ZnTe核壳结构的半导体量子点一步合成,无机化学论文.docx

上传人:安*** 文档编号:73308728 上传时间:2023-02-17 格式:DOCX 页数:7 大小:19.44KB
返回 下载 相关 举报
ZnTe核壳结构的半导体量子点一步合成,无机化学论文.docx_第1页
第1页 / 共7页
ZnTe核壳结构的半导体量子点一步合成,无机化学论文.docx_第2页
第2页 / 共7页
点击查看更多>>
资源描述

《ZnTe核壳结构的半导体量子点一步合成,无机化学论文.docx》由会员分享,可在线阅读,更多相关《ZnTe核壳结构的半导体量子点一步合成,无机化学论文.docx(7页珍藏版)》请在taowenge.com淘文阁网|工程机械CAD图纸|机械工程制图|CAD装配图下载|SolidWorks_CaTia_CAD_UG_PROE_设计图分享下载上搜索。

1、水溶性CdTe/ZnTe核壳结构的半导体量子点一步合成,无机化学论文半导体量子点作为一项全新的技术,已成为本世纪最有价值的材料来源之一,现已广泛应用于生物荧光探针、太阳能光电池、激光等诸多领域。水相合成量子点的方式方法简单,成本低廉,且量子点水溶性及生物相容性好,缺乏的是这些量子点的稳定性较差,细胞毒性较大。假如采用包壳的方式方法制备核壳型量子点可有效地改善其光学性能和稳定性。当前,水溶性量子点的制备方式方法主要是以窄带隙半导体纳米粒子为核,用另一种晶体构造类似、带隙更大的半导体纳米材料包覆,构成核/壳构造的复合纳米粒子,如 CdTe/ZnSe、CdTe/ZnS、CdTe/CdS等。尽管很多研

2、究集中在 ZnS、CdS、ZnSe 包裹的CdTe 量子点上,但由于 CdTe 与它们的晶格失配度较大( 分别约为 16. 4%,10. 8%,14%) ,造成在量子点外表构成新的缺陷,致使荧光量子产率比拟低。而 ZnTe 与 CdTe 核的晶格失配度相对较小( 约为 6%) ,且 ZnTe 量子点的荧光发射光谱范围在蓝光到紫外光的短波范围,因而它在电子行业具有较强的应用价值。常用的制备含碲量子点所用的含碲前体主要有 NaHTe、H2Te 或 Na2TeO3。但是NaHTe 极不稳定,碰到氧气即被氧化,制备和使用时均需在惰性气氛中进行; H2Te 也是一种在空气中不稳定且毒性很强的物质; Na

3、2TeO3固然比拟稳定,但同样是剧毒物质,且价格昂贵。因而,寻找一种稳定、价廉且毒性小的碲前体成为了当前相关学科研究者们研究的热门。TeO2是一种不溶于水的白色粉末,在空气中很稳定,且价格比拟低廉,在强复原性物质 NaBH4的作用下,能够合成 CdTe 量子点,但该反响时间久,且容易产生 CdTeO3黑色沉淀,造成量子产率不高。本文以 TeO2为碲源,巯基丙酸( MPA) 为稳定剂和复原剂,采用微波辅助加热法一步合成水溶性的 CdTe/ZnTe 核壳构造的半导体量子点,考察了合成条件对量子点发光性质的影响。1、 实验部分1. 1 试剂与仪器氯化镉、氢氧化钠、硫酸锌、TeO2、巯基丙酸( MPA

4、) 均为分析纯; 实验所用水为超纯水。UV-2401PC 型紫外分光光度计; CARY E-CLIPSE 荧光分光光度计; AXS( D8) X 射线衍射仪;JEM-2100F 型透射电子显微镜; S-4800 扫描电子显微镜。1. 2 实验方式方法称取 2. 0 mmol CdCl2 2. 5H2O、2. 0 mmol Zn-SO4 7H2O 和 5. 4 mmol MPA 溶于 100 mL 的超纯水中,在磁力搅拌下滴加 1 mol/L 的 NaOH 溶液,调节 pH 值在 10. 0 左右,参加 1. 0 mmol 的 TeO2,将反响瓶放入微波反响器中回流。通过控制反响时间得到不同粒径

5、大小的 CdTe/ZnTe 量子点溶液。2、 结果与讨论2. 1 CdTe /ZnTe 量子点合成条件的优化2. 1. 1 Zn / Cd 摩尔比对 CdTe / ZnTe 荧光量子产率的影响 Cd2 += 2. 0 mmol,MPA= 7. 0 mmol,pH = 10. 0,温度 100 ,考察不同的 Zn2 +参加量对荧光量子产率的影响,结果见图 1。由图 1 可知,在一样反响时间内,随着壳层ZnTe 的不断增加,荧光量子产率先增大后减小。这是由于当 Zn 用量较少时,CdTe 核体不能完全被反响所生成的 ZnTe 包覆,主要是由于 CdTe 外表缺陷很大,只要小部分受激电子发荧光; 随

6、着 Zn/Cd 摩尔比的不断增大,CdTe 的外表缺陷逐步减少,当到达最优值时,量子点的外表缺陷到达最少,此时的荧光强度也最强; 假如继续增加 Zn 的用量,壳层 ZnTe晶体继续长大,导致其外表又构成了新的缺陷,造成荧光强度减弱。当 Zn2 +/ Cd2 +的摩尔比为 2. 0,反响时间为 4 h 时,CdTe/ZnTe QDs 的最大荧光量子产率为 38. 08%。2. 1. 2 Zn / MPA 摩尔比对 CdTe / ZnTe 荧光量子产率的 影 响 Cd2 + = 2. 0 mmol,Zn2 + =4. 0 mmol,pH = 10. 0,温度 100 ,考察不同的 MPA参加量对荧

7、光量子产率的影响,结果见图 2。由图 2 可知,CdTe/ZnTe 的荧光强度先加强后减弱。当 Zn/MPA 的摩尔比为 1/1. 5 时,量子点的荧光强度最大; 继续增加 MPA 的用量,荧光强度反而减弱了。可能原因是 MPA 的参加量过少时,造成Zn 和 MPA 的配位缺乏,难以构成 ZnTe 壳层; 当MPA 的参加量太多时,又会构成 Zn-( GSH)2,同样难以构成 ZnTe 壳层。其反响方程式如下:2. 2 CdTe /ZnTe 量子点的光学特性图 3 为反响 30 min 后的 CdTe 和 CdTe/ZnTeQDs 在 365 nm 激发下的紫外、荧光光谱图。由图3 可知,Cd

8、Te 和 CdTe/ZnTe QDs 的发射峰分别在 544 nm 和 556 nm 处,CdTe/ZnTe 荧光发射峰红移了近 12 nm。主要是由于 ZnTe 壳层对 CdTe外表电子态有一定的影响。同时,CdTe/ZnTeQDs 的荧光强度也有很大的提高,这是由于壳层ZnTe 包覆在 CdTe 外表后,有效地消除了内核 CdTeQDs 的外表缺陷,其荧光强度进而得到了提高。CdTe / ZnTe QDs 在 480 525 nm 附近没有明显的吸收峰,这可能是由于 ZnTe 在这一范围没有紫外吸收,而 CdTe QDs 在 525 nm 有一个比拟明显的吸收峰,进而表示清楚在 CdTe

9、外表包覆了一层比拟致密的ZnTe。图 4 为 在Cd2 + = 2. 0 mmol,Zn2 + =4. 0 mmol,MPA = 7. 0 mmol,pH = 10. 0,温度100 条件下,不同的反响时间制备的量子点的荧光光谱图。由图 4 可知,随着反响时间的延长,CdTe/ZnTeQDs 的荧光发射峰从开场的 556 nm 红移到了694 nm的近红外区域。荧光强度随着反响时间的延长呈现出先加强后减弱的趋势,但是随着壳层 ZnTe的不断增加,稳定剂 MPA 也不断地被氧化,ZnTe 外表重新构成新的外表缺陷,所以荧光强度又逐步减弱。除此之外,不同的反响时间段合成出来的量子点呈现不同的发光颜

10、色。2. 3 CdTe /ZnTe 量子点的性质表征图 5 为反响时间 4 h 的 CdTe/ZnTe 量子点的HRTEM 图。由图 5 可知,CdTe/ZnTe 量子点具有明显的晶格条纹,平均粒径大约在 4 nm,分散不是很均匀,有点团圆,这可能是由于样品在做电镜经过中没有充分的分散所造成的。由图 6 可知,产物在 2 值为 24,40 和 46 的附近有 3 个明显的衍射峰,分别对应于其( 111) 、( 220) 和( 311) 晶面,但与单核的 CdTe 量子点相比明显减弱,这主要是由于所合成的 CdTe 量子点被ZnTe 包覆。为了更近一步证明所合成的 CdTe 量子点被ZnTe 包

11、覆,我们对样品进行了 EDX 能谱的元素分析,见图 7。由图 7 可知,样品中含有 Zn、Cd、Te 元素,表示清楚已经有 ZnTe 构成。华而不实出现的 C、O、S 均来自量子点外层包覆的稳定剂 MPA。2. 4 CdTe /ZnTe 量子点的反响机理本实验采用微波合成/萃取反响工作站,TeO2为碲源,巯基丙酸( MPA) 为稳定剂和复原剂,在不加 NaBH4的情况下,一步合成水溶性的 CdTe/ZnTe核壳构造的半导体量子点。其可能的反响机理如下:3、 结论以 TeO2为碲源,巯基丙酸( MPA) 为稳定剂和复原剂,采用微波辅助加热法一步合成水溶性CdTe / ZnTe 量子点的最佳条件为: Zn2 +/ Cd2 +的摩尔比为 2. 0,反响时间为 4 h,Zn/MPA 的摩尔比为1 /1. 5,pH = 10. 0,温度 100 ,并对其进行了表征。结果表示清楚,CdTe/ZnTe QDs 的荧光发射峰红移到了近红外区域,且荧光强度加强。

展开阅读全文
相关资源
相关搜索

当前位置:首页 > 应用文书 > 毕业论文 > 文化交流

本站为文档C TO C交易模式,本站只提供存储空间、用户上传的文档直接被用户下载,本站只是中间服务平台,本站所有文档下载所得的收益归上传人(含作者)所有。本站仅对用户上传内容的表现方式做保护处理,对上载内容本身不做任何修改或编辑。若文档所含内容侵犯了您的版权或隐私,请立即通知淘文阁网,我们立即给予删除!客服QQ:136780468 微信:18945177775 电话:18904686070

工信部备案号:黑ICP备15003705号© 2020-2023 www.taowenge.com 淘文阁