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1、目 录2 2 光催化氧化技术的基本原理及特点1.光催化氧化技术的影响因素2.光催化氧化技术存在问题.3 参考文献.4第1页/共27页光催化氧化技术的概念光催化氧化技术的概念3 3 光催化氧化是在反应溶液中加入一定量的半导体催化剂，使其在紫外光的照射下产生 ，通过 的强氧化作用降解有机污染物。第2页/共27页4 4光催化氧化技术的基本原理光催化氧化技术的基本原理半导体的能带理论半导体的能带理论 当用能量等于或大于禁带宽度的光照射时，半导体价带上的电子e-被激发跃迁到导带，同时在价带产生相应的空穴h+，这样在半导体内部生成e-h+对。它们能够在电场作用下或通过扩散的方式运动，与吸附在半导体催化剂粒
2、子表面上的物质发生氧化或还原反应。第3页/共27页5 5图1 光催化氧化原理图价带禁带导带还原性物质被空穴h+氧化氧化性物质被电子e-还原第4页/共27页6 6常用的催化剂常用的催化剂 光催化氧化常用的催化剂有：TiO2、ZnO、CdS、WO3 等。TiO2原料易得，耐腐蚀性能好，对光的稳定性强，且具有较强的光催化氧化能力，是使用最多的光催化剂。图2 TiO2光电效应图第5页/共27页7 7TiO2光催化机理光催化机理第6页/共27页8 8光催化氧化技术的特点光催化氧化技术的特点适用范围广，处理效果好反应成本低且反应条件温和反应易于控制且反应过程不产生二次污染反应速度快第7页/共27页9 9光
3、催化氧化的影响因素 催化剂用量 有机污染物的降解率开始随TiO2用量的增加而提高，当量增加到一定量时降解速率不再提高，反而有所下降。开始速率提高是因为催化剂的增加，产生的 增加，当催化剂增加到一定的程度时，会对光吸收有影响。第8页/共27页10 10Fig.3 Effect of catalyst loading on photocatalytic degradation rate of Brij 35Experimental condition:Brij 350=0.25mM,I=19.9mW cm-2,VL=250mL,T=298K,pH7.0最佳催化剂量0.1g/L第9页/共27页11
4、11Fig.4 Effect of catalyst loading on PCD of phthalic acid(phthalic acid concentration=100mg/L,reaction time=6h)第10页/共27页12 12光催化氧化的影响因素 污染物种类吸附到TiO2表面的速度较快,但降解速度较慢苯环结构易受 攻击有机污染物以长碳链为主的烷烃类含苯环的芳香族类化合物第11页/共27页13 13Fig.5 Degradation of various aromatic carboxylic acids with time(acid concentration=100
5、mg/L,catalyst amount=2.5g/L)邻氯苯甲酸苯甲酸邻苯二甲酸邻硝基苯甲酸 第12页/共27页14 14光催化氧化的影响因素温度 受温度影响的反应步骤主要是吸附、解吸、表面迁移和重排,而这些均不是决定光反应速率的关键步骤,因而反应温度对光催化降解污染物的影响很小。第13页/共27页15 15麦草畏化学结构Fig.6 Effect of temperature on the solar photocatalytic degradation of dicamba in aqueous solution.Insert figure:plot of Ln(k)versus 1/T.
6、Dicamba=10g/mL,TiO2=30mg(1mg/mL),irradiation time=10min,light intensity=1.6 mW/cm2,pH5.0.第14页/共27页16 16光催化氧化的影响因素 温度Fig.7 Proposed photocatalytic degradation pathway of dicamba.第15页/共27页17 17光催化氧化的影响因素 pH 反应体系的pH值对TiO2表面态、界面电位和表面电荷及聚集性均有较明显的影响。pH较低时,TiO2表面质子化,使其表面带有正电荷,因而对光生电子向TiO2表面转移有利；pH较高时,OH-将使
7、TiO2表面带有负电荷,有利于空穴从颗粒内部转移到颗粒的表面；因此,光催化氧化一般在pH值较高或较低时反应速度最大。第16页/共27页18 18Fig.8 Effect of initial pH on the solar photocatalytic degradation of dicamba in aqueous solution.Dicamba=10g/mL,TiO2=30mg(1mg/mL),irradiation time=10min,light intensity=1.6 mW/cm2,20最佳pH5.0 第17页/共27页19 19Fig.9 Photocatalytic de
8、gradation of Brig35 at different pH第18页/共27页20 20光催化氧化的影响因素 污染物初始浓度 反应物浓度很低时，降解速率与浓度成正比；反应物浓度增加到某一程度时，随着反应物浓度加，反应速率虽有所增加，但这种增加与反应物已不存在正比例关系；反应物浓度达到某一高度时，反应速率将不再随浓度的变化而变化。第19页/共27页21 21Fig.10 Effect of initial concentration of phthalic acid on the degradation amount(catalyst amount=2.5 g/l,reaction t
9、ime=3 h).第20页/共27页22 22光催化氧化的影响因素光源和光强 半导体光催化降解所需要的光源为紫外或近紫外波段，光催化光源大多为汞灯、紫外灯、黑光灯等。实践中常用180-380nm的波段，通常随着光强的增加，产生的光子数目增多，光催化剂受光激发产生的电子-空穴对增多，溶液中的 越多，有利于污染物的降解。第21页/共27页23 23光催化氧化的影响因素催化剂的结构 催化剂的晶粒尺寸、存在状态以及表面改性等均对其光催化性能有较大影响。固定相膜体系光催化氧化：用化学或物理方法将半导体材料固定于载体如石英玻璃板、玻璃纤维布、陶瓷等的表面，制成薄膜光催化剂。通过金属离子或稀土金属的掺杂以提
10、高光催化活性，晶格中掺杂的Fe3+、Mo5+、V5+、Re2+等可显著提高光催化效率。第22页/共27页24 24Fig.11 Photocatalytic decomposition of RhB under visible light irradiation with(a)no photoctatlyst,(b)nonporous TiO2 film,(c)porous TiO2 film,(d)-(f)porous F-TiO2 film:10mM,40mM,50mMAFM images of(a)porous TiO2 film and(b)porous F-TiO2(40 mM)fi
11、lm第23页/共27页2 25 5光催化氧化技术存在的问题光催化量子效率低，难以处理量大且污染物浓度高的废水；光谱响应范围窄，太阳能利用率低；光催化氧化效率受到废水色度、浊度和其他多种因素制约多相光催化氧化反应机理尚不清楚；光催化剂易失活，难回收等。第24页/共27页26 26参考文献1 V.G.Gandhi,M.K.Mishra,M.S.Rao,et al.Comparative study on nano-crystalline titanium dioxide catalyzed photocatalytic degradation of aromatic carboxylic acid
12、s in aqueous mediumJ.Journal of Industrial and Engineering Chemistry.2011,02:331-3392 suspensionsJ.Chemosphere.2010,01:205-2093 Kiyoyki EGUSA,Satoshi KANECO,Yuka KAWAMOTO,et al.Solar Photocatalytic Degradation of Dicamba in Aqueous Solution and Its MechanismJ.BUNSEKI KAGAKU.2011,60(4):345-3514 Rongxin Mu,Zhaoyi Xu,Liyuan Li,et al.On the photocatalytic properties of elongated TiO2 nanoparticles for phenol degradation and Cr(VI)reduction.Journal of Hazardous Materials.2010:495-5025 刘长春.光催化氧化技术在造纸废水处理中的应用J.安徽化工.2010,04,36(2):53-55第25页/共27页谢谢，请批评指正！第26页/共27页感谢您的观看！第27页/共27页