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1、羟基的保护与去保护羟基广泛存在于许多在生理上与合成上有意义的化合物中，如核苷，碳水化合物、甾族化合物、大环内酯类化合物、聚醚、某些氨基酸的侧链。另外，羟基也是有机合成中一个很重要的官能基，其可转变为卤素、氨基、羰基、酸基等多种官能团。在化合物的氧化、酰基化、用卤代磷或卤化氢的卤化、脱水的反响或许多官能团的转化过程中，我们常常需要将羟基保护起来。 在含有多官能团复杂分子的合成中，如何选择性保护羟基与脱保护往往是许多新化合物开发时的关键所在，如紫杉醇的全合成。羟基保护主要将其转变为相应的醚或酯，以醚更为常见。一般用于羟基的保护醚主要有硅醚、甲基醚、烯丙基醚、苄基醚、烷氧甲基醚、烷巯基甲基醚、三甲基
2、硅乙基甲基醚等等。羟基的酯保护一般用的不多，但在糖及核糖化学中较为多见。有机合成以及全合成最常用策略就是官能团的保护去保护,这里我浅薄总结一下羟基的保护与去保护,希望大家补充与批评. 羟基保护主要分为:硅醚保护,苄醚保护与烷氧基甲基醚或烷氧基甲基取代醚这三类.:硅醚保护基:TMS, TES, TBS, TIPS, TBDPS特点: (1)易保护,易去保护均可以用Bu4NF脱除; (2)在游离的伯胺肿胺存在下可以选择性对羟基进展保护; (3)硅醚对酸碱都敏感,不同的硅醚对酸碱有相对的稳定性; (4) 空间效应与电子效应是羟基保护与脱保护的主要影响因素; (5)对于没有什么空间位组的伯醇与仲醇,一
3、般不用TMS保护,因为TMS在弱酸条件下极易脱除(硅胶柱).硅醚的稳定性:在酸性条件下的稳定性:TMS(1)TES(64)TBS(20,000)TIPS(700,000)TBDPS(5000,000)碱性条件下的稳定性:TMS(1)TES(10-100)TBSTBDPS(20,000)CH3CN丙酮,反响体系可以加NaI或者KI催化.苄基的脱除:一般情况用催化加氢的方法,也可以用Lewis酸脱出(TMSI), 催化加氢假设分子中有非芳性的胺,会降低了催化剂的活性,阻碍了O-脱苄.在反响体系中参加Na2CO3可以防止苄基脱除,而可以使双键复原.苄醚氢解溶剂影响:THFHexanolMeOHToluene(氢解反响速率大小顺序)PMB保护:PMB与苄基类似,均可以通过氢化的方法脱出,PMB还可以通过氧化的方法脱除(DDQ)常用的有THP, MOM, EE, SEM等,其中THP, EE, MOM对酸不稳定,均可以用酸脱除,对酸的稳定性顺序:MOMEETHP, THP与EE的性质类似,用弱酸脱除,而MOM对弱酸稳定,一般用强酸来脱除,SEM一般酸性条件稳定(AcOH/H2O,THF, 45度, 7h 可以脱除THP, EE与TBS,而SEM是稳定的).第 3 页