PN结及半导体基础知识(共10页).doc

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1、精选优质文档-倾情为你奉上什么是PN结及半导体基础知识在我们的日常生活中,经常看到或用到各种各样的物体,它们的性质是各不相同的。有些物体,如钢、银、铝、铁等,具有良好的导电性能,我们称它们为导体。相 反,有些物体如玻璃、橡皮和塑料等不易导电,我们称它们为绝缘休(或非导体)。还有一些物体,如锗、硅、砷化稼及大多数的金属氧化物和金属硫化物,它们既 不象导体那样容易导屯,也不象绝缘体那样不易导电,而是介于导体和绝缘体之间,我们把它们叫做半导体。绝大多数半导体都是晶体,它们内部的原子都按照一定 的规律排列着。因此,人们往往又把半导体材料称为晶体,这也就是晶体管名称的由来(意思是用晶体材料做的管子)。

2、物体的导电性能常用电阻率来表示。所谓电阻率,就是某种物体单位长度及单位截面积的体积内的电阻值。电阻率越小,越容易导电;反之,电阻率越大,越难导电。 导体、绝缘体的电阻率值随温度的影响而变化很小。但温度变化时,半导体的电阻率变化却很激烈;每升高1,它的电阻率下降达百分之几到百分之几十。不仅如此,当温度较高时,整体电阻甚至下降到很小,以致变成和导体一样。 在金属或绝缘体中,如果杂质含量不超过干分之一,它的电阻率变化是微不足道的。但半导体中含有杂质时对它的影响却很大。以锗为例,只要含杂质一千万分之一,电阻率就下降到原来的十六分之一。 锗是典型的半导体元素,是制造晶体管的一种常用材料(注:当前的半导体

3、元器件生产以硅Silicon材料为主)。现以锗为例来说明如何会在半导体内产生电流、整流性能和放大性能 我们知道,世界上的任何物质都是由原了构成的。原子中间都有一个原子核和者围绕原子核不停地旋转酌电子。不同元素的原子所包含的电子数目是不同的。蔗原子 的原子核周围有32个电子,围绕着原子核运动。原子核带有正电荷电子带有负电荷;正电荷的数量刚好和全部电子的负电荷数量相等,所以在平时锗原子是中性 的。 电子围绕原子核运动,和地球围绕太阳远行相似。在核的引力作用下,电子分成几层按完全确定的轨道运行,而且各层所能容纳的电子数日也有一定规律。如图所 示:在锗原子核周围的32个电子组成四层环,围绕原子核运动。

4、从里往外数,第一层环上有2个电子,其余依次为8、18、4个电子。凡是环上的电子数为2、 8、18时这些环上的电子总是比较稳定的。若环上的电子数不等于以上各数时,这些环上的电子总是不太稳定。 因此,锗原子结构中,第一、二、三层的电于是稳定的,只有第四层(即最外一“层)的4个电于是不稳定的。因最外一层的电子没有填满到规定的数目。我们把最 外一层的电子叫做价电子。一般来说,最外层有几个价电子,其原子价就为几。锗的最外层有4个价电子,所以锗的原子价为4。 受外界作用,环上的电子可以克服原子核的吸引力而脱离原子,自由活动成为自由电子。这些自由电子在电场力的作用下,产生空间运动,就形成了电流。可以想 像,

5、由于最外层的价电子离核比较远,所受引力最小,所以最容易受外界影响而形成自由电子。因此,从导电性能看,价电子是很重要的。我们所说的锗元素就是依 靠它最外层的4个价电子进行导电的。 锗晶体内的原子很整齐的排列着。各个原子间有相互排斥的力量,而每个原子除了吸引自己的价电子外,还吸引相邻原子的价电子。因此,两个相邻原子的价电子便 成对地存在。这一对电子同时受这两个原子核的吸引,为它们所“共有”。这两个相邻原子也通过这个电子对被联系在一起。这样,电子对就好像起了键(联结)的 作用,我们叫它共价键。每一个锗原子以其4个价电子与其他4个锗原子的价电子组成4个共价键而达到稳定状态。 在理想情况下,锗晶体中所有

6、的价电子都织成了电子对,因此没有自由电子,这时锗晶体是不易导电的。 但在外力作用下,如受温度变化,其中可能会有一个价电子脱离键的束缚,挣脱共价键而跳出来,成为自由电子。这时共价键中出现了一个空位,我们把这个空位叫 做空穴。由于原子本身正电荷和负电荷相等,故原子失去了电子后,整个原子就带正电荷,称为正离子。正离子容易吸引相邻原子的价电子来填补,电子离开后所留 下的空位,使相邻原子中又出现空穴,而这个新出现的空穴,又可能为别的电子去填充。电子这样不断地填充空穴,就使空穴的位置不断地在原子问转移。空穴的转 移,实际上也是电子(电荷)的运动,所以也就形成电流,这叫做空穴流。而原来失去的屯子,在晶体中运

7、动,形成了电子流。为了便于叙述,今后就认为空穴在运 动,而且把它当作一个正电荷来看(实际上是空穴所在的原子呈现一个单位正电荷的电量)。由于空穴和电子都带有电荷,它们的运动都形成电流,所以就统称它们 为载流子。 一块不含有杂质的、品格完整的半导体叫做本征半导体。因为它品格完整,如果有一个电子从共价键中释放出来,必定留下一个空众。所以本征半导体中电子和空众 总是成对地出现,它们的数日相等,称为电子一空穴对。在常温下,由于热运动的结果,在本征半导体中会产生一定数量的电子一空穴对,形成电子流和空穴流,总 的电流是两者之和。如没有外界电场作用,电子和空穴的这种运动是杂乱无章的,电子流和空穴流方向也是不定

8、的,结果互相抵消,没有净电流出现。但在电场作用 下,这种半导体两端就出现电压,电子向正端方向运动,空穴向负端方向运动,形成了定向电流,半导体内就产生电流了。本征半导体因电场作用而产生的导电现象 就叫本征导电。 通常,我们很少见到本征半导体,大多遇到的都是P型半导体或N型半导体。 前面说过,半导体中加进了杂质,电阻率就大大降低。这是因为加进杂质后,空穴和电子的数目会大大增加。例如,在锗晶休中掺入很少一点三价元素铟,由于铟的 价电子只有三个,渗入锗晶体后,它的三个价电子分别和相邻的三个锗原子的价电子组成共价键,而对相邻的第四个锗原子,它没有电于拿出来和这个锗原子“共 有”了,这就留下了一个空穴(见

9、图1一3(c)。因为掺入了少量的杂质铟,就会出现很多空穴;这是因为即使是少量的,里面含有的原子数目却不少。杂质半 导体中空穴和电子数目不相等,在电场作用下,空穴导电是主要的,所以叫空穴型半导体或者说是P型半导体。换句话说,P型或空穴型半导体内是有剩余空穴的, 掺入的杂质提供了剩余空穴。在P型半导体中,空穴是多数,所以称空穴为多数载流子;电子数目少,就叫少数裁流子。渗入的杂质能产生空穴接受电子,我们叫这 种杂质为受主杂质。 如果把五价元素砷掺入锗晶体中,砷原子中有5个价电于,它和四个锗原子的价电子组成共价键后,留下一个剩余电子,这个剩余电子就在晶体中到处游荡,在外电 场作用下形成定向电子流。掺入

10、少量的砷杂质就会产生大量的剩余电子,所以称这种半导体为电子型半导体或N型半导体。在这种半导体中有剩余电子,这时电子是 多数载流子,而空穴是少数载流子。因为砷是施给剩余电子的杂质,所以叫做施主杂质。 如果没有外电场的作用,不论N型或P型半导体,它们的载流子运动是无规则的,因此,不会形成电流 把一块P型半导休和N型半导体紧密联接在一起时(实际上只能用化学方法将两个原来独立的锗片合在一起)就会发现一个奇怪的现象,即在它们的两端加上适当 的电压时,会产生单向导电观象。因为这时在它们的交界面上形成了一个所谓PN结的结构,单向导电现象就发生在这一薄薄的PN结中。PN结是晶体管的 基础,它是由扩散形成的。

11、我们知道,P型半导体内空穴是多数载流子,即空穴的浓度大;而N型半导体内电子是多数载流予,电子的浓度大。二者接触之后,由于在P型区和N型区内电子浓 度不同,N型区的电子多,就向P型区扩散,扩散的结果如图14(b)所示。N型区薄层I中部分电子扩散到P型区去,薄层I便因失去电于而带正电。另一方 面,P型区的空穴多,也会向空穴浓度小的N型区扩散,结果一部分空穴从薄层I向P(型区扩散,使薄层带负电。 电于和空穴的扩散是同时进行的,总的结果,P型区薄层流走了空灾,流进了电子,所以带负电,而N型区的薄层I流走了电子,流进了空穴,因而带正电,而且 随着扩散现象的继续进行,薄层逐渐变厚,所带的电量也逐渐增加。不

12、过,这种扩散现象不会无休止的进行下去;当扩散进行到一定程度后,薄层带了很多负电, 从N型区向P型区扩散的电子总数因电子受到它的排斥不再继续增加;同样道理,从P型区向N型区扩散的空灾总数也不再增加。于是扩散似乎不再继续,而达到所 谓“动态平衡状态”。这时PN结也就形成了。 所谓PN结,就是指薄层I和所构成的带电结构。因为它能阻止电子和空穴的继续扩散,所以也叫阻挡层。它们之间的电位差一般称势垒或位垒。 我们用图来阐明PN结的单向导电性能。依照图示方法,将P型区接电池正极,N型区接负极。向右调动电位器,使加到PN结构端的电压逐颓增高,就会发现:当电压表读数增高时,电流表的读数也随之增大。此时,PN结

13、的电阻很小,这种接法叫正向联结。 若反过来,把P型区接电池负极,而N型区接正极,这时我们会发现:把电压增高到几十伏,电流的指示只有几个或几十个微安,此时PN结的电阻很大,反向电流很快就达到饱和不再增加了。这说明电流只能沿着一个方向流过PN结,这个现象就叫做单向导电。 单向导电现象可以这样来解释;因为在P型区接电池正极而N型区接负极时,外加电压的方向刚好和PN结势垒电压的方向相反,使薄层带的负电量和薄层I带 的正电量减少,因此削弱了PN结的势垒,于是在正电压的作用下,电子和空穴的扩散又可进行,N型区的电子不断跑到P型区,P型区的空穴也不断跑到N型 区,正向电流也就产生了。而且,正向电压加得越高,

14、PN结势垒削弱得越厉害,扩散也就越容易进行,正向电流也就越大。 当PN结和电池反向连接时,外加电压起着增强PN结势垒的作用,使薄层带的负电荷和薄层I带的正电荷增加,扩散更无法进行。这时只有P型区的少数教 流子一电子和N型区的少数我流子一空穴,受外加电压作用形成微弱的反向电流。而少数栽流子的数目不多,所以在反向电压只有零点几伏时,反向电流就达到饱和 了。 PN结还有一个十分重耍的特性,即所谓反向击穿电压。当所加反向电压大到一定数值时,PN结电阻会突然变得很小,反向电流会骤然增大,而且是无限地增 大。这种现象叫PN结的反向击穿。开始击穿时的电压数值叫反向击穿电压。它直接限制了PN结用做整流和检波时

15、的工作电压。 总之,一个简单的PN结具有单向导电的特性,半导体收音机正是利用这一特性来进行整流和检波的。半导体二极管就是根据这一原理制成的。PN结PN结(PN junction)采用不同的掺杂工艺,通过扩散作用,将P型与N型半导体制作在同一块半导体(通常是硅或锗)基片上,在它们的交界面就形成称PN结。PN结具有。P是positive的缩写,N是negative的缩写,表明正荷子与负荷子起作用的特点。 一块单晶半导体中 ,一部分掺有受主杂质是P型半导体,另一部分掺有施主杂质是N型半导体时 ,P 型半导体和N型半导体的交界面附近的过渡区称为PN结。PN结有同质结和两种。用同一种制成的 PN 结叫同

16、质结 ,由禁带宽度不同的两种半导体材料制成的PN结叫异质结。制造PN结的方法有合金法、扩散法、离子注入法和外延生长法等。制造异质结通常采用外延生长法。 P型半导体(P指positive,带正电的):由单晶硅通过特殊工艺掺入少量的三价元素组成,会在半导体内部形成带正电的; N型半导体(N指negative,带负电的):由单晶硅通过特殊工艺掺入少量的五价元素组成,会在半导体内部形成带负电的自由电子。 在 P 型半导体中有许多带正电荷的空穴和带的 电离杂质。在电场的作用下,空穴是可以移动的,而电离杂质(离子)是固定不动的 。N 型半导体中有许多可动的负电子和固定的正离子。当P型和N型半导体接触时,在

17、界面附近空穴从P型半导体向N型半导体扩散,电子从N型半导体向P型半导体扩 散。空穴和电子相遇而复合,载流子消失。因此在界面附近的结区中有一段距离缺少载流子,却有分布在空间的带电的固定离子,称为空间电荷区 。P 型半导体一边的空间电荷是负离子 ,N 型半导体一边的空间电荷是正离子。正负离子在界面附近产生电场,这电场阻止载流子进一步扩散 ,达到平衡。 在PN结上外加一电压 ,如果P型一边接正极 ,N型一边接负极,电流便从P型一边流向N型一边,空穴和电子都向界面运动,使空间电荷区变窄,电流可以顺利通过。如果N型一边接外加电压的正极,P型一 边接负极,则空穴和电子都向远离界面的方向运动,使空间电荷区变

18、宽,电流不能流过。这就是PN结的单向导电性。 PN结加时 ,空间电荷区变宽 , 区中电场增强。反向电压增大到一定程度时,反向电流将突然增大。如果不能限制电流,则电流会大到将PN结烧毁。反向电流突然增大时的电压称击穿电压。基本的击穿机构有两种,即隧道击穿(也叫齐纳击穿)和,前者击穿电压小于6V,有负的温度系数,后者击穿电压大于6V,有正的温度系数。 PN结加反向电压时,空间电荷区中的正负电荷构成一个电容性的器件。它的电容量随外加电压改变。 根据PN结的材料、掺杂分布、几何结构和偏置条件的不同,利用其基本特性可以制造多种功能的。如利用PN结单向导电性可以制作、检波二极管和,利用击穿特性制作稳压二极

19、管和;利用高掺杂PN结制作隧道二极管;利用结电容随外电压变化效应制作。使半导体的与PN结相结合还可以制作多种光电器件。如利用前向偏置异质结的载流子注入与复合可以制造半导体与;利用光辐射对PN结反向电流的调制作用可以制成光电探测器;利用可制成。此外,利用两个 PN结之间的相互作用可以产生放大,振荡等多种电子功能 。PN结是构成和场效应晶体管的核心,是的基础。在二级管中广泛应用。 PN结的平衡态,是指PN结内的温度均匀、稳定,没有外加电场、外加磁场、光照和辐射等外界因素的作用,宏观上达到稳定的平衡状态.PN结的形成 在一块的两侧通过扩散不同的杂质,分别形成N型半导体和P型半导体。此时将在N型半导体

20、和P型半导体的结合面上形成如下物理过程: 因浓度差 多子的扩散运动®由杂质离子形成空间电荷区 空间电荷区形成形成内电场 内电场促使少子漂移 内电场阻止多子扩散 最后,多子的扩散和少子的漂移达到动态平衡。在P型半导体和N型半导体的结合面两侧,留下离子薄层,这个离子薄层形成的空间电荷区称为PN结。PN结的内电场方向由N区指向P区。在空间电荷区,由于缺少多子,所以也称耗尽层。PN结形成的过程可参阅图01.06。 图01.06 PN结的形成过程(动画1-3)如打不开点这儿(压缩后的)PN结的单向导电性 PN结具有单向导电性,若外加电压使电流从P区流到N区,PN结呈低阻性,所以电流大;反之是性,

21、电流小。 如果外加电压使: PN结P区的电位高于N区的电位称为加正向电压,简称正偏; PN结P区的电位低于N区的电位称为加反向电压,简称反偏。 (1) PN结加正向电压时的导电情况 PN结加正向电压时的导电情况如图01.07所示。 外加的正向电压有一部分降落在PN结区,方向与PN结内电场方向相反,削弱了内电场。于是,内电场对多子扩散运动的阻碍减弱,扩散电流加大。扩散电流远大于漂移电流,可忽略漂移电流的影响,PN结呈现低阻性。 图01.07 PN结加正向电压时的导电情况(动画1-4),如打不开点这儿(压缩后的) (2) PN结加反向电压时的导电情况 PN结加反向电压时的导电情况如图01.08所示

22、。 外加的反向电压有一部分降落在PN结区,方向与PN结内电场方向相同,加强了内电场。内电场对多子扩散运动的阻碍增强,扩散电流大大减小。此时PN结区的少子在内电场作用下形成的漂移电流大于扩散电流,可忽略扩散电流,PN结呈现高阻性。 在一定的温度条件下,由本征激发决定的少子浓度是一定的,故少子形成的漂移电流是恒定的,基本上与所加反向电压的大小无关,这个电流也称为。 PN结加正向电压时,呈现低电阻,具有较大的正向扩散电流;PN结加反向电压时,呈现高电阻,具有很小的反向漂移电流。由此可以得出结论:PN结具有单向导电性。 图01.08 PN结加反向电压时的导电情况(动画1-5),如打不开点这儿(压缩后的

23、)PN结的电容效应 PN结具有一定的电容效应,它由两方面的因素决定。一是CB ,二是CD 。 (1) 势垒电容CB 势垒电容是由空间电荷区的离子薄层形成的。当外加电压使PN结上压降发生变化时,离子薄层的厚度也相应地随之改变,这相当PN结中存储的电荷量也随之变化,犹如电容的充放电。势垒电容的示意图见图01.09。 图01.09 势垒电容示意图 (2) 扩散电容CD 扩散电容是由多子扩散后,在PN结的另一侧面积累而形成的。因PN结正偏时,由N区扩散到P区的电子,与外电源提供的空穴相复合,形成正向电流。刚扩散过来的电子就堆积在 P 区内紧靠PN结的附近,形成一定的多子浓度梯度分布。反之,由P区扩散到

24、N区的空穴,在N区内也形成类似的浓度梯度分布曲线。扩散电容的示意图如图01.10所示。 当外加正向电压不同时,扩散电流即外电路电流的大小也就不同。所以PN结两侧堆积的多子的浓度梯度分布也不同,这就相当电容的充放电过程。势垒电容和扩散电容均是非线性电容。PN结的击穿特性:当反向电压增大到一定值时,PN结的反向电流将随反向电压的增加而急剧增 加,这种现象称为PN结的击穿,反向电流急剧增加时所对应的电压称为,如上图所示, PN结的反向击穿有雪崩击穿和齐纳击穿两种。1、雪崩击穿阻挡层中的随内部电场的增强而相应加快到一定程度时,其动能足以把束缚在共价键中的价电子碰撞出来,产生自由电 子空穴对新产生的载流

25、子在强电场作用下,再去碰撞其它中性原子,又产生新的自由电子空穴对,如此连锁反应,使阻挡层中的载流子数量急 剧增加,象雪崩一样。雪崩击穿发生在掺杂浓度较低的PN结中,阻挡层宽,碰撞电离的机会较多,雪崩击穿的击穿电压高。2、齐纳击穿当PN结两边掺杂浓度很高时,阻挡层很薄,不易产生碰撞电离,但当加不大的反向电压时,阻挡层中的电场很强,足以把中性原子中的价电子直接从共价键中拉出来,产生新的自由电子空穴对,这个过程 称为场致激发。 一般击穿电压在6V以下是齐纳击穿,在6V以上是雪崩击穿。3、击穿电压的温度特性 温度升高后,晶格振动加剧,致使载流子运动的平 均自由路程缩短,碰撞前动能减小,必须加大反向电压

26、才能发生雪崩击穿具有正的温度系数,但温度升高,共价键中的价电子能量状态高,从而齐纳击穿电压随温度 升高而降低,具有负的温度系数。6V左右两种击穿将会同时发生,击穿电压的温度系数趋于零。4、稳压二极管PN结一旦击穿后,尽管反向电流急剧变化,但其端电压几 乎不变(近似为V(BR),只要限制它的反向电流,PN结 就不会烧坏,利用这一特性可制成稳压二极管,其电路符号及伏 安特性如上图所示:其主要参数有: VZ 、 Izmin 、 Iz 、 Izmax PN结的电容特性:PN结除具有非线性电阻特性外,还具有非线性电容特性,主要有势垒电容和扩散电容。1、势垒电容势垒区类似平板电容器,其交界两侧存储着数值相

27、等极性相反的离子电荷,电荷量随外加电压而变化,称为势垒电容,用CT表示。 CT = - dQ/dV PN结有突变结和缓变结,现考虑突变结情况(缓变结参见晶体管原 理),PN结相当于平板电容器,虽然外加电场会使势垒区变宽或变窄 但这个变化比较小可以忽略, 则CT=S/L,已知动态平衡下阻挡层的宽度L0,代入上式可得: CT不是恒值,而是随V而变化,利用该特性可制作变容二极管。2、 扩散电容 多子在扩散过程中越过PN结成为另一方的少子, 当PN结处于 平衡状态(无外加电压)时的少子称为平衡少子 可以认为阻挡层以外的区域内平衡少子浓度各处是一样的,当PN结处于正向偏置时,N区的多子自由电子扩散到P区

28、成为 P区的非平衡少子,由于浓度差异还会向P 区深处扩散,距交界面越远,非平衡少子浓度越低,其分布曲线见PN 结的伏 安特性。当外加正向电压增大时,浓度分布曲线上移,两边 非平 衡少子浓度增加即电荷量增加,为了维持电中性,中性区内的非平衡多子浓度也相应增加,这就是说,当外加电压增加时,P区和N区各自存储的空穴和自由电子电 荷量也增加,这种效应相当于在PN结上并联一个电容,由于它是载流子扩散引起的,故称之为扩散电容CD,由半导体物理推导得 CD=( I + Is)p/VT 推导过程参见晶体管原理。 当外加反向电压时 I = Is , CD趋于零。3、 PN结电容PN结的总电容Cj为CT和CD两者

29、之和Cj = CT+CD ,外加正向电 压CD很大, Cj以扩散电容为主(几十pF到几千pF) ,外加反向电压CD趋于零,Cj以势垒电容为主(几pF到几十pF到)。4、变容二极管PN结反偏时,反向电流很小,近似开路,因此是一个主要由势垒电容构成的较理想的电容器件,且其增量电容值随外加电压而变化 利用该特性可制作变容二极管,变容二极管在非线性电路中应用较广泛, 如压控振荡器、频率调制等。pn结的工作原理1.2.1 PN结的形成 在一块本征半导体的两侧通过扩散不同的杂质,分别形成N型半导体和P型半导体。此时将在N型半导体和P型半导体的结合面上形成如下物理过程: 因浓度差 多子的扩散运动由杂质离子形

30、成空间电荷区 空间电荷区形成形成内电场 内电场促使少子漂移 内电场阻止多子扩散 最后,多子的扩散和少子的漂移达到动态平衡。在P型半导体和N型半导体的结合面两侧,留下离子薄层,这个离子薄层形成的空间电荷区称为PN结。PN结的内电场方向由N区指向P区。在空间电荷区,由于缺少多子,所以也称耗尽层。PN结形成的过程可参阅图01.06。图01.06 PN结的形成过程(动画1-3)如打不开点这儿(压缩后的)1.2.2 PN结的单向导电性 PN结具有单向导电性,若外加电压使电流从P区流到N区,PN结呈低阻性,所以电流大;反之是高阻性,电流小。 如果外加电压使: PN结P区的电位高于N区的电位称为加正向电压,

31、简称正偏; PN结P区的电位低于N区的电位称为加反向电压,简称反偏。 (1) PN结加正向电压时的导电情况 PN结加正向电压时的导电情况如图01.07所示。 外加的正向电压有一部分降落在PN结区,方向与PN结内电场方向相反,削弱了内电场。于是,内电场对多子扩散运动的阻碍减弱,扩散电流加大。扩散电流远大于漂移电流,可忽略漂移电流的影响,PN结呈现低阻性。图01.07 PN结加正向电压时的导电情况(动画1-4),如打不开点这儿(压缩后的) (2) PN结加反向电压时的导电情况 PN结加反向电压时的导电情况如图01.08所示。 外加的反向电压有一部分降落在PN结区,方向与PN结内电场方向相同,加强了

32、内电场。内电场对多子扩散运动的阻碍增强,扩散电流大大减小。此时PN结区的少子在内电场作用下形成的漂移电流大于扩散电流,可忽略扩散电流,PN结呈现高阻性。 在一定的温度条件下,由本征激发决定的少子浓度是一定的,故少子形成的漂移电流是恒定的,基本上与所加反向电压的大小无关,这个电流也称为反向饱和电流。 PN结加正向电压时,呈现低电阻,具有较大的正向扩散电流;PN结加反向电压时,呈现高电阻,具有很小的反向漂移电流。由此可以得出结论:PN结具有单向导电性。 图01.08 PN结加反向电压时的导电情况(动画1-5),如打不开点这儿(压缩后的) 1.2.3 PN结的电容效应 PN结具有一定的电容效应,它由

33、两方面的因素决定。一是势垒电容CB ,二是扩散电容CD 。 (1) 势垒电容CB 势垒电容是由空间电荷区的离子薄层形成的。当外加电压使PN结上压降发生变化时,离子薄层的厚度也相应地随之改变,这相当PN结中存储的电荷量也随之变化,犹如电容的充放电。势垒电容的示意图见图01.09。 图01.09 势垒电容示意图 (2) 扩散电容CD 扩散电容是由多子扩散后,在PN结的另一侧面积累而形成的。因PN结正偏时,由N区扩散到P区的电子,与外电源提供的空穴相复合,形成正向电流。刚扩散过 来的电子就堆积在 P 区内紧靠PN结的附近,形成一定的多子浓度梯度分布曲线。反之,由P区扩散到N区的空穴,在N区内也形成类似的浓度梯度分布曲线。扩散电容的示意图如图 01.10所示。 当外加正向电压不同时,扩散电流即外电路电流的大小也就不同。所以PN结两侧堆积的多子的浓度梯度分布也不同,这就相当电容的充放电过程。势垒电容和扩散电容均是非线性电容。专心-专注-专业

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