪成，在表面处结两边杂质浓度最高，因而雪崩击穿电压在结侧面最低，崩击穿电压在结侧面最低，BVEB0由基区扩由基区扩散层表面杂质浓度散层表面杂质浓度NBs决定，所以决定，所以BVEB0只有只有几伏。几伏。硬击穿硬击穿（图中曲线（图中曲线甲甲）：）：BVCB0：集电结的雪崩击：集电结的雪崩击穿电压穿电压VB 软击穿软击穿（图中曲线（图
35、中曲线乙乙）：）：BVCB0比比VB低低 BVCB0：发射极开路时，集电极与基极间的：发射极开路时，集电极与基极间的击穿电压，一般为集电结的雪崩击穿电压。击穿电压，一般为集电结的雪崩击穿电压。BVCE0BVCE0 基极开路时，集电极与发射极基极开路时，集电极与发射极 之间的击穿电压。之间的击穿电压。BVCE0与与BVCB0之间满足以下关系之间满足以下关系 n：常数：常数 集电结低掺杂区为集电结低掺杂区为N型时，型时，硅管硅管n=4，锗管，锗管n=3 集电结低掺杂区为集电结低掺杂区为P型时，型时，硅管硅管n=2，锗管，锗管n=6 因为因为大于大于1，所以，所以，BVCE0 BVCB0。BVCE0
36、测试的电路图测试的电路图 测试时经常可以看到如图所示的测试时经常可以看到如图所示的负阻击穿现象负阻击穿现象。（当（当VC达到达到BVCE0时发生击穿，击穿后电流上升，电压却时发生击穿，击穿后电流上升，电压却反而降低。）反而降低。）谷值电压谷值电压VSUS维持电压维持电压发射结电流集边效应发射结电流集边效应 当电流流过基区当电流流过基区时，将产生平行于时，将产生平行于结面的横向压降，结面的横向压降，使发射结偏压从边使发射结偏压从边缘到中心逐渐减小，缘到中心逐渐减小，从而导致发射极电从而导致发射极电流从边缘到中心逐流从边缘到中心逐渐减小。渐减小。3.5 晶体管的基极电阻晶体管的基极电阻 在在直流直
37、流运用中，对晶体管基本上没有影响。运用中，对晶体管基本上没有影响。在在交流交流运用中，基极电阻将产生电压反馈，运用中，基极电阻将产生电压反馈，因而影响晶体管的因而影响晶体管的功率特性功率特性和和频率特性频率特性。因此，在晶体管设计时，要尽可能因此，在晶体管设计时，要尽可能减小基极减小基极电阻电阻。基极电阻的危害基极电阻的危害 晶体管基极电流晶体管基极电流IB的方向平行于结平面，是一股横向的方向平行于结平面，是一股横向多子电流，如图所示。基区存在一定的电阻（多子电流，如图所示。基区存在一定的电阻（基极电阻基极电阻），），用用rb表示。表示。基极电阻的特点和计算方法基极电阻的特点和计算方法基极电阻
38、的特点和计算方法基极电阻的特点和计算方法特点特点 流过基极电阻的电流是流过基极电阻的电流是不均匀不均匀的，产生的压降也是不均匀的。的，产生的压降也是不均匀的。计算方法计算方法 一般用一般用平均电压法平均电压法或或平均功率平均功率法法来计算。来计算。典型图形典型图形 基极电阻主要取决于晶体管的图形、基极电阻主要取决于晶体管的图形、尺寸和基区方块电阻。尺寸和基区方块电阻。下面分别讨论两种典型图形的基极电下面分别讨论两种典型图形的基极电阻。阻。梳状晶体管的基极电阻梳状晶体管的基极电阻 圆形晶体管的基极电阻圆形晶体管的基极电阻梳状晶体管的相关参数梳状晶体管的相关参数 具有一条发射极、两条基极的梳状晶体
39、具有一条发射极、两条基极的梳状晶体管单元。发射极条长管单元。发射极条长le，条宽，条宽se，基区宽度，基区宽度Wb，基极金属电极条宽，基极金属电极条宽sb，基极与发射极间距，基极与发射极间距离离seb。基极电阻由四部分组成：基极电阻由四部分组成：r b1 发射区下面的电阻发射区下面的电阻 r b2 发射极与基极间的电阻发射极与基极间的电阻 r b3 基极金属电极下面部分的电阻基极金属电极下面部分的电阻 Rcon 基极金属电极与半导体的欧姆接触电阻基极金属电极与半导体的欧姆接触电阻 各部分电阻表达式各部分电阻表达式R Rc c 金属与半导金属与半导金属与半导金属与半导体欧姆接触系数体欧姆接触系数
40、体欧姆接触系数体欧姆接触系数梳状晶体管的基极电阻梳状晶体管的基极电阻 每一个单元的基极电阻每一个单元的基极电阻 具有具有n条发射极的梳状晶体管的基极电阻条发射极的梳状晶体管的基极电阻 减小基极电阻的途径减小基极电阻的途径在不影响晶体管发射效率的情况下，尽可能提高基在不影响晶体管发射效率的情况下，尽可能提高基区杂质浓度，减小方块电阻区杂质浓度，减小方块电阻RB；尽可能减小宽长比；尽可能减小宽长比；发射极条尽可能多，即发射极条尽可能多，即n大；大；做好欧姆接触，减小欧姆电阻做好欧姆接触，减小欧姆电阻Rcon。圆形晶体管的相关参数圆形晶体管的相关参数 如图，圆形晶体管的管芯结构。如图，圆形晶体管的管芯结构。r1发射结半径，发射结半径，r2基极半径。基极半径。基极电阻包括三部分基极电阻包括三部分 r b1 发射极下面部分的基极电阻发射极下面部分的基极电阻 r b2 发射极外部的基极电阻发射极外部的基极电阻 Rcon 基极欧姆接触电阻基极欧姆接触电阻圆形晶体管的管芯结构示意图圆形晶体管的管芯结构示意图 各部分电阻表达式各部分电阻表达式AMb 基极面积基极面积圆形晶体管基极电阻圆形晶体管基极电阻