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1、泓域咨询/漳州靶材项目招商引资方案目录第一章 项目背景分析9一、 金属靶材为薄膜沉积核心材料，广泛用于平板显示器、半导体、光伏电池、记录媒体等领域9二、 金属靶材薄膜制备核心材料，磁溅技术发展带动需求提升10三、 国外主要半导体供应商基本情况11四、 激发各类市场主体活力11五、 聚焦实体经济，加快构建现代产业体系12第二章 市场分析16一、 中国半导体靶材市场规模预测16二、 供给：日企占据国内市场主导地位，国产替代逐渐提速16三、 靶材在半导体中的应用21第三章 总论23一、 项目名称及建设性质23二、 项目承办单位23三、 项目定位及建设理由24四、 报告编制说明26五、 项目建设选址2
2、7六、 项目生产规模27七、 建筑物建设规模27八、 环境影响28九、 项目总投资及资金构成28十、 资金筹措方案28十一、 项目预期经济效益规划目标29十二、 项目建设进度规划29主要经济指标一览表30第四章 建筑工程说明32一、 项目工程设计总体要求32二、 建设方案34三、 建筑工程建设指标37建筑工程投资一览表38第五章 项目选址分析40一、 项目选址原则40二、 建设区基本情况40三、 积极构建区域发展新格局44四、 项目选址综合评价45第六章 SWOT分析说明46一、 优势分析（S）46二、 劣势分析（W）48三、 机会分析（O）48四、 威胁分析（T）50第七章 发展规划分析58
3、一、 公司发展规划58二、 保障措施62第八章 运营管理65一、 公司经营宗旨65二、 公司的目标、主要职责65三、 各部门职责及权限66四、 财务会计制度69第九章 进度实施计划76一、 项目进度安排76项目实施进度计划一览表76二、 项目实施保障措施77第十章 人力资源配置分析78一、 人力资源配置78劳动定员一览表78二、 员工技能培训78第十一章 环保分析80一、 编制依据80二、 建设期大气环境影响分析81三、 建设期水环境影响分析82四、 建设期固体废弃物环境影响分析83五、 建设期声环境影响分析83六、 环境管理分析84七、 结论88八、 建议88第十二章 节能方案89一、 项目
4、节能概述89二、 能源消费种类和数量分析90能耗分析一览表91三、 项目节能措施91四、 节能综合评价92第十三章 项目投资计划94一、 投资估算的编制说明94二、 建设投资估算94建设投资估算表96三、 建设期利息96建设期利息估算表97四、 流动资金98流动资金估算表98五、 项目总投资99总投资及构成一览表99六、 资金筹措与投资计划100项目投资计划与资金筹措一览表101第十四章 项目经济效益分析103一、 经济评价财务测算103营业收入、税金及附加和增值税估算表103综合总成本费用估算表104固定资产折旧费估算表105无形资产和其他资产摊销估算表106利润及利润分配表108二、 项目
5、盈利能力分析108项目投资现金流量表110三、 偿债能力分析111借款还本付息计划表112第十五章 风险评估114一、 项目风险分析114二、 项目风险对策116第十六章 项目招标及投标分析118一、 项目招标依据118二、 项目招标范围118三、 招标要求118四、 招标组织方式119五、 招标信息发布121第十七章 总结122第十八章 附表附录125主要经济指标一览表125建设投资估算表126建设期利息估算表127固定资产投资估算表128流动资金估算表129总投资及构成一览表130项目投资计划与资金筹措一览表131营业收入、税金及附加和增值税估算表132综合总成本费用估算表132利润及利润
6、分配表133项目投资现金流量表134借款还本付息计划表136报告说明溅射靶材是溅射法制备薄膜的主要材料之一。溅射工艺是制备电子薄膜的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在高真空中经过加速聚集而形成高速离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面。被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材。从结构上看，靶材主要由“靶坯”和“背板”两部分构成。其中靶坯是高速离子束流轰击的目标材料，属于溅射靶材的核心部分，涉及高纯金属、晶粒取向调控。背板起到主要起到固定溅射靶材的作用，涉及焊接工艺。由于高纯度金属强度较低，因此溅射靶材需要在专用的机台内
7、完成溅射过程。机台内部为高电压、高真空环境，因此背板也需要具备良好的导电、导热性能。磁控溅射技术优势突出，推动溅射靶材需求不断提升，溅射靶材已成为目前市场应用量最大的PVD镀膜材料。目前行业内主流镀膜工艺为物理气相沉积（PVD）和化学气相沉积（CVD）两种，其中PVD方法具体来看包括溅射和蒸镀两类，CVD方法则包括化学气相沉积和原子层沉积两类。溅射镀膜工艺则凭借着其可重复性好、膜厚可控制，可在大面积基板材料上获得厚度均匀的薄膜，所制备的薄膜具有纯度高、致密性好、与基板材料的结合力强等优点发展迅速，已成为制备薄膜材料的主要技术之一，各种类型的溅射薄膜材料已得到广泛的应用，因此，对溅射靶材这一具有
8、高附加值的功能材料需求逐年增加，溅射靶材亦已成为目前市场应用量最大的PVD镀膜材料。根据谨慎财务估算，项目总投资21479.23万元，其中：建设投资15960.52万元，占项目总投资的74.31%；建设期利息177.47万元，占项目总投资的0.83%；流动资金5341.24万元，占项目总投资的24.87%。项目正常运营每年营业收入46900.00万元，综合总成本费用35933.30万元，净利润8030.14万元，财务内部收益率29.33%，财务净现值12613.92万元，全部投资回收期4.93年。本期项目具有较强的财务盈利能力，其财务净现值良好，投资回收期合理。由上可见，无论是从产品还是市场来
9、看，本项目设备较先进，其产品技术含量较高、企业利润率高、市场销售良好、盈利能力强，具有良好的社会效益及一定的抗风险能力，因而项目是可行的。本报告基于可信的公开资料，参考行业研究模型，旨在对项目进行合理的逻辑分析研究。本报告仅作为投资参考或作为参考范文模板用途。第一章 项目背景分析一、 金属靶材为薄膜沉积核心材料，广泛用于平板显示器、半导体、光伏电池、记录媒体等领域靶材按应用可分为半导体靶材、平板显示靶材、太阳能电池靶材、信息存储靶材。靶材制备位于产业链的中游，从产业链来看，靶材上游原材料材质主要包括纯金属、合金以及陶瓷化合物三类。下游应用市场则较为广泛，但整体来看主要集中在平板显示、信息存储、
10、太阳能电池、半导体四个领域，四大板块约合占比97%。此外根据其形状、材质不同，溅射靶材也有多种分类方式：1）按形状分类：可分为长靶、方靶、圆靶和管靶。其中常见的靶材多为方靶、圆靶，均为实心靶材。近年来，空心圆管型溅射靶材由于具有较高的回收利用率，也在国内外得到了一定推广。据立坤钛业官网相关信息介绍，在镀膜作业中，圆环形的永磁体在靶材的表面产生的磁场为环形，会发生不均匀冲蚀现象，溅射的薄膜厚度均匀性不佳，靶材的使用效率大约只有20%30%。目前，为了提高靶材的利用率，国内外都在推广可围绕固定的条状磁铁组件旋转的空心圆管型溅射靶材，此种靶材由于靶面360都可被均匀刻蚀，因而利用率可由通常的20%3
11、0%提高到75%80%。2）按材质，可分为金属靶材（纯金属铝、钛、铜、钽等）、合金靶材（镍铬合金、镍钴合金等）、陶瓷化合物靶材（氧化物、硅化物、碳化物、硫化物等）。二、 金属靶材薄膜制备核心材料，磁溅技术发展带动需求提升溅射靶材是溅射法制备薄膜的主要材料之一。溅射工艺是制备电子薄膜的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在高真空中经过加速聚集而形成高速离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面。被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材。从结构上看，靶材主要由“靶坯”和“背板”两部分构成。其中靶坯是高速离子束流轰击的目标材料，属于
12、溅射靶材的核心部分，涉及高纯金属、晶粒取向调控。背板起到主要起到固定溅射靶材的作用，涉及焊接工艺。由于高纯度金属强度较低，因此溅射靶材需要在专用的机台内完成溅射过程。机台内部为高电压、高真空环境，因此背板也需要具备良好的导电、导热性能。磁控溅射技术优势突出，推动溅射靶材需求不断提升，溅射靶材已成为目前市场应用量最大的PVD镀膜材料。目前行业内主流镀膜工艺为物理气相沉积（PVD）和化学气相沉积（CVD）两种，其中PVD方法具体来看包括溅射和蒸镀两类，CVD方法则包括化学气相沉积和原子层沉积两类。溅射镀膜工艺则凭借着其可重复性好、膜厚可控制，可在大面积基板材料上获得厚度均匀的薄膜，所制备的薄膜具有
13、纯度高、致密性好、与基板材料的结合力强等优点发展迅速，已成为制备薄膜材料的主要技术之一，各种类型的溅射薄膜材料已得到广泛的应用，因此，对溅射靶材这一具有高附加值的功能材料需求逐年增加，溅射靶材亦已成为目前市场应用量最大的PVD镀膜材料。三、 国外主要半导体供应商基本情况日矿金属、东曹公司以及美国的霍尼韦尔、普莱克斯公司，四家靶材制造国际巨头，占据了全球半导体芯片用靶材市场约90%的份额。半导体靶材技术含量极高，处于靶材应用场景顶端，市场集中度极高，日矿金属、东曹公司以及美国的霍尼韦尔、普莱克斯公司，四家靶材制造国际巨头，占据了全球半导体芯片用靶材市场约90%的份额。凭借着先发优势，美日等国的靶
14、材企业已经具备了从金属材料的高纯化制备到靶材制造的完备的技术垂直整合能力，在全球高端电子制造用靶材市场占据着绝对的领先地位。四、 激发各类市场主体活力深入推进国企改革三年行动，实施国有企业集聚发展战略，加快国有经济布局优化和结构调整，健全国有企业法人治理结构和市场化经营机制，积极稳妥推进国有企业混合所有制改革，加快放开竞争性业务，提高企业市场化程度。盘活存量国有资本，立足国有资产保值增值，加强和完善国有资产监管，赋予企业更多自主权，形成管资本为主的国有资产监管体制。优化民营经济发展环境，构建亲清政商关系，有序放宽市场准入，落实纾困惠企政策，健全企业家恳谈会、联系重点民企重点商会等机制，提高“政
15、企直通车”服务效能，推进中小企业梯度培育，推动入驻分支机构注册法人，引导“个转企、小升规、规改股、股上市”，激发民营经济活力。大力弘扬企业家精神，实施企业高级经营管理人才队伍提升工程，支持企业家心无旁骛办实业。五、 聚焦实体经济，加快构建现代产业体系坚持把制造业高质量发展作为主攻方向，旗帜鲜明、坚持不懈、久久为功“大抓工业、抓大工业”，透过工业促全局，推进一二三产业融合发展，促进产业结构优化升级，提高经济质量效益和核心竞争力。（一）做大做强“三大三新”产业围绕建设工业新城，推动“大抓工业、抓大工业”体制机制固化优化常态化，加快实施工业（产业）园区标准化建设，推动产业向园区集聚，坚持推动传统产业
16、转型升级和发展壮大战略性新兴产业两手齐抓，持续强链补链延链，推进强龙头重引领专项行动，实施企业技术改造专项行动，加快发展大石化、大健康、大装备和新一代信息技术、新材料、新能源“三大三新”产业，力争到二二五年规模工业总产值突破一万亿元。大石化产业突出以建设古雷世界一流绿色生态石化基地为依托，加快打造大炼油、大乙烯、大芳烃、大仓储全产业链条，重点发展“三烯三苯”产业，加快炼化一体化、中沙乙烯等龙头项目建设，加快布局精细化工产业，促进石化产业上下游成龙配套。大健康产业突出以健康食品为核心，发展健康食品、功能保健食品、生物医药、医疗器械、婴童用品、体育用品等行业，重点加快食品向高附加值功能保健产品转型
17、，培育规模大、核心竞争力强的健康食品产业集团，扶持企业建设规范化原料基地，建设国内知名的大健康产业基地。大装备产业突出高端化智能化，发展机电关键部件、精密机械、新能源汽车及关键零部件、智能装备、海上风电装备等高端制造业，加大对首台（套）认定和推广运用力度，重点在漳浦建设国家级深远海装备制造产业示范区，打造区域性大装备产业集群。新一代信息技术产业突出增强自主创新和推进“应用+产业”，重点发展电子核心产品、软件与信息服务、光电子、消费电子、人工智能等行业，超前布局量子信息工业，推动新一代信息技术与实体经济深度融合。新材料产业突出集聚化、规模化，发展高品质特种钢、高端绿色造纸、石墨烯、高性能防火材料
18、、特种玻璃制品、化工新材料、电子级多晶硅、集成电路上游材料、绿色建材等行业，重点推动钢铁产业向高品质特种钢材料转型升级，打造具有区域特色的新材料产业基地。新能源产业突出以发展清洁能源为核心，重点发展核电、光伏发电、海上风电、储能、制氢等产业，打造东南沿海最大清洁能源基地。（二）提升现代服务业发展水平大力实施现代服务业提升工程，加强现代服务业集聚区建设，推动现代服务业与先进制造业、现代农业深度融合，实现现代服务业规模化、数字化、标准化、品牌化。大力发展生产性服务业，放宽市场准入，完善行业标准，推动现代物流、商务服务、商贸电商、科技服务、金融服务等产业向高端化发展，加快发展综合物流、保税物流、港航
19、物流、冷链物流、快递物流、化工物流，打造区域性物流节点城市。大力发展生活性服务业，积极培育新业态新模式，推动文旅、体育、康养、育幼、家政、物业等生活性服务业向高品质发展，推动文旅体和会展、夜间经济加速融合发展，打造区域性目的地城市。（三）培育壮大数字经济把数字漳州作为推动高质量发展的基础性先导性工程，充分发挥数字化的放大、叠加和倍增作用，按照“应用+产业”的发展思路，深入实施数字经济领跑行动，推进数字产业化、产业数字化，更好赋能高质量发展。推进数字产业化，加快华晴卫星产业园、漳州软件园、人工智能产业园、龙文数字经济产业园、中科智谷电子信息产业园建设，加快发展人工智能、区块链等未来产业，提升物联
20、网、大数据、云计算、卫星应用等产业竞争力，推进集成电路、电子元器件、光电信息、汽车电子和新型显示等基础产业向价值链中高端发展，培育区块链与量子信息战略性新兴产业集群。推进产业数字化，深入推进智能制造工程和“上云用数赋智”行动，促进传统基础产业设施数字化、智能化，推动数字经济与实体经济深度融合。推进城市智慧化，加强数字社会、数字政府建设，打造漳州“城市大脑”。完善数据产权保护机制，建设政府数据统一开放平台，深化数据开放共享，保障数据安全，保护个人信息。（四）推进产业基础高级化、产业链现代化巩固壮大实体经济根基，提升规模工业增加值比重。注重锻长板、补短板，在石油化工、机械装备、新一代信息技术、新材
21、料等产业，大力实施以基础零部件、基础材料、基础工艺为核心的工业强基工程，建立完善产业基础服务体系，支持企业突破一批“卡脖子”关键共性技术，推动产业链关键产品逐步实现国产化替代，培育一批百亿龙头企业、千亿产业集群。强化品牌质量提升，鼓励企业开展质量技术攻关，主导或参与国际标准、国家标准、行业标准、地方标准制修订，争创中国质量奖、省政府质量奖和中国驰名商标等认证，鼓励专利申请，加强专利保护，提升产品附加值和软实力。第二章 市场分析一、 中国半导体靶材市场规模预测半导体产业加速向国内转移，靶材行业正步入快速发展期，预计2025年我国半导体靶材市场规模将达到43亿元（折合6.7亿美元）。在政府政策的支
22、持和我国相对巨大的成本及市场优势下，半导体从正加速向中国大陆转移，一方面包括台积电、联电等在内的多家晶圆代工企业将在大陆投放产线，另一方面大陆晶圆代工厂包括中芯国际、华力微电子等也有多条产线投产。随着半导体晶圆产能陆续向中国转移，国内半导体制造行业的体量将迅速扩张，靶材行业也步入了快速发展期，据MIR睿工业数据显示，2020年我国半导体靶材市场规模约29.86亿元（折合4.33亿美元），2013-2020年CAGR约16.15%。据ICInsights的预测，到2025年中国大陆半导体芯片市场规模将达到2230亿美元，2020-2025年间的年复合增长率将达9.2%。假设半导体材料增速与大陆生
23、产半导体芯片市场规模增速持平，且2021-2025年靶材在半导体材料销售额中的占比与2020年持平，维持在4.5%。二、 供给：日企占据国内市场主导地位，国产替代逐渐提速我国显示面板靶材高度依赖进口，日企在国内市场仍然占据主导地位，但国产替代逐渐提速。当前该领域竞争格局以攀时、世泰科、贺利氏、爱发科、住友化学、JX金属等为代表的国外少数几家跨国集团占据主导地位，其中攀时、世泰科等厂商是全球钼靶材的主要供应商，住友化学、爱发科等厂商占据了全球铝靶材的大部分市场，三井矿业、JX金属、优美科等厂商是全球ITO靶材的主要供应商，爱发科、JX金属等厂商是全球铜靶材的主要供应商。国内以隆华科技、江丰电子、
24、阿石创、有研新材、先导稀材为主，国产替代正逐渐加速。铝靶：目前国内液晶显示行业用铝靶材主要被日资企业主导，由于价格较低，是平板显示行业常用的溅射靶材，但近年来正逐步被铜靶所替代。外企方面：爱发科电子材料(苏州)有限公司大约占据国内50%左右的市场份额。其次，住友化学也占有一部分市场份额。国产方面:江丰电子从2013年左右开始介入铝靶材，目前已大批量供货，是国产化铝靶材的龙头企业。另外，南山铝业、新疆众和等企业也具备高纯铝的生产能力铜靶：从溅射工艺的发展趋势上来讲，对铜靶材的需求比例一直在逐步增加，加之，近几年国内液晶显示行业的市场规模整体上有所扩大，因此，平板显示行业对铜靶材的需求量将继续呈上
25、升趋势。外企方面:爱发科电子材料(苏州)有限公司几乎垄断着国内铜靶材市场，市场占有率在80%以上，且该公司近几年营收的增加额，主要来自于铜靶材销量的增加。国产方面:有研新材具备高纯铜原料生产能力，但目前主要致力于半导体行业用圆形靶材生产，对液晶显示行业铜靶仅有500吨产能;洛铜集团具备高纯铜生产能力但不生产靶材，且高纯铜原料价格和进口原料相比，在价格方面无明显竞争优势;江丰电子引进海外高端人才，致力于开发高纯铜原料和铜靶材，即将批量生产。钼靶：钼靶材国内需求占全球超过一半，国产化率约有50%。钼靶具体可分为条靶、宽靶和管靶3种，其中，4.5代、5.5代和6代线一般使用宽幅钼靶，而8.5代及以上
26、世代线用使用组合条靶或管靶。外企方面:国外的奥地利攀时、德国世泰科、日本爱发科等企业已基本退出了这部分市场。国产方面:国内钼靶材企业主要集中在洛阳地区，其中，隆华节能下属的洛阳高新四丰电子材料有限公司占据了国内60%多的市场份额，另外，洛阳高科钼钨材料有限公司占据了国内大约10%左右的市场份额。宽幅钼靶:外企方面:国外的攀石、世泰科等企业在国内宽幅钼靶材市场占据较大市场。国产方面:四丰电子大尺寸宽幅钼靶已经开始批量供货；阿石创和金钼股份两家上市公司也充分利用各自在宽幅靶材轧制和靶材加工及销售方面的优势开展紧密合作，金钼股份向阿石创销售宽幅钼靶坯和条形钼靶坯(条形靶坯由宽幅靶坯切割而成)，阿石创
27、负责后续绑定等工序和成品销售工作。钼管靶：每条8.5代线对钼管靶的需求量约为30吨/年。钼管靶8.5代线及以上常用钼靶，每套包含12根，每根单重约为300kg，每套重量约为3600kg。由于钼管靶的实际利用率约为70%，因此，每套钼管靶的成膜重量约为2500kg。每条8.5代线对钼管靶的需求量约为30吨/年。另外，钼管靶的供应商，除了要通过其面板生产企业的认证外，还要通过钼管靶溅射设备生产商美国AKT公司的认证，并且要被收取钼管靶售价约5%的认证费。截止2017年底，国内采用管靶溅射设备的生产线只有1条，业内也普遍认为钼管靶的发展空间并不大。钼铌10合金靶。西部材料下属西安瑞福莱钨钼有限公司和
28、爱发科公司合作，经多次试验攻关，已于2017年成功轧制出了氧含量小于1000106，致密度达99.3%的Mo-Nb合金靶坯。此外金钼集团也已实现高纯大尺寸钼铌管状靶材顺利交付，攻克了大规格钼铌合金靶材制粉、烧结、加工等关键工艺难题，掌握了大尺寸靶材的核心制备技术。经第三方机构检测，制备出的钼铌合金靶材各项指标达到要求。在此基础上，项目组又承接了用户管状靶材的订购需求，顺利交付了3套高纯大尺寸钼铌合金管状靶材，且品质优良。钼铌合金管状靶材直径大于150毫米、长度达到2100毫米，纯度可达99.99%，氧含量小于500ppm。ITO靶材：ITO靶材是由90%的氧化铟与10%的氧化锡配比而成，相对密
29、度要求大于99.5%。目前全球铟消耗量中40%50%以上是用于制备加工ITO靶材。外企方面：全球ITO靶材市场主要供应商有日矿金属、三井矿业、优美科等，其中日矿和三井几乎占据了高端TFT-LCD市场用ITO靶材的全部份额和大部分触摸屏面板市场,爱发科也有相关产品，东曹、日立、住友、VMC、三星、康宁等企业也掌握核心技术。目前中国ITO靶材供应约一半左右依赖进口。本土厂商生产的ITO靶材主要供应中低端市场，约占国内市场30%的份额；而高端TFT-LCD、触摸屏用ITO靶材几乎全部从日本、韩国进口。国产方面：近年来，国内多家厂商宣布进入ITO靶材领域，但实际量产和导入并不顺利，也尚未实现批量供应。
30、据集微网调研，目前国内有能力量产并供货的ITO靶材厂商有先导稀材，其ITO靶材产能预计已经达1100吨/年（清远200吨LCD用ITO靶材，100吨5G手机ITO靶材，合肥800吨），隆华科技全资子公司晶联光电的ITO靶材产能已经达到100吨/年，且在建200吨/年，映日科技的ITO靶材产能已经达到120吨/年，戊电科技的ITO靶材产能已经达到50吨/年等，而阿石创ITO靶材产能实际占比较小。近年来部分国内企业目前也已通过相关认证，在下游市场得到较为广泛的应用。国内的靶材厂商都正在不断提升技术工艺和生产设备，努力通过TFT-LCD试镀测试打开高端OLED显示领域的大门。三、 靶材在半导体中的应
31、用半导体芯片行业是金属溅射靶材的主要应用领域之一，也是对靶材的成分、组织和性能要求最高的领域，靶材纯度要求通常达99.9995%（5N5）甚至99.9999%（6N）以上。半导体芯片的制作过程可分为芯片设计、晶圆制造、芯片封装和芯片测试四大环节，其中，在晶圆制造和芯片封装这两个环节中都需要用到金属溅射靶材。其中，靶材在晶圆制造环节主要被用作金属溅镀，常采用PVD工艺进行镀膜，通常使用纯度在5N5及以上的铜靶、铝靶、钽靶、钛靶以及部分合金靶等；靶材在芯片封装环节常用作贴片焊线的镀膜，常采用高纯及超高纯金属铜靶、铝靶、钽靶等。半导体芯片用金属溅射靶材的作用，就是给芯片上制作传递信息的金属导线。具体
32、工艺过程为，在完成溅射工艺后，使各种靶材表面的原子一层一层地沉积在半导体芯片的表面上，然后再通过的特殊加工工艺，将沉积在芯片表面的金属薄膜刻蚀成纳米级别的金属线，将芯片内部数以亿计的微型晶体管相互连接起来，从而起到传递信号的作用。半导体靶材市场在半导体晶圆制造材料市场中占比约2.6%，在封装材料市场中占比约2.7%。据SEMI统计，2011-2015年，在晶圆制造材料中，溅射靶材约占晶圆制造材料市场的2.6%。在封装测试材料中，溅射靶材约占封装测试材料市场的2.7%。全球半导体靶材市场规模与全球半导体材料市场规模变化趋势相近。第三章 总论一、 项目名称及建设性质（一）项目名称漳州靶材项目（二）
33、项目建设性质本项目属于扩建项目二、 项目承办单位（一）项目承办单位名称xx有限责任公司（二）项目联系人郝xx（三）项目建设单位概况公司坚持提升企业素质，即“企业管理水平进一步提高，人力资源结构进一步优化，人员素质进一步提升，安全生产意识和社会责任意识进一步增强，诚信经营水平进一步提高”，培育一批具有工匠精神的高素质企业员工，企业品牌影响力不断提升。公司将依法合规作为新形势下实现高质量发展的基本保障，坚持合规是底线、合规高于经济利益的理念，确立了合规管理的战略定位，进一步明确了全面合规管理责任。公司不断强化重大决策、重大事项的合规论证审查，加强合规风险防控，确保依法管理、合规经营。严格贯彻落实国
34、家法律法规和政府监管要求，重点领域合规管理不断强化，各部门分工负责、齐抓共管、协同联动的大合规管理格局逐步建立，广大员工合规意识普遍增强，合规文化氛围更加浓厚。公司始终坚持“人本、诚信、创新、共赢”的经营理念，以“市场为导向、顾客为中心”的企业服务宗旨，竭诚为国内外客户提供优质产品和一流服务，欢迎各界人士光临指导和洽谈业务。公司注重发挥员工民主管理、民主参与、民主监督的作用，建立了工会组织，并通过明确职工代表大会各项职权、组织制度、工作制度，进一步规范厂务公开的内容、程序、形式，企业民主管理水平进一步提升。围绕公司战略和高质量发展，以提高全员思想政治素质、业务素质和履职能力为核心，坚持战略导向
35、、问题导向和需求导向，持续深化教育培训改革，精准实施培训，努力实现员工成长与公司发展的良性互动。三、 项目定位及建设理由蒸镀用靶材一般为Ag和Mg两种金属。Ag和Mg合金一般用于小尺寸OLED面板产线中的阴极制作。除此以外，Ag也可以作为顶发射OLED器件中的阳极反射层使用。其中薄膜晶体管液晶显示面板(TFT-LCD)是当前的主流平面显示技术，金属溅射靶材则是制造TFT-LCD过程中最关键的材料之一。薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)具有轻薄、功耗低、成本低等优点，目前TFT-LCD大约占80%以上的显示面板市场份额。这类显示面板是由大量的液晶显示单元阵列组成(如4K分辨率的屏幕含有800
36、多万个显示单元阵列)，而每一个液晶显示单元，都由一个单独的薄膜晶体管(TFT)所控制和驱动。薄膜晶体管阵列的制作原理，是在真空条件下，利用离子束流去轰击固体，使固体表面的原子电离后沉积在玻璃基板上，经过反复多次的“沉积+刻蚀”，一层层(一般为712层)地堆积制作出薄膜晶体管阵列。这种被轰击的固体，即用溅射法沉积薄膜的原材料，就被称作溅射靶材。除LCD外，近年来快速发展的OLED面板产业靶材需求增长也十分明显。OLED典型结构是在氧化铟锡（ITO）玻璃上制作一层几十纳米厚的发光材料，ITO透明电极作为器件的阳极，钼或者合金材料作为器件的阴极。从阴阳2极分别注入电子和空穴，在一定电压驱动下，被注入
37、的电子和空穴分别经过电子传输层和空穴传输层迁移到发光层并复合，形成激子并使发光分子产生单态激子，单态激子衰减发光。四、 报告编制说明（一）报告编制依据1、中华人民共和国国民经济和社会发展“十三五”规划纲要；2、建设项目经济评价方法与参数及使用手册（第三版）；3、工业可行性研究编制手册；4、现代财务会计；5、工业投资项目评价与决策；6、国家及地方有关政策、法规、规划；7、项目建设地总体规划及控制性详规；8、项目建设单位提供的有关材料及相关数据；9、国家公布的相关设备及施工标准。（二）报告编制原则为实现产业高质量发展的目标，报告确定按如下原则编制：1、认真贯彻国家和地方产业发展的总体思路：资源综合
38、利用、节约能源、提高社会效益和经济效益。2、严格执行国家、地方及主管部门制定的环保、职业安全卫生、消防和节能设计规定、规范及标准。3、积极采用新工艺、新技术，在保证产品质量的同时，力求节能降耗。4、坚持可持续发展原则。（二） 报告主要内容1、确定生产规模、产品方案；2、调研产品市场；3、确定工程技术方案；4、估算项目总投资，提出资金筹措方式及来源；5、测算项目投资效益，分析项目的抗风险能力。五、 项目建设选址本期项目选址位于xx（以选址意见书为准），占地面积约50.00亩。项目拟定建设区域地理位置优越，交通便利，规划电力、给排水、通讯等公用设施条件完备，非常适宜本期项目建设。六、 项目生产规模
39、项目建成后，形成年产xx吨靶材的生产能力。七、 建筑物建设规模本期项目建筑面积52987.84，其中：生产工程32603.68，仓储工程9278.40，行政办公及生活服务设施5660.82，公共工程5444.94。八、 环境影响本项目污染物主要为废水、废气、噪声和固废等，通过污染防治措施后，各污染物均可达标排放，并且保持相应功能区要求。本项目符合各项政策和规划，本项目各种污染物采取治理措施后对周围环境影响较小。从环境保护角度，本项目建设是可行的。九、 项目总投资及资金构成（一）项目总投资构成分析本期项目总投资包括建设投资、建设期利息和流动资金。根据谨慎财务估算，项目总投资21479.23万元，
40、其中：建设投资15960.52万元，占项目总投资的74.31%；建设期利息177.47万元，占项目总投资的0.83%；流动资金5341.24万元，占项目总投资的24.87%。（二）建设投资构成本期项目建设投资15960.52万元，包括工程费用、工程建设其他费用和预备费，其中：工程费用13049.68万元，工程建设其他费用2526.16万元，预备费384.68万元。十、 资金筹措方案本期项目总投资21479.23万元，其中申请银行长期贷款7243.47万元，其余部分由企业自筹。十一、 项目预期经济效益规划目标（一）经济效益目标值（正常经营年份）1、营业收入（SP）：46900.00万元。2、综合
41、总成本费用（TC）：35933.30万元。3、净利润（NP）：8030.14万元。（二）经济效益评价目标1、全部投资回收期（Pt）：4.93年。2、财务内部收益率：29.33%。3、财务净现值：12613.92万元。十二、 项目建设进度规划本期项目按照国家基本建设程序的有关法规和实施指南要求进行建设，本期项目建设期限规划12个月。十四、项目综合评价该项目的建设符合国家产业政策；同时项目的技术含量较高，其建设是必要的；该项目市场前景较好；该项目外部配套条件齐备，可以满足生产要求；财务分析表明，该项目具有一定盈利能力。综上，该项目建设条件具备，经济效益较好，其建设是可行的。主要经济指标一览表序号项
42、目单位指标备注1占地面积33333.00约50.00亩1.1总建筑面积52987.841.2基底面积18333.151.3投资强度万元/亩293.052总投资万元21479.232.1建设投资万元15960.522.1.1工程费用万元13049.682.1.2其他费用万元2526.162.1.3预备费万元384.682.2建设期利息万元177.472.3流动资金万元5341.243资金筹措万元21479.233.1自筹资金万元14235.763.2银行贷款万元7243.474营业收入万元46900.00正常运营年份5总成本费用万元35933.306利润总额万元10706.867净利润万元803
43、0.148所得税万元2676.729增值税万元2165.3310税金及附加万元259.8411纳税总额万元5101.8912工业增加值万元17062.9813盈亏平衡点万元15499.43产值14回收期年4.9315内部收益率29.33%所得税后16财务净现值万元12613.92所得税后第四章 建筑工程说明一、 项目工程设计总体要求（一）建筑工程采用的设计标准1、建筑设计防火规范2、建筑抗震设计规范3、建筑抗震设防分类标准4、工业建筑防腐蚀设计规范5、工业企业噪声控制设计规范6、建筑内部装修设计防火规范7、建筑地面设计规范8、厂房建筑模数协调标准9、钢结构设计规范（二）建筑防火防爆规范本项目在
44、建筑防火设计中从防止火灾发生和安全疏散两方面考虑。一是防火。所有建筑均采用一、二级耐火等级，室内装修均采用不燃或难燃材料，使火灾不易发生，即使发生也不易迅速蔓延，同时建筑内均设置了消火栓。防火分区面积满足建筑设计防火规范要求。二是疏散。建筑的平面布局、建筑物间距、道路宽度等均应满足防火疏散的要求，便于人员疏散。建筑物的平面布置、空间尺寸、结构选型及构造处理根据工艺生产特征、操作条件、设备安装、维修、安全等要求，进行防火、防爆、抗震、防噪声、防尘、保温节能、隔热等的设计。满足当地规划部门的要求，并执行工程所在地区的建筑标准。（三）主要车间建筑设计在满足生产使用要求的前提下，本着“实用、经济”条件
45、下注意美观的原则，确定合理的建筑结构方案，立面造型简洁大方、统一协调。认真贯彻执行“适用、安全、经济”方针。因地制宜，精心设计，力求作到技术先进、经济合理、节约建设资金和劳动力，同时，采用节能环保的新结构、新材料和新技术。（四）本项目采用的结构设计标准1、建筑抗震设计规范2、构筑物抗震设计规范3、建筑地基基础设计规范4、混凝土结构设计规范5、钢结构设计规范6、砌体结构设计规范7、建筑地基处理技术规范8、设置钢筋混凝土构造柱多层砖房抗震技术规程9、钢结构高强度螺栓连接的设计、施工及验收规程（五）结构选型1、该项目拟选项目选址所在地区基本地震烈度为7度。根据现行建筑抗震设计规范的规定，本项目按当地
46、基本地震烈度执行9度抗震设防。2、根据项目建设的自身特点及项目建设地规划建设管理部门对该区域建筑结构的要求，确定本项目生产车间采用钢结构，采用柱下独立基础。3、建筑结构的设计使用年限为50年，安全等级为二级。二、 建设方案（一）建筑结构及基础设计本期工程项目主体工程结构采用全现浇钢筋混凝土梁板，框架结构基础采用桩基基础，钢筋混凝土条形基础。基础工程设计：根据工程地质条件，荷载较小的建（构）筑物采用天然地基，荷载较大的建（构）筑物采用人工挖孔现灌浇柱桩。（二）车间厂房、办公及其它用房设计1、车间厂房设计：采用钢屋架结构，屋面采用彩钢板，墙体采用彩钢夹芯板，基础采用钢筋混凝土基础。2、办公用房设计：采用现浇钢筋混凝土框架结构，多孔砖非承重墙体，屋面为现浇钢筋混凝土框架结构，基础为钢筋混凝土基础。3、其它用房设计：采用砖混结构，承重型墙体，基础采用墙下条形基础。（三）墙体及墙面设计1、墙体设计：外墙体均用标准多孔粘土砖实砌，内墙均用岩棉彩钢板。2、墙面设计：生产车间的外墙墙面采用水泥砂浆抹面，刷外墙涂料，内墙面为乳胶漆墙面