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1、n理論基礎n各类膜系n硬體系統n品質維護一.光學薄膜理论基础 光學薄膜 基本上是藉由干涉作用而達到效果的。是在 學元件上或 獨立的基板上鍍上一層或多層的介電質膜或 金屬膜或介電質膜與金 屬膜組 成的膜堆來改變光波傳導的特性。因 此 波在薄膜中行進才 會發生透射、反射、吸 收、散射、相位偏移等變化。光波經過薄膜後在光譜上會起變化，因此這些變化會使得 學薄膜至少具有下列功能：1.反射 的提高或 穿透 的降低 2.反射 的降低或 穿透 的提高 3.雙色、偏極光的分光作用 4.光譜帶通或截止等濾 光作用 5.輻射器之光 通量調變 6.光電資訊的儲存及輸入 1.在膜層中，波的干涉結果，如R%、T%都是與
2、膜質本身和兩邊界邊的 折射率有關系，相位變化也是如此。2.由于干涉作用造成的反射率有時升高，有時反而降低，都 要視膜层的折射率高於或低於基板折射率而定。若NfNs，則反射率會提高(Ns为基底)NfNs，則反射率會降低 3.因此若要在鏡片上鍍上抗反射膜，薄膜的折射率就必須小於基板的折射率,且膜厚要在1/4波長的奇數倍，才會使反射 達到最小。干涉現象必須滿足3個條件才能發生:1.振動頻率相等 2.振動方向一致 3.相位差恆定一.光學薄膜理论基础镀膜目的:n反射率的提高或透射率的降低n反射率的降低或透射率的提高n分光作用：中性分光、变色分光、偏极光分光 n光谱带通、带止及长波通或短波通之滤光作用n相
3、位改变n液晶显示功能之影显n色光显示、色光反射、伪钞及有价证券之防止1.光波的引导、光开关及积体光路 一.光學薄膜理论基础單層減反射膜二.各种膜係介紹AR-Coating輔正膜IR膜IR膜高反膜三.硬体系统鍍膜機臺內部結構離子源助鍍鍍膜機類型鍍膜機构造五大系統n排氣系統n控制系統n蒸鍍系統n監控系統n輔助系統排氣系統工作原理通過三個泵浦(RP,MP,DP)的工作,從而達到鍍膜所需的真空條件 1大氣壓=760torr =1.013*105pa A)3.0*10-5 TORR B)4.0*10-4 pa泵浦及真空計圖 RPMP DP真空計控制系統工作原理通過自動化程式來控製所有泵浦和閥門的正常運轉
4、,從而確保鍍膜機的效率的品質鍍膜機控制柜 主主要要通通過過 PLC 控控制制電電路路自自動動完完成成鍍膜機控制界面機機器器觸觸摸摸界界面面蒸鍍系統工作原理鍍膜藥材在真空中,通過電子槍發出的電子束或鎢片的電流使其熔解而蒸發后,而沉積在基底(鏡片)的表面蒸鍍圖片電子槍蒸鍍裝置鎢片蒸鍍裝置蒸鍍所用藥材MGF2H4TiO2Ti3O5AL2O3SIO2金屬AL,Ag,CrNB2O5Ta2O5監控系統工作原理通過專用的軟體來縮小設計鍍膜厚度和實際鍍膜厚度之間的差值監控控制系統示意圖 LP1300EBA 透過式光學監控 LP900EBA 石英膜厚監控石英膜厚儀膜厚系統控制界面1蒸蒸鍍鍍中中畫畫面面!監控系統
5、控制界面2蒸蒸鍍鍍完完成成畫畫面面,全全部部通通過過自自動動化化程程式式控控制制!監控系統的種類n透過式 (37臺)n反射式 (4臺)n時間 (3臺)n目視/石英監控(7臺)輔助系統工作原理1.提升機臺的抽氣性能2.便於人員操作3.提高機臺的精度4.分析異常產生的原因輔助設備圖片冰水機POLYCOLD叉車冷卻水鍍膜三要素1.真空度 (3.0*10-5torr)2.抽氣時間(45min)3.溫度 (300)當以上三個條件同時滿足時,自 動化程式會自動運行保養的目的n讓鍍膜機能長時間地正常運轉n降低故障時間n提高機臺精度,穩定品質n加快抽氣速度,提升機臺利用率日常保養項目及周期n電子槍(坩鍋)部位的吸塵-1次/伞n離子槍部位的清潔-1次/伞n遮板的清潔-3次/班n燈絲的更換-1次/班n綠紙的更換-2次/班n機臺外表的擦拭-2次/班定期保養項目及周期n泵浦和管路的保養-1次/年n油類的更換(或添加)-1次/年n密封環的更換-1次/年n加熱絲的噴砂處理-1次/年n真空桶的打磨-1次/3天n內壁板的噴砂處理-1次/3天n真空計的校正-1次/月n投光源燈泡的更換-1次/15天