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1、目录目录1、EDI简介2、主要EDI厂家介绍3、EDI设备的构造4、EDI的工作原理5、EDI系统设计6、EDI与传统混床的比较第1页/共40页EDIEDI简介简介电渗析离子交换两个化工单元操作的有机结合第2页/共40页EDIEDI简介简介EDI：Electro deionizationCDI：Continuous Electro deionization什么是EDI连续电除盐技术 连续电去离子技术 填充床电渗析技术填充床电渗析技术第3页/共40页EDIEDI技术的特点技术的特点水的连续净化生产而无需化学再生的过程以RO代替阴阳离子交换作为预处理提供稳定的水质，生产出电阻率高达15MCM的超纯
2、水操作管理方便，劳动强度小 结构紧凑、占地小运行费用低，能耗低，不污染环境第4页/共40页EDIEDI的应用领域的应用领域微电子工业，半导体工业 发电工业 制药行业实验室 在表面清洗、表面涂装、电解工业和化工工业的应用也日趋广泛 第5页/共40页纯水工艺的发展历程纯水工艺的发展历程第6页/共40页EDIEDI的发展历程的发展历程1955年，美国Walters论述EDI工艺 1984年，我国研发出EDI工艺纯水样机 1987年，美国Millipure公司实现EDI产业化1996年，美国Ionpure公司推出厚室EDI 1997年，加拿大Ecell公司，厚室EDI装置，并实现模块化设计第7页/共4
3、0页水处理技术的革命历史上，制取超纯水系统总是要依赖于离子交换。这些系统由阳床+阴床+混床组成。近几十年以来，混合床离子交换技术一直作为纯水制备的标准工艺。由于其需要周期性的再生且再生过程中使用大量的化学药品（酸碱）和纯水，因此已很难满足于无酸碱纯水系统。于是将膜和树脂结合EDI技术成为水处理技术的一场革命。其离子交换树脂的的再生使用的是电，而不再需要酸碱，因而更满足于当今世界的环保要求。在过去的二十多年，反渗透已经在工业上被接受，用来代替阳床和阴床。现在EDI系统也在精制领域代替了混床，与RO一起，EDI系统将提供一个连续运行的、无化学处理的系统。第8页/共40页主要EDI厂家及其产品Ece
4、ll公司 MK2系列 Ionpure公司 LX系列 Electropure公司 XL系列 OMEXELL公司 OMEXELL系列 其他 格兰特，东大，晶源第9页/共40页第10页/共40页Ionpure锦界亚华热电 450t/h第11页/共40页Electropure公司 第12页/共40页OMEXELL210型EDI元件第13页/共40页EDI 设备的构造阴离子交换膜阳离子交换膜隔板阴阳电极阴阳离子交换树脂第14页/共40页E-cell模块分解第15页/共40页EDI的工作原理 将电渗析和离子交换相结合，利用混合离子交换树脂吸附水中得阴阳离子，同时这些被吸附得离子又在直流电压得作用下，分别透
5、过阴阳离子交换膜而被去除的过程，这一过程中离子交换树脂是被电连续再生的，因此不需要使用酸碱再生第16页/共40页第17页/共40页阴极(-)阳离子交换膜产品水阴离子交换膜浓水阳离子交换膜阳极(+)EDI内部构造示意第18页/共40页电渗析第19页/共40页离子交换和离子迁移第20页/共40页淡水室 水分子的分解和再生第21页/共40页浓水室进水被浓缩极端的pH值容易导致结垢浓水室流速加大可以减少结垢第22页/共40页电极化学反应第23页/共40页EDI系统设计第24页/共40页典型的EDI工艺流程图第25页/共40页典型的EDI工艺流程图第26页/共40页EDI进水水质要求给水：RO产水；电导
6、率：430uS/cmpH：6.08.0；温度：535进水压力：最高4bar；最小1.5bar出口压力：浓水、极水出口压力低于产水硬度：最大为1.0ppm，建议0.1ppm有机物：最大为0.5ppm TOC，建议为零氧化剂：最大0.05ppm(Cl);0.02ppm(O3)二氧化硅：RO产水一般为0.050.15ppm第27页/共40页EDI系统的回收率EDI系统的回收率主要由进水硬度决定低回收率减少了结垢的机会通过调节浓水排放量,以调整系统的回收率进水硬度 0.1 ppm，回收率可达 95%进水硬度 0.5 ppm，回收率为 90%进水硬度 0.75 ppm，回收率为 85%进水硬度 1.0
7、ppm，回收率为 80%第28页/共40页混床和EDI的结构比较第29页/共40页EDI的优势2.连续运行，操作简便，消除了间歇运行弊端，保证水质的连续稳定，不需要操作人员的人工干预，无需复杂的操作步骤混床的间歇运行过程混床的间歇运行过程第30页/共40页EDI的优势第31页/共40页EDI的优势第32页/共40页工程照片欣赏OMEXELL210OMEXELL210模块装置模块装置第33页/共40页OMEXELL316模块装置第34页/共40页EDI模块小型试验装置第35页/共40页半导体厂，产水半导体厂，产水25T/H25T/H，Electropure Electropure 单个模块产水量单个模块产水量为为 2.3T2.3T 第36页/共40页E-cell EDIE-cell EDI 第37页/共40页IONPURE VNXIONPURE VNX系列系列第38页/共40页第39页/共40页感谢您的观看！第40页/共40页