《RO反渗透进水水质要求.doc》由会员分享，可在线阅读，更多相关《RO反渗透进水水质要求.doc（4页珍藏版）》请在taowenge.com淘文阁网|工程机械CAD图纸|机械工程制图|CAD装配图下载|SolidWorks_CaTia_CAD_UG_PROE_设计图分享下载上搜索。
1、RO反渗透进水水质要求水质分析报告包括水质类型和主要成分指标，所需指标包括溶解离子，硅，胶体，有机物(TOC) 。 典型溶解阴离子碳酸氢根(HCO3-), 碳酸根(CO32-), 氢氧根(OH-), 硫酸根(SO42-), 氯离子(Cl-), 氟离子(F-), 硝酸根离子(NO3-), 硫离子(S2-)， 磷酸根(PO44-)。 典型溶解阳离子钙离子(Ca2+), 镁离子(Mg2+), 钠离子(Na+),钾离子(K+), 铁离子(Fe2+ 或 Fe3+), 锰离子(Mn2+),铝离子(Al3+), 钡离子(Ba2+), 锶离子(Sr2+), 铜离子(Cu2+)和 锌离子(Zn2+)。碱度包括负
2、离子中的碳酸根、碳酸氢根、氢氧根，自然水体中的碱度主要由HCO3-形成。pH在8.3以下的水中，碳酸氢根和二氧化碳平衡存在。当pH高于8.3时, HCO3-将转变为CO32-存在。如果原水PH达到11.3以上，将存在OH- 形式。Ca(HCO3)2的溶解度大于CaCO3。如果原水在 RO系统中被浓缩, CaCO3容易沉淀在系统中。所以投加阻垢剂或加酸调低PH值会经常在RO系统中使用。铁和锰通常在水中以二价溶解状态存在或以三价非溶解氢氧化物形成存在。Fe2+ 可能来源自井水本身或来自泵、管路、水箱的腐蚀，尤其上游系统中投加了酸。如果原水中铁、锰浓度大于0.05mg/l并且被空气或氧化剂氧化为Fe
3、(OH)3 和 Mn(OH)2 ，当 pH 值偏高时会在系统中形成沉淀。分析表明铁锰的存在会加速氧化剂对膜的氧化降解，因此在预处理中必须去除铁锰。铝一般不存在于自然水体中。三价铝会像三价铁一样在RO系统中形成难溶的Al(OH)3，当pH 在5.3 至8.5 范围内时候，因为铝高价正电特性，所以Al2(SO4)3 和NaAlO2可以用于地表水的预处理去除水中负电性胶体。千万小心铝盐不要过多投加，残留的铝离子对膜有污染。铜和锌在自然水体中很少存在。有时水中微量的铜和锌来自管道材料。在pH值5.3至8.5范围内，Cu(OH)2和Zn(OH)2 不溶于水，因为它们一般在水中的含量较低，所以只有当系统长
4、时间不清洗，它们积累到一定程度时，才会对膜系统造成污染。可是如果铜锌与氧化剂（比如过氧化氢）同时存在于原水中，那么会造成膜材质的严重降解。硫化物以H2S气体形式溶于水中，去除硫化氢可以用脱气装置或氯氧化或空气接触变为不溶性硫磺，用多介质过滤去除。磷酸盐具有较强负电性，容易和多价离子形成难溶盐。磷酸钙在PH中性时溶解度很有限，PH值高时溶解度也不高。进水中投加阻垢剂或调低PH（小于7）可以防止磷酸盐沉淀。硅存在大多数自然水体中，浓度从1至100/L。而且PH低于9.0时主要以Si(OH)4 存在。当PH低时，硅酸可以聚合形成硅胶体。当PH高于9.0时，它会分离成SiO32- 离子而且会和钙、镁、
5、铁或铅形成沉淀。硅和硅酸盐沉淀很难溶解。氟化氢胺溶液清洗硅垢比较有效，可是氟化氢胺溶液排放会造成环境污染。当进水中硅含量超过20/L时，要注意硅结垢的潜在危险。胶体（悬浮物颗粒）分析污染指数,是衡量RO进水中胶体（颗粒物）潜在污染性的重要指标。RO进水中的胶体是各种各样的，经常包括细菌、黏土、硅胶体和铁腐蚀产物。预处理中的澄清器中会用一些化学品，例如明矾、三氯化铁或阳离子型聚合剂来去除胶体污染或通过后续介质过滤器去除。浊度也是影响RO膜污染的一个重要指标。浊度仪工作原理是测量水样中悬浮物对光的散射。水样的浊度大于1.0的原水可能对RO膜有污染，浊度仪测量数值的单位是NTU。象SDI 值一样，浊
6、度也是表征膜污染潜在风险的一个参数。高浊度并不表示悬浮物会沉淀在膜表面。如果原水的SDI大于5而且浊度大于1.0，就必须在预处理单元的澄清工艺中加入混凝剂而且后面要使用多介质过滤器。如果原水中SDI小于5，而且浊度小于1，那么预处理可以考虑介质过滤器和保安过滤器而不一定投加混凝剂。预处理混凝剂的投加量也是有控制指标的，过量使用会对膜有污染。原水中还有两个重要指标需要分析。细菌总数和有机物含量。有两种方法测定水中细菌数，一种是培养法，另一种是荧光染色法，后者更常用因为很方便快捷。原水中的有机物一般是油类-表面活性剂、水溶性聚合物和腐质酸。检测指标有总有机炭(TOC)，生物耗氧量（BOD）和化学耗
7、氧量（COD）。要想更精确地分析有机物成份，需要使用液相色谱和气质联用仪器分析。如果原水中的TOC含量大于3mg/l,预处理单元要考虑去除有机物工艺。4水 艺要物虑考单处 量 水原分用质色相需析分更要 量学和 氧生 (有标测合合、活-是物的原快方用更法光法法种数水法两量机数细分标要个染污会使，标有也剂理。凝加滤过和滤考可么那度浊 中如器使要且凝加工元处在就 度浊于 面膜淀浮悬不。个潜污膜也样值 的量仪染污 可原大大水。光悬水测作仪浊重的污响浊除器过介或染去来聚或化三如品化会中中预物蚀体、菌经的各体中进。重的潜物体中 是,分分浮悬险在垢意，/含中进污境造液胺可效垢硅胺氟。酸和淀成铅镁和子 成分时
8、 高当硅可硅时当在 ( 时 /0至浓，然淀沉止以 调剂加高也溶值，很度性 酸。形子和，强酸除过介用性为接气氯装用氢硫去水形化解解严材中原存）氢如化氧铜。污造对时累们洗不统当所低的中们为于 ) 内. .在。管和铜水。少体水和染污子的残投不盐体性中水理的用 和) 所性电铝因范范至 在 ( 成统 一三会。体于存锰除必理此因降化速加锰表。淀中会时 ，) 化或被并 0大锰中原。加中其蚀的水泵来本自来+ 在形氢溶三或态二中和用中系在会低调剂投所淀易 缩被 果。 于溶) 式形 上以.到水如存 为- 时高当存碳二中水 在 - 碱的然，根碳根的离碱) 锌) (铜) (锶+ 钡) )+ 锰, + 离)(钾) 离) 子镁) 离解型)- 酸，-子硫-离根硝)( 子 - 根 - 根) (碳 (根离解典。) 机，硅子溶指，分主型水报