《半导体制造中常用化学品.pdf》由会员分享，可在线阅读，更多相关《半导体制造中常用化学品.pdf（4页珍藏版）》请在taowenge.com淘文阁网|工程机械CAD图纸|机械工程制图|CAD装配图下载|SolidWorks_CaTia_CAD_UG_PROE_设计图分享下载上搜索。
1、.编辑 doc 半导体制造中常用化学品半导体制造过程中常用的酸名称符号用途氢氟酸HF刻蚀二氧化硅（SiO2）以及清洗石英器皿盐酸HCl湿法清洗化学品，2 号标准清洗液的一部分，用来去除硅中的重金属元素硫酸H2SO4“piranha”溶液（7 份 H2SO4和 3 份 30%的双氧水）用来清洗硅片缓冲氧化层蚀刻（BOE）氢氟酸和氟化铵溶液HF/NH4F刻蚀二氧化硅薄膜（SiO2）磷酸H3PO4刻蚀氮化硅（Si3N4）硝酸HNO3用 HF和 HNO3的混合溶液来刻蚀磷硅酸盐玻璃（PSG）半导体制造过程中常用的碱名称符号用途氢氧化钠NaOH湿法刻蚀氢氧化铵NH4OH清洗剂氢氧化钾KOH正性光刻胶显影
2、剂氢氧化四甲基铵TMAH正性光刻胶显影剂斗一阴阳斟i 一一句-t一一i也+-!1十H由”时.-町，1，.-,.川同叫rr-崛伽m叩刷一四唰聊.。1s一一仙品，一-1 .勘-+._j.-.-.r一.甲干”幽r“._.甲一一.uH丁叫一”叩品叫卡叫叫叫一”“叫由自由翩.-l.编辑 doc 半导体制造过程中常用的溶剂名称符号用途去离子水DI water广泛用于漂洗硅片和稀释清洗剂异丙醇IPA通用的清洗剂三氯乙烯TCE用于硅片和一般用途的清洗溶剂丙酮Acetone通用的清洗剂（比IPA 更强）二甲苯Xylene强的清洗剂，也可以用来去除硅片边缘光刻胶半导体制造过程中常用的通用气体性质名称/符号用途惰性
3、氮气/N2排出残留在气体配送系统和工艺腔中的湿气和残余气体，有时也作为某些淀积工艺的工艺气体氩气/Ar在硅片工艺过程中用在工艺腔体中氦气/He工艺腔气体，也用于真空室的漏气检查还原性氢气/H2外延层工艺的运载气体，也用在热氧化工艺中与O2反应生成水蒸气等氧化性氧气/O2工艺腔气体i一！斗一一”!-”一-.-1一-L-.一一一一一一.l r刷.“一”寸.寸.一甲m刷寸j一，一-f榈f.”，由，斗l，一-1-一一一JT”“叩r幽叫“t一鞠叩m也.蝇一”一一，幽1”喃帽”町，一”由”一，自由-m仙”.-1.编辑 doc 半导体制造过程中常用的特种气体性质名称/符号用途氢化物硅烷/SiH4气相沉积工艺
4、的硅源砷化氢/AsH3n 型硅片离子注入的砷源磷化氢/PH3n 型硅片离子注入的磷源乙硼烷/B2H6p 型硅片离子注入的硼源原硅酸四乙酯/（TEOS）Si（OC2H5）4气相沉积工艺的二氧化硅源二氯硅烷/SiH2Cl2气相沉积工艺的硅源氟化物三氟化氮/NF3等离子刻蚀工艺中的氟离子源六氟化钨/WF6金属淀积工艺的钨源四氟甲烷/CF4等离子刻蚀工艺中的氟离子源四氟化硅/SiF4等离子刻蚀工艺中的氟离子源酸性气体三氟化氯/ClF3工艺腔体清洁气体三氟化硼BF3p 型硅片离子注入的硼源氯气/Cl2金属刻蚀中所用氯的来源三氯化硼/BCl3p 型硅片离子注入的硼源，金属刻蚀中所用氯的来源其他氯化氢/HC
5、l工艺腔体清洁气体和去污剂氨气/NH3工艺气体用来和SiH2Cl2反应生成淀积用的Si3N4笑气（一氧化二氮）/N2O与硅反应生成二氧化硅的氧源一氧化碳/CO用在刻蚀工艺中-”一斗-一一一一一叶-.-.），一一”舍一一”一l.刷，.-,.甲？”M叫“”刷.川叫”-1 b”，一一岛.-i L.一.J.一HJr.”“蝇幽.叩机制r-叩.幽”甲，一鞠叩也”叩一1卜”仙，一！-.一一一一斗一一一”一一一一i！”十，叩峭r”确俑叫叫“叫叫叫”叩寸”-.叩叫叫”叫”叫”白自由1I i，一-1.一一J；中十一，.u.,.一一一jr叫叫E叫叩.町T叫刊”叩叫叫E叫.叩幡叩鞠山”由自由一1L一，事，一一.叩”叫
6、“户，.一.-叶j.幽幽一叩斗”四”？一，曰“电.编辑 doc 硅片湿法清洗化学品沾污名称配料分子式颗粒piranha（SPW）硫酸/过氧化氢/去离子水H2SO4/H2O2/H2OSC-1（APW）氢氧化铵/过氧化氢/去离子水NH4OH/H2O2/H2O有机物SC-1（APW）氢氧化铵/过氧化氢/去离子水NH4OH/H2O2/H2O金属（不含铜）SC-2（HPW）盐酸/过氧化氢/去离子水HCl/H2O2/H2Opiranha（SPW）硫酸/过氧化氢/去离子水H2SO4/H2O2/H2ODHF氢氟酸/水溶液HF/H2O自然氧化层DHF氢氟酸/水溶液HF/H2OBHF缓冲氢氟酸NH4F/HF/H2
7、O典型的硅片湿法清洗顺序步骤目的piranha清洗有机物与金属UPW 清洗（超纯水）清洗DHF清洗自然氧化层UPW 清洗清洗SC-1 清洗颗粒UPW 清洗清洗DHF清洗自然氧化层UPW 清洗清洗SC-2 清洗金属UPW 清洗清洗DHF清洗自然氧化层UPW 清洗清洗干燥干燥.-.!-甲牛一Jj_._-t一一斗一甲甲t一jr”._.-r-.”？刷一”叫-同一t精._.”由叫一叫“白j$.臼！喇卜”一r-.，一酌”！；一Jjj一j？一.t.l H幽翩一一？一刷“町.喃一副白.“伽4-.一咱一一副一？一副甲白白由自.阳白白嗣同精明精.町.,.刷.,.,.-.”?”“.刷。町.响唰白叫四”川”叩唰白白白白叫叫帽”唰叫町町唰-.”一.”寸一”唰嗣同唰叩叩町白白白白.争叫”问唰叫一.-由叫-叫