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1、电子束蒸发原理现在学习的是第1页，共11页蒸镀机照片现在学习的是第2页，共11页一.金属蒸镀的分类一.热蒸镀二.电子束蒸镀三,溅射蒸镀现在学习的是第3页，共11页1.热蒸镀Thermal Evaporation 就是在高真空下，将所要蒸镀的材料，利用电阻加热到达熔化温度，使其蒸发，达到并附着在基底表面的一种技术。现在学习的是第4页，共11页2.电子束蒸镀(E-Gun Evaporation)就是在高真空下，将所要蒸镀的材料，利用电子束加热到达熔化温度，使其蒸发，达到并附着在基底表面的一种技术。现在学习的是第5页，共11页3.溅射技术 磁控溅射的工作原理是指电子在电场E的作用下，在飞向基片过程中
2、与氩原子发生碰撞，使其电离产生出Ar和新的电子；新电子飞向基片，Ar 在电场作用下加速飞向阴极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射。在溅射粒子中，中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜。现在学习的是第6页，共11页二.电子束蒸镀1.特点.相较于热蒸镀的方式电子束蒸镀的方法有其下列的优点。1.可聚焦的电子束，能局部加温元素源，因不加热其它部分而避免污染。2.高能量电子束能使高熔点元素达到足够高温以产生适量的蒸气压。现在学习的是第7页，共11页2.坩埚示意图现在学习的是第8页，共11页3.电子速控制原理我们只要改变加速电场的大小就可以改变电子束射击到坩锅的位置,假设与电子束平行的位置为X轴方向，如果与交插电子束的位置加装一组磁场,我们便能控制电子束左右的方向,以此我们称为Y轴。以电场和磁场的控制，我们便能控制电子束扫描的区域及面积的大小。现在学习的是第9页，共11页E-GUN的结构示意图 现在学习的是第10页，共11页晶振片探测频率控制膜厚当下电极的部位沉积一些金属层之后,由于压电效应的原故，造成输出信号的改变，利用其变化量去折算目前的镀率。现在学习的是第11页，共11页