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1、关于等离子体及辉光放电现象第一页，讲稿共七页哦 等离子体可分为两种：高温和低温等离子体。高温等离子体只有在温度足够高时发生的。低温等离子体是在常温下发生的等离子体（虽然电子的温度很高）。低温等离子体可以被用于氧化等表面处理或者在有机物和无机物上进行沉淀涂层处理。广泛运用于多种生产领域。例如：等离子电视，电脑芯片中的蚀刻运用等。第二页，讲稿共七页哦等离子体的驱动射频放电 微电子加工领域，等离子体可以用交流信号驱动，电源在射频的范围内，公认的频率为13.5613.56MHzMHz。电容性放电等离子体是主要的等离子源。第三页，讲稿共七页哦 低气压下的气体放电。放电管中的残余正离子在极间电场的作用下被
2、加速，于是得到足够的动能撞击阴极而产生二次电子，经簇射过程产生更多的带电粒子，使得气体导电。因此放电管两极间所需电压较高，一般都在10千伏以上，但辉光放电的电流很小，温度不高，属于低温等离子体现象。辉光放电第四页，讲稿共七页哦种类：电感耦合等离子体磁控等离子体电子回旋共振等离子体高密度等离子体high density Plasmas（HDP)第五页，讲稿共七页哦产生过程：在反应器中引入磁场和/或电场，增加电子在等离子体中的行程，使电子和原子之间的碰撞频率增加，从而增加等离子体中基和离子的密度，实现高密度等离子体。HDP源包括：螺旋等离子源电感耦合等离子源平面盘绕源第六页，讲稿共七页哦感感谢谢大大家家观观看看第七页，讲稿共七页哦